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1. WO2020069793 - DEVICE AND METHOD FOR MEASURING THE BEAM ANGLE OF A LIGHT BEAM GUIDED BY A BEAM GUIDING OPTICAL UNIT

Publication Number WO/2020/069793
Publication Date 09.04.2020
International Application No. PCT/EP2019/071811
International Filing Date 14.08.2019
IPC
G02B 27/64 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/-G02B26/119
64Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image
H05G 2/00 2006.01
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
CPC
G01J 1/00
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
1Photometry, e.g. photographic exposure meter
G02B 27/64
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
64Imaging systems using optical elements for stabilisation of the lateral and angular position of the image
G03F 7/70008
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Applicants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE] (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
  • BAUMER, Florian [DE]/[DE] (US)
  • MANGER, Matthias [DE]/[DE] (US)
Inventors
  • BAUMER, Florian
  • MANGER, Matthias
Agents
  • FRANK, Hartmut
Priority Data
10 2018 124 342.102.10.2018DE
Publication Language German (DE)
Filing Language German (DE)
Designated States
Title
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR STRAHLWINKELMESSUNG EINES VON EINER STRAHLFÜHRUNGSOPTIK GEFÜHRTEN LICHTSTRAHLS
(EN) DEVICE AND METHOD FOR MEASURING THE BEAM ANGLE OF A LIGHT BEAM GUIDED BY A BEAM GUIDING OPTICAL UNIT
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE MESURE D'ANGLE D'UN RAYON LUMINEUX GUIDÉ PAR UNE OPTIQUE DE GUIDAGE DE RAYON
Abstract
(DE)
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Strahlwinkelmessung eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine Lichtintensitätssensor-Anordnung (20, 30, 40, 50, 60), eine Fokussiereinheit (21, 31, 41) zum Fokussieren des Lichtstrahls auf einen vorgegebenen Ort auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung und eine Nachführeinheit (22, 32, 42) auf, welche bei Änderung des bei Eintritt in die Vorrichtung vorliegenden Strahlwinkels eine Relativposition des Intensitätsschwerpunkts des Lichtstrahls in Bezug auf einen vorgegebenen Ort auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung nachführt, wobei die Nachführeinheit (22, 32, 42) dazu konfiguriert ist, die Relativposition des Intensitätsschwerpunkts des Lichtstrahls in Bezug auf den vorgegebenen Ort auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung (20, 30, 40, 50, 60) bis auf eine vorgegebene maximale Abweichung konstant zu halten, und wobei diese maximale Abweichung der Hälfte des mittleren Strahldurchmessers beim Auftreffen auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung (20, 30, 40, 50, 60) entspricht.
(EN)
The invention relates to a device and to a method for measuring the beam angle of a light beam guided by a beam guiding optical unit. A device according to the invention comprises a light intensity sensor arrangement (20, 30, 40, 50, 60), a focusing unit (21, 31, 41) for focusing the light beam onto a predetermined location on the light intensity sensor arrangement, and a tracking unit (22, 32, 42), which, in the event of a change in the beam angle present upon entry into the device, tracks a relative position of the intensity center of gravity of the light beam with respect to a predetermined location on the light intensity sensor arrangement. The tracking unit (22, 32, 42) is configured to keep the relative position of the intensity center of gravity of the light beam constant with respect to the predetermined location on the light intensity sensor arrangement (20, 30, 40, 50, 60) to a predetermined maximum deviation, wherein said maximum deviation corresponds to half of the mean beam diameter when impinging on the light intensity sensor arrangement (20, 30, 40, 50, 60).
(FR)
L'invention concerne un dispositif et un procédé de mesure d'angle d'un rayon lumineux guidé par une optique de guidage de rayon. Le dispositif selon l'invention comprend un arrangement de détection d'intensité lumineuse (20, 30, 40, 50, 60), une unité de focalisation (21, 31, 41) destinée à focaliser le rayon lumineux à un emplacement prédéterminé sur l'arrangement de détection d'intensité lumineuse et une unité de poursuite (22, 32, 42) qui, lors d'une modification de l'angle du rayon présent au niveau de l'entrée dans le dispositif, poursuit une position relative du barycentre de l'intensité du rayon lumineux par rapport à un emplacement prédéterminé sur l'arrangement de détection d'intensité lumineuse. L'unité de poursuite (22, 32, 42) est configurée pour maintenir constante la position relative du barycentre d'intensité du rayon lumineux par rapport à l'emplacement prédéterminé sur l'arrangement de détection d'intensité lumineuse (20, 30, 40, 50, 60) jusqu'à un écart maximal prédéterminé, et cet écart maximal correspond à la moitié du diamètre moyen du rayon lors de l'impact sur l'arrangement de détection d'intensité lumineuse (20, 30, 40, 50, 60).
Also published as
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