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1. WO2020096771 - DEPTH-MODULATED SLANTED GRATINGS USING GRAY-TONE LITHOGRAPHY AND SLANT ETCH

Publication Number WO/2020/096771
Publication Date 14.05.2020
International Application No. PCT/US2019/057517
International Filing Date 23.10.2019
IPC
H01P 11/00 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
11Apparatus or processes specially adapted for manufacturing waveguides or resonators, lines, or other devices of the waveguide type
H01P 3/00 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
3Waveguides; Transmission lines of the waveguide type
G03F 7/00 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
Applicants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US]/[US]
Inventors
  • MEYER TIMMERMAN THIJSSEN, Rutger
  • GODET, Ludovic
Agents
  • DOUGHERTY, Chad M.
  • VER STEEG, Steven H.
Priority Data
62/756,98807.11.2018US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) DEPTH-MODULATED SLANTED GRATINGS USING GRAY-TONE LITHOGRAPHY AND SLANT ETCH
(FR) RÉSEAUX INCLINÉS À MODULATION DE PROFONDEUR UTILISANT UNE LITHOGRAPHIE À TONS DE GRIS ET UNE GRAVURE OBLIQUE
Abstract
(EN)
An apparatus with a grating structure and a method for forming the same are disclosed. The grating structure includes forming a wedge-shaped structure in a grating layer using a grayscale resist and photo lithography. A plurality of channels is formed in the grating layer to define slanted grating structures therein. The wedge-shaped structure and the slanted grating structures are formed using a selective etch process.
(FR)
L'invention concerne un appareil doté d'une structure de réseau et un procédé de formation de celui-ci. La structure de réseau comprend la formation d'une structure en forme de coin dans une couche de réseau à l'aide d'une réserve en niveaux de gris et d'une photolithographie. Une pluralité de canaux est formée dans la couche de réseau pour définir des structures de réseau inclinées à l'intérieur de celle-ci. La structure en forme de coin et les structures de réseau inclinées sont formés à l'aide d'un procédé de gravure sélective.
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