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1. WO2020005421 - METHOD TO REDUCE DATA STREAM FOR SPATIAL LIGHT MODULATOR

Publication Number WO/2020/005421
Publication Date 02.01.2020
International Application No. PCT/US2019/033482
International Filing Date 22.05.2019
IPC
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02
Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
027
Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing, not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34165
G03F 7/20 (2006.01)
H01L 21/027 (2006.01)
CPC
G02F 1/1303
G03F 7/7005
G03F 7/7015
G03F 7/70358
G03F 7/70375
G03F 7/70391
Applicants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors
  • JOHNSON, Joseph R.; US
  • LAIDIG, Thomas L.; US
  • BENCHER, Christopher Dennis; US
Agents
  • PATTERSON, B. Todd; US
  • VERSTEEG, Steven H.; US
Priority Data
16/024,06229.06.2018US
Publication Language English (EN)
Filing Language English (EN)
Designated States
Title
(EN) METHOD TO REDUCE DATA STREAM FOR SPATIAL LIGHT MODULATOR
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION D'UN FLUX DE DONNÉES POUR MODULATEUR SPATIAL DE LUMIÈRE
Abstract
(EN)
Embodiments of the present disclosure provide improved photolithography systems and methods using a solid state emitter array. The solid state emitter array comprises solid state emitter devices arranged in rows and columns, wherein each solid state emitter device comprises two or more subpixels. Each solid state emitter device comprises one program gate which may transmit a voltage to a state storage node. The state storage node is in electrical communication with a drive gate. The drive gate is in communication with two or more solid state emitter subpixels. The arrangement of a plurality of subpixels in communication with a single drive gate allows more than one pulse to be delivered to the drive gate, resulting in illumination of more than one subpixel at each drive gate. The redundancy results in improved data efficiency.
(FR)
Des modes de réalisation de la présente invention concernent des systèmes et des procédés de photolithographie améliorés faisant appel à un réseau d'émetteurs à semi-conducteurs. Le réseau d'émetteurs à semi-conducteurs comprend des dispositifs émetteurs à semi-conducteurs disposés en rangées et en colonnes, chaque dispositif émetteur à semi-conducteurs comprenant deux sous-pixels ou plus. Chaque dispositif émetteur à semi-conducteurs comprend une grille de programme qui peut transmettre une tension à un nœud de stockage d'état. Le nœud de stockage d'état est en communication électrique avec une grille d'attaque. La grille d'attaque est en communication avec deux sous-pixels d'émetteur à semi-conducteurs ou plus. L'agencement d'une pluralité de sous-pixels en communication avec une seule grille d'attaque permet à plus d'une impulsion d'être délivrée à la grille d'attaque, ce qui se solde par un éclairage de plus d'un sous-pixel au niveau de chaque grille d'attaque. La redondance permet d'obtenir une efficacité de données améliorée.
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