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1. WO2020116086 - LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXPOSURE

Publication Number WO/2020/116086
Publication Date 11.06.2020
International Application No. PCT/JP2019/043823
International Filing Date 08.11.2019
IPC
G03F 7/20 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
G02B 6/42 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
24Coupling light guides
42Coupling light guides with opto-electronic elements
H01S 5/40 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
5Semiconductor lasers
40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02-H01S5/30128
CPC
G02B 6/42
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
24Coupling light guides
42Coupling light guides with opto-electronic elements
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
H01S 5/40
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
5Semiconductor lasers
40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
Applicants
  • ウシオ電機株式会社 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
Inventors
  • 林 賢志 HAYASHI,Kenji
  • 三浦 雄一 MIURA,Yuichi
Agents
  • 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE
Priority Data
2018-22849305.12.2018JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXPOSURE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE POUR EXPOSITION
(JA) 露光用光源装置
Abstract
(EN)
Provided is a light source device for exposure that uses a plurality of semiconductor laser light sources and provides light having improved consistency of angle distribution. The light source device for exposure comprises: a plurality of semiconductor laser light sources; a plurality of collimator optical systems that are arranged corresponding to the plurality of semiconductor laser light sources, convert, into substantially parallel light bundles, light bundles emitted from the semiconductor laser light sources, and emit same; a condensing optical system that includes an incidence surface and condenses the light bundles emitted from the collimator optical system, said incidence surface having incident thereto the light bundles emitted from the collimator optical system; and an optical waveguide that includes a round incidence surface and is arranged at a position at which the light bundles emitted from the condensing optical system are condensed. When each of the light bundles on the incidence surface of the condensing optical system, emitted from the semiconductor laser light sources, are rotated about a virtual optical axis of the condensing optical system and lined up in the same radial direction, part of adjacent light bundles overlap and the ratio between the maximum and minimum number of light bundles that belong to a group of light bundles having the same distance from the optical axis of the condensing optical system is less than 2.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de source de lumière pour exposition qui utilise une pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur et qui fournit une lumière ayant une cohérence de distribution d'angle améliorée. Le dispositif de source de lumière pour exposition comprend : une pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur ; une pluralité de systèmes optiques à collimateur qui sont disposés de façon à correspondre à la pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur, qui convertissent des faisceaux de lumière émis par les sources de lumière laser à semi-conducteur en faisceaux de lumière sensiblement parallèles, et qui émettent ces derniers ; un système optique de condensation qui comprend une surface d'incidence et qui condense les faisceaux de lumière émis par le système optique à collimateur, les faisceaux de lumière émis par le système optique à collimateur étant incidents sur ladite surface d'incidence ; et un guide d'ondes optique qui comprend une surface d'incidence ronde et qui est disposé dans une position dans laquelle les faisceaux lumineux émis par le système optique de condensation sont condensés. Lorsque chacun des faisceaux lumineux émis par les sources de lumière laser à semi-conducteur sur la surface d'incidence du système optique de condensation sont tournés autour d'un axe optique virtuel du système optique de condensation et alignés dans la même direction radiale, une partie des faisceaux lumineux adjacents se chevauchent et le rapport entre le nombre maximum et le nombre minimum de faisceaux lumineux qui appartiennent à un groupe de faisceaux lumineux ayant la même distance par rapport à l'axe optique du système optique de condensation est inférieur à 2.
(JA)
複数の半導体レーザ光源を用いて、角度分布の均一性を向上させた光を供給する露光用光源装置を提供する。 複数の半導体レーザ光源と、複数の半導体レーザ光源に対応して配置され、半導体レーザ光源から出射された光線束を略平行の光線束に変換して出射する、複数のコリメート光学系と、コリメート光学系から出射された光線束が入射される入射面を含み、コリメート光学系から出射された光線束を集光する集光光学系と、集光光学系から出射された光線束が集光する位置に配置された、円形状の入射面を含む光導波路とを備え、集光光学系の入射面における、半導体レーザ光源から出射されたそれぞれの光線束は、仮想的に集光光学系の光軸を中心に回転させて、同一の径方向に向かって並べたときに、隣接する光線束の一部が重なり、集光光学系の光軸からの距離が同一である光線束群に属する数の最大値と最小値の比率が2未満である。
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau