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1. WO2020108926 - OPTICAL ILLUMINATION SYSTEM FOR PROJECTION LITHOGRAPHY

Publication Number WO/2020/108926
Publication Date 04.06.2020
International Application No. PCT/EP2019/080203
International Filing Date 05.11.2019
IPC
G03F 7/20 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
G02B 5/08 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
CPC
G02B 5/0891
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
0891Ultraviolet [UV] mirrors
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
G03F 7/70091
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane, angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole, quadrupole; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
Applicants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Inventors
  • GANG, Tian
  • VAN SCHOOT, Jan
Agents
  • RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB
Priority Data
10 2018 220 625.229.11.2018DE
Publication Language German (DE)
Filing Language German (DE)
Designated States
Title
(DE) OPTISCHES BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR PROJEKTIONSLITHOGRAPHIE
(EN) OPTICAL ILLUMINATION SYSTEM FOR PROJECTION LITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE OPTIQUE POUR LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION
Abstract
(DE)
Ein optisches Beleuchtungssystem für Projektionslithographie wird zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfelds verwendet, in welchem ein Objektfeld eines nachfolgenden optischen Abbildungssystems angeordnet sein kann. Ein Pupillenfacettenspiegel des optischen Beleuchtungssystems weist mehrere Pupillenfacetten (11) auf. Jede Pupillenfacette (11) ist designt zum Führen eines Beleuchtungslichtteilbündels (24i). Für mindestens einige der Pupillenfacetten (11), welche als selektiv reflektierende Pupillenfacetten designt sind, gilt das Folgende: Die selektiv reflektierende Pupillenfacette (11) weist eine reflektierende Beschichtung (27) für das Beleuchtungslicht auf. Ein erstes Beschichtungsgebiet (271) auf einem ersten Teil der selektiv reflektierenden Pupillenfacette (11) weist eine erste Reflektivität auf. Ein zweites Beschichtungsgebiet (272) auf einem zweiten Teil der selektiv reflektierenden Pupillenfacette (11) weist eine zweite Reflektivität auf. Das erste Beschichtungsgebiet (271) unterscheidet sich von dem zweiten Beschichtungsgebiet (272). Die erste Reflektivität unterscheidet sich von der zweiten Reflektivität. In Kombination oder als eine Alternative gilt für mindestens einige der Pupillenfacetten, welche als breitbandig reflektierende Pupillenfacetten designt sind, das Folgende: Die breitbandig reflektierenden Facetten weisen eine breitbandig reflektierende Beschichtung für das Beleuchtungslicht auf. Das Ergebnis ist ein optisches Beleuchtungssystem, in welchem einerseits eine gewünschte Kombination von hohem Beleuchtungslichtdurchsatz und andererseits gleichförmige Beleuchtung des Beleuchtungsfelds erreicht werden.
(EN)
An optical illumination system for projection lithography is used for illuminating an illumination field in which an object field of a downstream optical imaging system can be arranged. A pupil facet mirror of the optical illumination system has a plurality of pupil facets (11). Each pupil facet (11) is designed to guide a partial beam (24i) of illumination light. For at least some of the pupil facets (11) designed as selectively reflective pupil facets, the following holds true: The selectively reflective pupil facet (11) has a reflective coating (27) for the illumination light. A first coating region (271) on a first part of the selectively reflective pupil facet (11) has a first reflectivity. A second coating region (272) on a second part of the selectively reflective pupil facet (11) has a second reflectivity. The first coating region (271) differs from the second coating region (272). The first reflectivity differs from the second reflectivity. In combination or as an alternative, for at least some of the pupil facets designed as pupil facets with broadband reflectivity, the following holds true: The facets with broadband reflectivity have a coating with broadband reflectivity for the illumination light. The result is an optical illumination system in which, firstly, a desired combination of high illumination light throughput and, secondly, uniform illumination of the illumination field are achieved.
(FR)
L'invention concerne un système d'éclairage optique pour lithographie par projection, qui est employé pour éclairer un champ d'éclairage, dans lequel peut être disposé un champ d'objet d'un système de reproduction optique suivant. Un miroir à facettes de pupille du système d'éclairage optique comprend plusieurs facettes de pupille (11). Chaque facette de pupille (11) est conçue pour guider un faisceau de lumière d'éclairage (24i). Pour au moins certaines des facettes de pupille (11), qui sont conçues en tant que facettes de pupille réfléchissantes de manière sélective, s'applique ce qui suit : la facette de pupille (11) réfléchissante de manière sélective comprend un revêtement réfléchissant (27) pour la lumière d'éclairage. Une première zone de revêtement (271) sur une première partie de la facette de pupille (11) réfléchissante de manière sélective présente une première réflectivité. Une seconde zone de revêtement (272) sur une seconde partie de la facette de pupille (11) réfléchissante de manière sélective présente une seconde réflectivité. La première zone de revêtement (271) se différencie de la seconde zone de revêtement (272). La première réflectivité se différencie de la seconde réflectivité. En combinaison ou en variante s'applique pour au moins certaines des facettes de pupille, qui sont conçues en tant que facettes de pupille réfléchissantes à large bande, ce qui suit : les facettes de pupille réfléchissantes à large bande comprennent un revêtement réfléchissant à large bande pour la lumière d'éclairage. Le résultat est un système d'éclairage optique dans lequel est obtenue une combinaison souhaitée d'une part, d'une capacité élevée de transmission de lumière d'éclairage et, d'autre part, d'un éclairage uniforme du champ d'éclairage.
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