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1. WO2020108926 - OPTICAL ILLUMINATION SYSTEM FOR PROJECTION LITHOGRAPHY

Note: Text based on automatic Optical Character Recognition processes. Please use the PDF version for legal matters

[ DE ]

Ansprüche

1. Optisches Beleuchtungssystem (23) für Projektionslithographie zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfelds, in welchem ein Objektfeld (18) eines nachfolgenden optischen Abbildungssystems (19) angeordnet werden kann,

mit einem Pupillenfacettenspiegel (10), der mehrere Pupillenfacetten (11) aufweist, wobei jede Pupillenfacette (11) designt ist zum Führen eines Beleuchtungslichtteilbündels (24i),

wobei

für mindestens einige der Pupillenfacetten (11), welche als selektiv

reflektierende Facetten designt sind, Folgendes gilt:

— die selektiv reflektierende Pupillenfacette (1 1) weist eine reflektierende Beschichtung (27) für das Beleuchtungslicht (3) auf

— wobei ein erstes Beschichtungsgebiet (271) auf einem ersten Teil der selektiv reflektierenden Pupillenfacette (11) eine erste Reflektivität (Ri) aufweist,

— wobei ein zweites Beschichtungsgebiet (272) auf einem zweiten Teil der selektiv reflektierenden Pupillenfacette (11) eine zweite Reflektivität (R2) aufweist,

— wobei sich das erste Beschichtungsgebiet (271) von dem zweiten

Beschichtungsgebiet (272) unterscheidet,

— wobei sich die erste Reflektivität (Ri) von der zweiten Reflektivität (R2) unterscheidet

und/oder

für mindestens einige der Pupillenfacetten (11), welche als breitbandig reflektierende Pupillenfacetten designt sind, Folgendes gilt:

— die breitbandigen Pupillenfacetten (11) weisen eine breitbandig

reflektierende Beschichtung (28) für das Beleuchtungslicht (3) auf.

2. Optisches Beleuchtungssystem nach Anspruch 1,

wobei ein drittes Beschichtungsgebiet (273) auf einem dritten Teil der selektiv reflektierenden Pupillenfacette (11) eine weitere Reflektivität (R3) aufweist, wobei sich das dritte Beschichtungsgebiet (273) von dem ersten und dem zweiten Beschichtungsgebiet (271, 272) unterscheidet

wobei sich die weitere Reflektivität (R3) von der zweiten Reflektivität (R2) unterscheidet.

3. Optisches Beleuchtungssystem nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Reflektivitäten von zwei angrenzenden der verschiedenen Beschichtungsgebiete (27i, 272; 272, 273) kontinuierlich ineinanderlaufen.

4. Optisches Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die

Pupillenfacetten (11) des Pupillenfacettenspiegels (10) so angeordnet sind, dass ein Bild der Lichtquelle an einem Bildort entsteht, welcher sich entlang des Beleuchtungskanals unter einem Abstand von der Pupillenfacette befindet.

5. Optisches Beleuchtungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das optische Beleuchtungssystem (23) ferner einen Feldfacettenspiegel (6) aufweist, wobei die Feldfacetten (7) des Feldfacettenspiegels (6) unter einem Beitrag der Pupillenfacetten (11) des Pupillenfacettenspiegels (10) überlagernd auf das Beleuchtungsfeld abgebildet werden.

6. Beleuchtungssystem mit einem optischen Beleuchtungssystem (23) nach einem der Ansprüche 1 bis 5 und mit einem optischen Abbildungssystem (19) zum Abbilden des Objektfelds (18) auf ein Bildfeld (20).

7. Projektionsbelichtungssystem (1) mit einem Beleuchtungssystem nach Anspruch 6 und mit einer Beleuchtungslichtquelle (2).

8. Verfahren zum Produzieren von strukturierten Komponenten, die folgenden Schritte aufweisend:

Bereitstellen eines Wafers (22), auf welchem zumindest teilweise eine Schicht aus lichtempfindlichem Material aufgetragen ist,

Bereitstellen eines Retikels (17), welches Strukturen aufweist, die abgebildet werden sollen,

Bereitstellen eines Projektionsbelichtungssystems (1) nach Anspruch 7, Projizieren zumindest eines Teils des Retikels (17) auf eine Region der Schicht des Wafers (22) mit der Hilfe des Projektionsbelichtungssystems (1).

9. Strukturierte Komponente, produziert mittels eines Verfahrens nach Anspruch 8.