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1. WO2020112108 - RETUNING FOR IMPEDANCE MATCHING NETWORK CONTROL

Publication Number WO/2020/112108
Publication Date 04.06.2020
International Application No. PCT/US2018/062951
International Filing Date 29.11.2018
IPC
H01J 37/32 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes
H03H 7/40 2006.01
HELECTRICITY
03BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
7Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
38Impedance-matching networks
40Automatic matching of load impedance to source impedance
CPC
H01J 37/32192
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32192Microwave generated discharge
H03H 7/40
HELECTRICITY
03BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
7Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
38Impedance-matching networks
40Automatic matching of load impedance to source impedance
Applicants
  • COMET TECHNOLOGIES USA, INC. [US]/[US]
Inventors
  • OUYANG, Liang
  • CATALAN, Daniel
  • OLIVETI, Anthony
Agents
  • NOLTE, N., Alexander
  • FRANTZ, Jeffrey, D.
Priority Data
62/592,31929.11.2017US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) RETUNING FOR IMPEDANCE MATCHING NETWORK CONTROL
(FR) REFAIRE L'ACCORD POUR COMMANDE DE RÉSEAU D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE
Abstract
(EN)
A physical vapor deposition system may include an RF generator configured to transmit an AC process signal to a physical vapor deposition chamber via an RF matching network. A controller of the RF matching network is configured to receive the DC magnitude and phase error signals and to vary an impedance of the RF matching network in response to the DC magnitude and phase error signals. The matching network operates in a first mode until a tuning dead-zone is determined. Once a tuning dead-zone is determined, the matching network operates in additional modes until the network is tuned. The controller uses a composite value of magnitude and phase error to drive of the variable tuning and load capacitors.
(FR)
Un système de dépôt physique en phase vapeur peut comprendre un générateur RF conçu pour transmettre un signal de traitement à courant alternatif (CA) à une chambre de dépôt physique en phase vapeur via un réseau d'adaptation RF. Un dispositif de commande du réseau d'adaptation RF est conçu pour recevoir les signaux à courant continu (CC) d'amplitude et d'erreur de phase et pour faire varier une impédance du réseau d'adaptation RF en réponse aux signaux CC d'amplitude et d'erreur de phase. Le réseau d'adaptation fonctionne dans un premier mode jusqu'à ce qu'une zone aveugle d'accord soit déterminée. Une fois qu'une zone aveugle d'accord est déterminée, le réseau d'adaptation fonctionne dans des modes additionnels jusqu'à ce que le réseau soit accordé. Le dispositif de commande utilise une valeur composite d'amplitude et d'erreur de phase pour exciter les condensateurs d'accord et de charge variables.
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