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1. WO2020090791 - METHOD FOR PRODUCING SPOT-SIZE CONVERTER AND SPOT-SIZE CONVERTER

Publication Number WO/2020/090791
Publication Date 07.05.2020
International Application No. PCT/JP2019/042301
International Filing Date 29.10.2019
IPC
G02B 6/122 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
Applicants
  • 日本電信電話株式会社 NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION [JP]/[JP]
Inventors
  • 上田 悠太 UEDA Yuta
  • 布谷 伸浩 NUNOYA Nobuhiro
Agents
  • 特許業務法人 谷・阿部特許事務所 TANI & ABE, P.C.
Priority Data
2018-20676601.11.2018JP
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) METHOD FOR PRODUCING SPOT-SIZE CONVERTER AND SPOT-SIZE CONVERTER
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CONVERTISSEUR DE DIAMÈTRE DE SPOT ET CONVERTISSEUR DE DIAMÈTRE DE SPOT
(JA) スポットサイズ変換器の作製方法およびスポットサイズ変換器
Abstract
(EN)
Provided is a method for producing a spot-size converter (SSC) that can be implemented easily. The method for producing a spot-size converter comprises: film material etching steps of sequentially forming a plurality of mask patterns 50 with an opening that becomes sequentially smaller on the two or more film material layer 3, 4-side of a multilayer substrate 10 formed by sequentially laminating a core layer 2 and two or more film material layers 3, 4 on a substrate 1, and sequentially etching the two or more film material layers 3, 4 from the outermost layer in accordance with each of the plurality of mask patterns 50, thereby etching the two or more film material layers 3, 4 in a staircase pattern; and core layer etching steps of forming, on the two or more film material layer 3, 4-side, a mask pattern 50 for a core that has an opening overlapping openings in all of the plurality of mask patterns 50 that become sequentially smaller and having the largest area, and performing dry etching in accordance with the mask pattern 50 for a core, thereby forming a core layer 2 that has a difference in levels in the thickness direction of the substrate.
(FR)
L'invention concerne un procédé de production d'un convertisseur de diamètre de spot (SSC) pouvant facilement être mis en œuvre. Le procédé de production d'un convertisseur de diamètre de spot comprend : des étapes de gravure de matériau en film consistant à former séquentiellement une pluralité de motifs de masque (50) avec une ouverture qui devient séquentiellement plus petite sur le côté des deux couches de matériau en film ou plus (3, 4) d'un substrat multicouche (10) formé par stratification séquentielle d'une couche de cœur (2) et de deux couches de matériau en film ou plus (3, 4) sur un substrat (1), et à graver séquentiellement les deux couches de matériau en film ou plus (3, 4) à partir de la couche la plus à l'extérieur suivant chaque motif de la pluralité de motifs de masque (50), ce qui permet de graver les deux couches de matériau en film ou plus (3, 4) selon un motif en escalier ; et des étapes de gravure de couche de cœur consistant à former, sur le côté des deux couches de matériau en film ou plus (3, 4), un motif de masque (50) destiné à un cœur qui comporte une ouverture chevauchant des ouvertures dans l'ensemble de la pluralité de motifs de masque (50) qui deviennent séquentiellement plus petites et présentant la plus grande surface, et à réaliser une gravure au plasma suivant le motif de masque (50) d'un cœur, ce qui permet de former une couche de cœur (2) qui présente une différence de niveaux dans le sens de l'épaisseur du substrat.
(JA)
簡易な作製方法で実現できるスポットサイズ変換器(spot-size converter: SSC)の作製方法を提供すること。基板1上にコア層2と2層以上の材料膜層3、4とが順次積層された積層基板10に対して、前記2層以上の材料膜層3、4側に、順次開口部が小さくなる複数のマスクパターン50を順次形成し、該複数のマスクパターン50のそれぞれに従って前記2層以上の材料膜層3、4を最外層から順次エッチングして、前記2層以上の材料膜層3、4を階段状にエッチングする材料膜エッチング工程と、前記順次開口部が小さくなる複数のマスクパターン50の全てのマスクパターン50の開口部とも重なるとともにその面積が最も大きい開口部を有するコア用のマスクパターン50を前記2層以上の材料膜層3、4側に形成し、該コア用のマスクパターン50に従って、ドライエッチングして、前記基板の厚さ方向において段差を有するコア層2を形成するコア層エッチング工程とを含む、スポットサイズ変換器の作製方法。
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