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1. WO2020003344 - ACTIVE GAS GENERATION DEVICE AND FILM FORMATION TREATMENT UNIT

Publication Number WO/2020/003344
Publication Date 02.01.2020
International Application No. PCT/JP2018/023972
International Filing Date 25.06.2018
IPC
C CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16
Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition (CVD) processes
44
characterised by the method of coating
50
using electric discharges
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
H
PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY- CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
1
Generating plasma; Handling plasma
24
Generating plasma
C23C 16/50 (2006.01)
H05H 1/24 (2006.01)
CPC
C23C 16/50
H05H 1/24
Applicants
  • 東芝三菱電機産業システム株式会社 TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区京橋三丁目1番1号 3-1-1 Kyobashi, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Inventors
  • 渡辺 謙資 WATANABE Kensuke; JP
  • 西村 真一 NISHIMURA Shinichi; JP
  • 有田 廉 ARITA Ren; JP
Agents
  • 吉竹 英俊 YOSHITAKE Hidetoshi; JP
  • 有田 貴弘 ARITA Takahiro; JP
Priority Data
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) ACTIVE GAS GENERATION DEVICE AND FILM FORMATION TREATMENT UNIT
(FR) DISPOSITIF DE PRODUCTION DE GAZ ACTIF ET UNITÉ DE TRAITEMENT DE FORMATION DE FILM
(JA) 活性ガス生成装置及び成膜処理装置
Abstract
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a structure of an active gas generation device in which the device configuration can be simplified and miniaturized, and deactivation of an active gas can be suppressed. Also, according to the present invention, each of a gas passing groove (24), a high-voltage electrode groove (21), and a ground electrode groove (22) provided in an electrode unit base (2) has a spiral shape in a plan view. A high-voltage electrode (11) is buried in the high-voltage electrode groove (21), and a ground electrode groove (12) is buried in the ground electrode groove (22). The high-voltage electrode (11) and the ground electrode (12) are disposed on one side surface and the other side surface of the gas passing groove (24) in the electrode unit base (2), respectively, so as to face each other with the gas passing groove (24) and a portion of the electrode unit base (2) therebetween, and are provided, along with the gas passing groove (24), in a spiral shape in a plan view.
(FR)
La présente invention concerne une structure d'un dispositif de production de gaz actif, la configuration du dispositif pouvant être simplifiée et miniaturisée, et la désactivation d'un gaz actif pouvant être supprimée. De plus, selon la présente invention, chacune parmi une rainure de passage de gaz (24), une rainure d'électrode haute tension (21) et une rainure d'électrode de masse (22) formées dans une base d'unité d'électrode (2) a une forme en spirale dans une vue en plan. Une électrode haute tension (11) est enfoncée dans la rainure d'électrode haute tension (21), et une rainure d'électrode de masse (12) est enfoncée dans la rainure d'électrode de masse (22). L'électrode haute tension (11) et l'électrode de masse (12) sont disposées sur une surface latérale et l'autre surface latérale de la rainure de passage de gaz (24) dans la base d'unité d'électrode (2), respectivement, de manière à se faire face l'une l'autre avec la rainure de passage de gaz (24) et une partie de la base d'unité d'électrode (2) entre elles, et sont disposées, conjointement avec la rainure de passage de gaz (24), en forme de spirale dans une vue en plan.
(JA)
本発明は、装置構成の簡略化及び小型化を図り、かつ、活性ガスが失活する現象を抑制することができる活性ガス生成装置の構造を提供することを目的とする。そして、本発明は、電極ユニットベース(2)に設けられるガス通過溝(24)、高圧電極用溝(21)及び接地電極用溝(22)は平面視して螺旋状を呈している。高圧電極(11)が高圧電極用溝(21)に埋め込まれ、接地電極(12)が接地電極用溝(22)に埋め込まれる。高圧電極(11)及び接地電極(12)は、電極ユニットベース(2)の一部及びガス通過溝(24)を挟んで互いに対向するように、電極ユニットベース(2)内のガス通過溝(24)の両側面側に配置され、ガス通過溝(24)と共に平面視して螺旋状に設けられる。
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