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1. WO2020000892 - FABRICATION PROCESS FOR SENSING FILM AND FABRICATION METHOD FOR TOUCH SCREEN

Publication Number WO/2020/000892
Publication Date 02.01.2020
International Application No. PCT/CN2018/118225
International Filing Date 29.11.2018
IPC
G PHYSICS
06
COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
F
ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
3
Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
01
Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
03
Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
041
Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
042
by opto-electronic means
G06F 3/042 (2006.01)
CPC
G06F 2203/04102
G06F 2203/04103
G06F 3/042
Applicants
  • 广州视源电子科技股份有限公司 GUANGZHOU SHIYUAN ELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省广州市 黄埔区云埔四路6号 No. 6, 4th Yunpu Road, Huangpu District Guangzhou, Guangdong 510530, CN
  • 广州视睿电子科技有限公司 GUANGZHOU SHIRUI ELECTRONICS CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省广州市 经济技术开发区科技城科珠路192号 No.192, Kezhu Road, Economic and Technological Development Zone Guangzhou, Guangdong 510663, CN
Inventors
  • 刘天保 LIU, Tianbao; CN
Agents
  • 北京康信知识产权代理有限责任公司 KANGXIN PARTNERS, P.C.; 中国北京市 海淀区知春路甲48号盈都大厦A座16层 Floor 16, Tower A, Indo Building A48 Zhichun Road, Haidian District Beijing 100098, CN
Priority Data
201810682584.327.06.2018CN
Publication Language Chinese (ZH)
Filing Language Chinese (ZH)
Designated States
Title
(EN) FABRICATION PROCESS FOR SENSING FILM AND FABRICATION METHOD FOR TOUCH SCREEN
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM DE DÉTECTION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR ÉCRAN TACTILE
(ZH) 感应膜的制作过程和触摸屏的制作方法
Abstract
(EN)
Provided in the present application are a fabrication process for a sensing film and a fabrication method for a touch screen. The fabrication process comprises: step S1, disposing on a substrate at least one insulating layer having a first pattern; step S2, disposing a photoresist layer on an exposed surface of the insulating layer and on an exposed surface of the substrate; step S3, patterning the photoresist layer using a photomask that has a second pattern such that a portion of the substrate is exposed to form a photoresist layer having a second pattern, a portion of the first pattern overlapping with a portion of the second pattern; step S4, disposing a conductive material on the exposed surface of the substrate to form a conductive grid; step S5, removing the insulating layer and the patterned photoresist layer. The described fabrication process greatly saves on the cost of developing a photomask and improves the specification compatibility of the photomask.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de fabrication pour un film de détection et un procédé de fabrication pour un écran tactile. Le procédé de fabrication comprend les étapes suivantes : étape S1, la disposition sur un substrat d'au moins une couche isolante ayant un premier motif ; étape S2, la disposition d'une couche de résine photosensible sur une surface exposée de la couche isolante et sur une surface exposée du substrat ; étape S3, la formation de motifs sur la couche de résine photosensible à l'aide d'un masque photographique qui a un second motif de telle sorte qu'une partie du substrat est exposée pour former une couche de résine photosensible ayant un second motif, une partie du premier motif chevauchant une partie du second motif ; étape S4, la disposition d'un matériau conducteur sur la surface exposée du substrat pour former une grille conductrice ; étape S5, la suppression de la couche Isolante et de la couche de résine photosensible à motifs. Le procédé de fabrication décrit permet de réduire considérablement le coût de développement d'un masque photographique et améliore la compatibilité de spécification du masque photographique.
(ZH)
本申请提供了一种感应膜的制作过程和触摸屏的制作方法。该制作过程包括:步骤S1,在基底上设置至少一个具有第一图案的绝缘层;步骤S2,在绝缘层的裸露表面上以及基底的裸露表面上设置光阻层;步骤S3,采用具有第二图案的光罩对光阻层进行图案化,使得部分基底裸露,形成具有第二图案的光阻层,第一图案的部分与第二图案的部分重叠;步骤S4,在裸露的基底的表面上设置导电材料,形成导电网格;步骤S5,去除绝缘层和图案化的光阻层。该制作过程大大节省了开发光罩的成本,提高了光罩的规格兼容性。
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