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1. (WO2020001645) LITHOGRAPHY MACHINE LUMINANCE UNIFORMITY COMPENSATION METHOD AND DEVICE, AND ILLUMINATION SYSTEM AND LITHOGRAPHY MACHINE
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Pub. No.: WO/2020/001645 International Application No.: PCT/CN2019/093837
Publication Date: 02.01.2020 International Filing Date: 28.06.2019
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 中国上海市 张江高科技园区张东路1525号 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
Inventors:
钱俊 QIAN, Jun; CN
湛宾洲 ZHAN, Binzhou; CN
Agent:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; 中国上海市 黄浦区复兴中路1号申能国际大厦606室 Unit 606, Shenergy International Building 1 Middle Fuxing Road, Huangpu District Shanghai 200021, CN
Priority Data:
201810720773.529.06.2018CN
Title (EN) LITHOGRAPHY MACHINE LUMINANCE UNIFORMITY COMPENSATION METHOD AND DEVICE, AND ILLUMINATION SYSTEM AND LITHOGRAPHY MACHINE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE COMPENSATION D'UNIFORMITÉ DE LUMINANCE DE MACHINE DE LITHOGRAPHIE, ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE ET MACHINE DE LITHOGRAPHIE
(ZH) 光刻机照度均匀性补偿方法及装置、照明系统及光刻机
Abstract:
(EN) A lithography machine luminance uniformity compensation method is provided. In the invention, luminance distribution data produced by an illumination system in respect of a reference surface is collected over a certain period of time, so that at different periods in the life cycle of the illumination system compensation regions corresponding to each period may be arranged on a compensation surface in the path of exposed light, such that the intensity of light incident on the reference surface may be compensated. In this way, luminance uniformity during the life cycle of the illumination system may satisfy control requirements. By means of introducing compensation-operation positions, luminance uniformity pre-compensation processing may be carried out for the entire life cycle of the illumination system. The invention not only achieves uniform compensation, but also extends the uniform compensation life cycle, thereby reducing cost, improving reliability, and reducing manufacturing cost and technical difficulty. Moreover, because a compensation panel is configured to rotate about a central axis to achieve compensation-operation position switching, the number of moving mechanisms is reduced and the control scheme is optimized. A lithography machine luminance uniformity compensation device, an illumination system comprising the device, and a lithography machine comprising the system are also provided.
(FR) L'invention concerne un procédé de compensation d'uniformité de luminance de machine de lithographie. Selon l'invention, des données de distribution de luminance produites par un système d'éclairage par rapport à une surface de référence sont collectées pendant une certaine durée, de sorte qu'à différentes périodes dans le cycle de vie du système d'éclairage, des régions de compensation correspondant à chaque période peuvent être agencées sur une surface de compensation dans la trajectoire de lumière exposée, de telle sorte que l'intensité d'une lumière incidente sur la surface de référence peut être compensée. De cette manière, une uniformité de luminance au cours du cycle de vie du système d'éclairage peut satisfaire des exigences de contrôle. Au moyen de l'introduction de positions d'opération de compensation, un traitement de pré-compensation d'uniformité de luminance peut être effectué pour la totalité du cycle de vie du système d'éclairage. L'invention permet non seulement d'obtenir une compensation uniforme, mais allonge également le cycle de vie de compensation uniforme, ce qui réduit le coût, améliore la fiabilité et de réduit le coût de fabrication et la difficulté technique. De plus, étant donné qu'un panneau de compensation est configuré pour tourner autour d'un axe central pour permettre d'obtenir une commutation de position d'opération de compensation, le nombre de mécanismes mobiles est réduit et le schéma de commande est optimisé. L'invention concerne également un dispositif de compensation d'uniformité de luminance de machine de lithographie, un système d'éclairage comprenant le dispositif, et une machine de lithographie comprenant le système.
(ZH) 提供了一种光刻机照度均匀性补偿方法,其通过采集一定时间内光刻机的基准面上的照度分布数据,以在照明系统生命周期内不同时期下,将对应时期的补偿区设置于曝光光路的补偿面上,对入射至基准面的光强进行补偿,使照明系统在其生命周期内的照度均匀性满足控制要求,通过增加补偿工位,实现对照明系统整个生命周期内的照度均匀性进行预补偿,在实现均匀补偿的同时,延长均匀补偿的生命周期,以降低成本、提高可靠性、降低制造成本及技术难度,并且,由于补偿板是通过绕中心轴旋转以切换补偿工位的,减少了可动机构,优化了控制策略。还提供了一种光刻机照度均匀性补偿装置、包括照度均匀性补偿装置的照明系统及包括照明系统的光刻机。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)