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1. WO2020096723 - RADIO FREQUENCY FILTER SYSTEM FOR A PROCESSING CHAMBER

Publication Number WO/2020/096723
Publication Date 14.05.2020
International Application No. PCT/US2019/055314
International Filing Date 09.10.2019
IPC
H03H 7/01 2006.01
HELECTRICITY
03BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
7Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
01Frequency selective two-port networks
H03H 1/00 2006.01
HELECTRICITY
03BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
1Constructional details of impedance networks whose electrical mode of operation is not specified or applicable to more than one type of network
H01J 37/32 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes
Applicants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US]/[US]
Inventors
  • NGUYEN, Andrew
  • CHAFIN, Michael G.
  • LIU, Lu
  • RAYAROTH, Anilkumar
Agents
  • PATTERSON, B. Todd
  • TABOADA, Keith
Priority Data
62/758,36209.11.2018US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) RADIO FREQUENCY FILTER SYSTEM FOR A PROCESSING CHAMBER
(FR) SYSTÈME DE FILTRE RADIOFRÉQUENCE POUR UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT
Abstract
(EN)
A radio frequency (RF) filter system for a substrate processing chamber comprises a first RF filter coupled to a first element of the processing chamber and a second RF filter coupled to the first element of the processing chamber. Each of the RF filters comprises a first filter stage configured to reject a first frequency, a second filter stage coupled to the first filter stage and configured to reject a second frequency, and a third filter stage coupled to the second filter stage and configured to reject the first frequency. Further, the first filter stage comprises a first inductor and a first capacitance, the second filter stage comprises a second inductor and a second capacitance, the third filter stage comprises a third inductor and a third capacitance.
(FR)
La présente invention concerne un système de filtre radiofréquence (RF) pour une chambre de traitement de substrat comprenant un premier filtre RF couplé à un premier élément de la chambre de traitement et un second filtre RF couplé au premier élément de la chambre de traitement. Chacun des filtres RF comprend un premier étage de filtre conçu pour rejeter une première fréquence, un deuxième étage de filtre couplé au premier étage de filtre et conçu pour rejeter une deuxième fréquence, et un troisième étage de filtre couplé au deuxième étage de filtre et conçu pour rejeter la première fréquence. En outre, le premier étage de filtre comprend une première bobine d'induction et une première capacité, le deuxième étage de filtre comprend une deuxième bobine d'induction et un deuxième condensateur, le troisième étage de filtre comprend une troisième bobine d'induction et un troisième condensateur.
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