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1. WO2020087721 - CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING SOLUTION FOR SILICON CARBIDE HAVING INCREASED PH STABILITY, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND USE THEREOF

Publication Number WO/2020/087721
Publication Date 07.05.2020
International Application No. PCT/CN2018/123714
International Filing Date 26.12.2018
IPC
C09G 1/02 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GPOLISHING COMPOSITIONS OTHER THAN FRENCH POLISH; SKI WAXES
1Polishing compositions
02containing abrasives or grinding agents
Applicants
  • 山东天岳先进材料科技有限公司 SICC CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventors
  • 窦文涛 DOU, Wentao
  • 宗艳民 ZONG, Yanmin
  • 梁庆瑞 LIANG, Qingrui
  • 王含冠 WANG, Hanguan
Agents
  • 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) BEIJING JUNHUI INTELLECTUAL PROPERTY AGENT OFFICE (ORDINARY PARTNERSHIP)
Priority Data
201811303460.602.11.2018CN
201811303464.402.11.2018CN
Publication Language Chinese (ZH)
Filing Language Chinese (ZH)
Designated States
Title
(EN) CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING SOLUTION FOR SILICON CARBIDE HAVING INCREASED PH STABILITY, PREPARATION METHOD THEREFOR, AND USE THEREOF
(FR) SOLUTION DE POLISSAGE MÉCANO-CHIMIQUE POUR CARBURE DE SILICIUM PRÉSENTANT UNE STABILITÉ ACCRUE DU PH, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION, ET SON UTILISATION
(ZH) pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液及制备方法和应用
Abstract
(EN)
The present application provides a chemical-mechanical polishing solution for silicon carbide having increased pH stability. The polishing solution comprises: an oxidant, a high hardness abrasive and a pH stabilizer, the pH stabilizer being aluminum nitrate. The polishing solution of the present application can maintain good pH stability during the process of chemical-mechanical polishing. The polishing solution also has stable and even dispersion. In the present application, aluminum nitrate is added as the pH stabilizer of the polishing solution, such that the polishing solution has a higher pH stability during the process of chemical-mechanical polishing, and is less prone to hard agglomeration. The polishing solution does not pollute to the environment and can be used in a curricular supply chain.
(FR)
La présente invention concerne une solution de polissage mécano-chimique pour le carbure de silicium ayant une stabilité accrue du pH. La solution de polissage comprend : un agent oxydant, un agent abrasif de haute dureté et un agent de stabilisation du pH, l’agent de stabilisation du pH étant le nitrate d’aluminium. La solution de polissage de la présente invention peut maintenir une bonne stabilité du pH durant le procédé de polissage mécano-chimique. La solution de polissage présente également une dispersion stable et uniforme. Dans la présente invention, du nitrate d’aluminium est ajouté comme agent de stabilisation du pH de la solution de polissage, de sorte que la solution de polissage présente une stabilité supérieure du pH durant le procédé de polissage mécano-chimique, et est moins sujette à l’agglomération dure. La solution de polissage ne pollue pas l’environnement et peut être utilisée dans une chaîne d’approvisionnement par secteur.
(ZH)
本申请提出了一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液,所述抛光液包括:氧化剂、高硬度磨料和pH稳定剂,所述pH稳定剂为硝酸铝。本申请的抛光液在进行化学机械抛光过程能很好的保持pH值的稳定性,并且抛光液的分散稳定性好且分散均匀。本申请由于在抛光液中加入了pH值稳定剂硝酸铝,使得该抛光液在进行化学机械抛光过程中的pH值稳定性更强,并且抛光液不容易发生硬团聚。本申请的抛光液对环境无污染,可以采用循环供料的方式使用。
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