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1. WO2020115086 - OPTICAL ELEMENT FOR REFLECTING VUV RADIATION AND OPTICAL ARRANGEMENT

Publication Number WO/2020/115086
Publication Date 11.06.2020
International Application No. PCT/EP2019/083581
International Filing Date 04.12.2019
IPC
G02B 5/08 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
G03F 7/20 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
CPC
G02B 5/0808
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0808having a single reflecting layer
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G03F 7/70
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
Applicants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Inventors
  • PAZIDIS, Alexandra
  • KRENZ, Michael
  • TRAUB, Hariolf
  • HÄRTLING, Marcel
Agents
  • KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB
Priority Data
10 2018 221 191.407.12.2018DE
Publication Language German (DE)
Filing Language German (DE)
Designated States
Title
(DE) OPTISCHES ELEMENT ZUR REFLEXION VON VUV-STRAHLUNG UND OPTISCHE ANORDNUNG
(EN) OPTICAL ELEMENT FOR REFLECTING VUV RADIATION AND OPTICAL ARRANGEMENT
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE DE RÉFLEXION DE RAYONNEMENTS ULTRAVIOLETS DU VIDE ET ENSEMBLE OPTIQUE
Abstract
(DE)
Die Erfindung betrifft ein optisches Element (4) zur Reflexion von Strahlung im VUV-Wellenlängenbereich, umfassend: ein Substrat (41), sowie eine auf das Substrat (41) aufgebrachte reflektierende Beschichtung (42), die mindestens eine Aluminium-Schicht (43) aufweist. Auf die Aluminium-Schicht (43) ist mindestens eine wasserstoffkatalytische Schicht (45) zur Dissoziation von molekularem Wasserstoff (Ha) aufgebracht. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung für den VUV-Wellenlängenbereich, umfassend: einen Innenraum, in dem mindestens ein optisches Element angeordnet ist, sowie mindestens einen Gaseinlass zur Zuführung eines Gases in den Innenraum. Bei einem Aspekt der Erfindung ist das optische Element (4) wie oben beschrieben ausgebildet und der Gaseinlass dient zur Zuführung von Wasserstoff in den Innenraum. Bei einem weiteren Aspekt der Erfindung umfasst die optische Anordnung eine Plasmaerzeugungseinrichtung zum Zuführen eines Plasmagases über den Gaseinlass in den Innenraum zur Erzeugung eines Atmosphärendruck-Plasmas an mindestens einem Teilbereich einer optischen Oberfläche des optischen Elements.
(EN)
The invention relates to an optical element (4) for reflecting radiation in the VUV wavelength range, comprising: a substrate (41), and a reflective coating (42) which is applied to the substrate (41) and has at least one aluminium layer (43). At least one hydrogen-catalytic layer (45) for dissociation of molecular hydrogen (Ha) is applied to the aluminium layer (43). The invention also relates to an optical arrangement for the VUV wavelength range, comprising: an interior, in which at least one optical element is arranged, and at least one gas inlet for feeding a gas into the interior. In an aspect of the invention, the optical element (4) is designed as described above and the gas inlet serves to feed hydrogen into the interior. In another aspect of the invention, the optical arrangement comprises a plasma-generating device for feeding a plasma gas through the gas inlet into the interior to generate an atmospheric-pressure plasma on at least a portion of an optical surface of the optical element.
(FR)
L'invention concerne un élément optique (4) pour assurer la réflexion de rayonnements se situant dans la plage de longueurs d'ondes de l'ultraviolet du vide, ledit élément optique comprenant : un substrat (41) ainsi qu'un revêtement réfléchissant (42) présentant au moins une couche d'aluminium (43), appliqué sur le substrat (41). Au moins une couche à effet catalyseur de production d'hydrogène (45) est appliquée sur la couche d'aluminium (43) pour dissocier l'hydrogène moléculaire (Ha). L'invention concerne également un ensemble optique pour la plage de longueurs d'ondes de l'ultraviolet du vide comprenant : un espace intérieur dans lequel est disposé au moins un élément optique, ainsi qu'au moins une entrée de gaz pour acheminer un gaz dans l'espace intérieur. Selon un aspect de l'invention, l'élément optique (4) se présente tel que décrit ci-dessus et l'entrée de gaz sert à acheminer de l'hydrogène dans l'espace intérieur. Selon un autre aspect de l'invention, l'ensemble optique comprend un dispositif générateur de plasma destiné à acheminer un gaz plasma dans l'espace intérieur par l'intermédiaire de l'entrée de gaz, de manière à générer un plasma à pression atmosphérique sur au moins une zone partielle d'une surface optique de l'élément optique.
Also published as
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