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1. WO2020088394 - RETICLE RETAINING SYSTEM

Publication Number WO/2020/088394
Publication Date 07.05.2020
International Application No. PCT/CN2019/113628
International Filing Date 28.10.2019
IPC
G03F 7/20 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
G02B 27/00 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/-G02B26/119
Applicants
  • GUDENG PRECISION INDUSTRIAL CO., LTD [CN]/[CN]
Inventors
  • LIN, Shuhung
  • CHUANG, Chiaho
  • CHIU, Mingchien
  • HSUEH, Hsinmin
Agents
  • SHENZHEN SCIENBIZIP INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY CO.,LTD.
Priority Data
62/751,73629.10.2018US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) RETICLE RETAINING SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE RETENUE DE RÉTICULE
Abstract
(EN)
A reticle retaining system comprises an inner pod (2) and an outer pod (1). The inner pod (2) is configured to receive a reticle (R 1) that includes a first identification feature (I 1). The inner pod (2) comprises an inner base (22) having a reticle accommodating region (22a) generally at a geometric center thereof and surrounded by a periphery region (22b), and an inner cover (21) configured to establish sealing engagement with the inner base (22) The inner base (22) has a first observable zone (Z 11) defined in the reticle accommodating region (22a) correspondingly arranged to allow observation of the first identification feature (I 1). The outer pod (1)is configured to receive the inner base (22). The outer pod (1) comprises an outer base (12) having a second observable zone (Z 12) defined thereon observably aligned to the first observable zone (Z 11) of the inner pod (2) upon receiving the inner pod (2), and an outer cover (11) configured to engage the outer base (12) and cover the inner pod (2).
(FR)
La présente invention concerne un système de retenue de réticule qui comprend une nacelle interne (2) et une nacelle externe (1). La nacelle interne (2) est conçue pour recevoir un réticule (R1) qui comprend une première caractéristique d'identification (I 1). La nacelle interne (2) comprend une base interne (22) ayant une région de réception de réticule (22a) généralement située au centre géométrique de celle-ci et entourée par une région périphérique (22b), et un couvercle interne (21) conçu pour établir une prise d'étanchéité avec la base interne (22). La base interne (22) possède une première zone observable (Z 11) définie dans la région de réception de réticule (22a) disposée de la sorte de façon à permettre l'observation de la première caractéristique d'identification (I 1). La nacelle externe (1) est conçue pour recevoir la base interne (22). La nacelle externe (1) comprend une base externe (12) sur laquelle est définie une seconde zone observable (Z 12) alignée de manière observable à la première zone observable (Z 11) de la nacelle interne (2) lors de la réception de la capsule interne (2), et un couvercle externe (11) conçu pour venir en prise avec la base externe (12) et recouvrir la nacelle interne (2).
Also published as
KR1020207006213
KRKR1020207006213
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