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1. WO2020064721 - SUPPORTING AN OPTICAL ELEMENT

Publication Number WO/2020/064721
Publication Date 02.04.2020
International Application No. PCT/EP2019/075695
International Filing Date 24.09.2019
IPC
G02B 7/02 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
02for lenses
G02B 7/182 2006.01
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
18for prisms; for mirrors
182for mirrors
G03F 7/20 2006.01
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
CPC
G02B 7/023
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
02for lenses
023permitting adjustment
G02B 7/1827
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
7Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
18for prisms; for mirrors
182for mirrors
1822comprising means for aligning the optical axis
1827Motorised alignment
G03F 7/70258
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70258Projection system adjustment, alignment during assembly of projection system
G03F 7/70825
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
G03F 7/7085
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
Applicants
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Inventors
  • KUGLER, Jens
  • GEUPPERT, Bernhard
  • KHARITONOV, Alexander
Agents
  • COHAUSZ & FLORACK PATENT- UND RECHTSANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB
Priority Data
10 2018 216 344.825.09.2018DE
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) SUPPORTING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) SUPPORT D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE
Abstract
(EN)
The present invention relates to an optical arrangement for use in an optical imaging device, in particular for microlithography, comprising an optical element unit (108) and a detection device (112) and/or an actuating device (110), wherein the optical element unit (108) comprises at least one optical element (108.1 ). The detection device (112) is configured to determine in a plurality of M degrees of freedom in each case a detection value which is representative of a relative position or orientation of an element reference of the optical element (108.1 ) in relation to a primary reference of the detection device (112) in the respective degree of freedom, wherein the detection device (112) comprises a plurality of N detection units (112.1), each of which is configured to output a detection signal which is representative of a distance and/or a displacement of the detection unit (112.1 ) in relation to a secondary reference (112.2) assigned to the optical element (108.1 ) and the respective detection unit (112.1 ), and the optical element unit (108) and the detection device (112) define a detection transformation matrix which is representative of the transformation of the N detection signals into the M detection values. Additionally or alternatively, the actuating device (110) is configured to set in a plurality of R degrees of freedom in each case a situation value which is representative of a relative position or orientation of an element reference of the optical element in relation to a primary reference of the actuating device (110) in the respective degree of freedom, wherein the actuating device (110) comprises a plurality of S actuating units (110.1 ), each of which is configured to generate an actuating state at an interface of the actuating unit (110.1 ) with respect to the optical element unit (108), and the optical element unit (108) and the actuating device (110) define an actuating transformation matrix which is representative of the transformation of the S actuating states into the R situation values. In this case, the condition number of a transformation matrix is defined by the ratio of the largest singular value of the transformation matrix to the smallest singular value of the transformation matrix, the detection device (112) and/or the optical element unit (108) is configured in such a way that the condition number of the detection transformation matrix is 5 to 30, in particular is 5 to 20, more preferably is 8 to 15. Additionally or alternatively, the actuating device (110) and/or the optical element unit (108) is configured in such a way that the condition number of the actuating transformation matrix is 5 to 30, in particular is 5 to 20, more preferably is 8 to 15.
(FR)
La présente invention concerne un agencement optique destiné à être utilisé dans un dispositif d'imagerie optique, en particulier pour la microlithographie, comprenant une unité d'élément optique (108) et un dispositif de détection (112) et/ou un dispositif d'actionnement (110), l'unité d'élément optique (108) comprenant au moins un élément optique (108.1). Le dispositif de détection (112) est configuré pour, dans une pluralité de M degrés de liberté, déterminer dans chaque cas une valeur de détection qui est représentative d'une position ou d'une orientation relative d'une référence d'élément de l'élément optique (108.1) par rapport à une référence primaire du dispositif de détection (112) dans le degré de liberté respectif, le dispositif de détection (112) comprenant une pluralité de N unités de détection (112.1), dont chacune est configurée pour délivrer en sortie un signal de détection qui est représentatif d'une distance et/ou d'un déplacement de l'unité de détection (112.1) par rapport à une référence secondaire (112.2) affectée à l'élément optique (108.1) et l'unité de détection respective (112.1), et l'unité d'élément optique (108) et le dispositif de détection (112) définissent une matrice de transformation de détection qui est représentative de la transformation des N signaux de détection en les M valeurs de détection. En outre ou en variante, le dispositif d'actionnement (110) est configuré pour, dans une pluralité de R degrés de liberté, régler dans chaque cas une valeur de situation qui est représentative d'une position ou d'une orientation relative d'une référence d'élément de l'élément optique par rapport à une référence primaire du dispositif d'actionnement (110) dans le degré de liberté respectif, le dispositif d'actionnement (110) comprenant une pluralité de S unités d'actionnement (110.1), dont chacune est configurée pour générer un état d'actionnement au niveau d'une interface de l'unité d'actionnement (110.1) par rapport à l'unité d'élément optique (108), et l'unité d'élément optique (108) et le dispositif d'actionnement (110) définissent une matrice de transformation d'actionnement qui est représentative de la transformation des S états d'actionnement en les R valeurs de situation. Dans ce cas, le nombre d'états d'une matrice de transformation est défini par le rapport entre la valeur singulière la plus grande de la matrice de transformation et la valeur singulière la plus petite de la matrice de transformation, le dispositif de détection (112) et/ou l'unité d'élément optique (108) sont configurée de telle sorte que le nombre d'états de la matrice de transformation de détection est de 5 à 30, en particulier de 5 à 20, encore de préférence de 8 à 15. De plus ou en variante, le dispositif d'actionnement (110) et/ou l'unité d'élément optique (108) sont configurés de telle sorte que le nombre d'états de la matrice de transformation d'actionnement est de 5 à 30, en particulier de 5 à 20, encore de préférence de 8 à 15.
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