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1. WO2020114379 - FIELD EMISSION ELECTRODE AND PREPARATION METHOD THEREFOR

Publication Number WO/2020/114379
Publication Date 11.06.2020
International Application No. PCT/CN2019/122610
International Filing Date 03.12.2019
IPC
H01J 1/304 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
1Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
02Main electrodes
30Cold cathodes
304Field-emissive cathodes
CPC
B82Y 30/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
30Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
H01J 1/3044
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
1Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
02Main electrodes
30Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
304Field-emissive cathodes
3042microengineered, e.g. Spindt-type
3044Point emitters
H01J 9/025
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
9Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, ; installation, removal, maintenance; of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof
02Manufacture of electrodes or electrode systems
022of cold cathodes
025of field emission cathodes
Applicants
  • 深圳先进技术研究院 SHENZHEN INSTITUTES OF ADVANCED TECHNOLOGY [CN]/[CN]
Inventors
  • 张道书 ZHANG, Daoshu
  • 陈明 CHEN, Ming
  • 洪序达 HONG, Xuda
  • 冯叶 FENG, Ye
  • 钟国华 ZHONG, Guohua
  • 李文杰 LI, Wenjie
  • 杨春雷 YANG, Chunlei
Agents
  • 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 MING & YUE INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM
Priority Data
201811468465.403.12.2018CN
Publication Language Chinese (ZH)
Filing Language Chinese (ZH)
Designated States
Title
(EN) FIELD EMISSION ELECTRODE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) ÉLECTRODE À ÉMISSION DE CHAMP ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
(ZH) 场致发射电极及其制备方法
Abstract
(EN)
Disclosed is a field emission electrode, comprising a substrate and a metal electrode layer formed on the substrate, wherein the metal electrode layer is provided with multiple indium columns arranged in an array, with the top face of each indium column being provided with multiple nanowires. The preparation method for the field emission electrode comprises: S10, providing a substrate, and depositing and forming a metal electrode layer on the substrate; S20, preparing, on the metal electrode layer, a photoresist mask with a hole array; S30, depositing indium material on the photoresist mask, and stripping off the photoresist mask to obtain multiple indium columns arranged in an array; and S40, placing the prepared substrate with the indium columns in a reaction furnace to grow multiple nanowires on the top face of each indium column. The field emission electrode of the present invention has an excellent field emission performance, the preparation process therefor is simple, the nanowires can grow under low temperature and low pressure conditions, and the growth conditions are simple, mild and easy to control, thereby effectively improving the quality of the product and reducing the production cost.
(FR)
L'invention concerne une électrode à émission de champ, comprenant un substrat et une couche d'électrode métallique formée sur le substrat, la couche d'électrode métallique comportant de multiples colonnes d'indium disposées en réseau, la face supérieure de chaque colonne d'indium comportant de multiples nanofils. Le procédé de préparation de l'électrode à émission de champ consiste à : S10, fournir un substrat, et déposer et former une couche d'électrode métallique sur le substrat ; S20, préparer, sur la couche d'électrode métallique, un masque de résine photosensible avec un réseau de trous ; S30, déposer un matériau d'indium sur le masque de résine photosensible, et éliminer le masque de résine photosensible pour obtenir de multiples colonnes d'indium disposées dans un réseau ; et S40, placer le substrat préparé avec les colonnes d'indium dans un four de réaction pour faire croître de multiples nanofils sur la face supérieure de chaque colonne d'indium. L'électrode à émission de champ de la présente invention présente une excellente performance d'émission de champ, son procédé de préparation est simple, les nanofils peuvent croître dans des conditions de basse température et de basse pression, et les conditions de croissance sont simples, douces et faciles à commander, ce qui permet d'améliorer efficacement la qualité du produit et de réduire le coût de production.
(ZH)
本发明公开了一种场致发射电极,包括基底以及形成在基底上的金属电极层,所述金属电极层上设置有呈阵列排布的多个铟柱,每一铟柱的顶面设置有多条纳米线。其制备方法包括步骤:S10、提供基底并基底上沉积形成金属电极层;S20、在金属电极层上制备形成具有孔洞阵列的光刻胶掩膜板;S30、在光刻胶掩膜板上沉积铟材料然后剥离光刻胶掩膜板,获得呈阵列排布的多个铟柱;S40、将制备形成铟柱后的基底置于反应炉中,在每一铟柱的顶面上生长形成多条纳米线。本发明中的场致发射电极具有优异的场发射性能,其制备工艺简单,纳米线的生长可以在低温低压的条件下进行,生长条件简单温和、易于控制,能够有效地提高产品的品质并降低生产成本。
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau