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1. WO2020116249 - PLASMA PROCESSING DEVICE

Publication Number WO/2020/116249
Publication Date 11.06.2020
International Application No. PCT/JP2019/046222
International Filing Date 26.11.2019
IPC
H05H 1/46 2006.01
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY- CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
CPC
H05H 1/46
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Applicants
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
Inventors
  • 池田 太郎 IKEDA Taro
  • 北原 聡文 KITAHARA Toshifumi
Agents
  • 長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki
  • 黒木 義樹 KUROKI Yoshiki
  • 柏岡 潤二 KASHIOKA Junji
Priority Data
2018-22925506.12.2018JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
Abstract
(EN)
Provided is a plasma processing device which is capable of enhancing in-plane uniformity of plasma. This plasma processing device, which is provided with an upper electrode and a lower electrode disposed opposite to each other in a processing container and generates plasma in the space between the electrodes, is provided with: an impedance conversion unit (insulator block) disposed in a power transmission line of a VHF wave; a transmission unit (VHF waveguide) which allows the VHF wave to propagate to an external side in a radial direction through the impedance conversion unit; an upper dielectric provided in a lower side of the upper electrode; and a VHF introduction unit which is provided at a position in a horizontal end part of the upper dielectric and to which the VHF wave is input from the transmission unit.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de traitement au plasma permettant d'améliorer l'uniformité dans le plan de plasma. Le présent dispositif de traitement au plasma, qui est pourvu d'une électrode supérieure et d'une électrode inférieure disposées à l'opposé l'une de l'autre dans un récipient de traitement et qui génère un plasma dans l'espace séparant les électrodes comprend : une unité de conversion d'impédance (bloc isolant) disposée dans une ligne de transmission de puissance d'une onde VHF ; une unité de transmission (guide d'ondes VHF) qui permet à l'onde VHF de se propager vers un côté externe dans une direction radiale à travers l'unité de conversion d'impédance ; un diélectrique supérieur disposé dans un côté inférieur de l'électrode supérieure ; et une unité d'introduction de VHF qui est disposée à une position d'une partie d'extrémité horizontale du diélectrique supérieur et dans laquelle entre l'onde VHF provenant de l'unité de transmission.
(JA)
プラズマの面内均一性を向上可能なプラズマ処理装置を提供する。このプラズマ処理装置は、処理容器内に対向配置された上部電極及び下部電極を備え、これらの電極間の空間にプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、VHF波の電力伝送路中に配置されたインピーダンス変換部(絶縁体ブロック)と、インピーダンス変換部を介してVHF波を径方向の外側に伝搬させる伝送部(VHF波導波路)と、上部電極の下方に設けられた上部誘電体と、上部誘電体の横方向端部の位置に設けられ、伝送部からのVHF波が入力されるVHF波導入部とを備えている。
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau