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1. (WO2019066891) SYSTEMS, METHODS, AND APPARATUSES FOR IMPLEMENTING FAILURE PREDICTION AND PROCESS WINDOW OPTIMIZATION IN CHROMELESS PHASE LITHOGRAPHY
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Pub. No.: WO/2019/066891 International Application No.: PCT/US2017/054266
Publication Date: 04.04.2019 International Filing Date: 29.09.2017
IPC:
G03F 1/34 (2012.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
1
Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g. masks, photo-masks or reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
26
Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
34
Phase-edge PSM, e.g. chromeless PSM; Preparation thereof
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
Inventors:
MA, Hyungjin; US
SANGWAI, Ashish V.; US
AGARWAL, Diwakar; US
Agent:
BABBITT, William Thomas; US
VINCENT, Lester J.; US
Priority Data:
Title (EN) SYSTEMS, METHODS, AND APPARATUSES FOR IMPLEMENTING FAILURE PREDICTION AND PROCESS WINDOW OPTIMIZATION IN CHROMELESS PHASE LITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈMES, PROCÉDÉS ET APPAREILS POUR METTRE EN ŒUVRE UNE PRÉDICTION DE DÉFAILLANCE ET OPTIMISATION DE FENÊTRE DE TRAITEMENT DANS UNE LITHOGRAPHIE EN PHASE SANS CHROME
Abstract:
(EN) Predicting a failure mode in a negative and positive focus including patterning a wafer using a test mask at each of a plurality of varied focus steps to expose a plurality of features of the test mask into the wafer at each of the plurality of varied focus steps; capturing images of the plurality of features exposed; identifying any location where one or more of the plurality of features fails to expose correctly; and creating a predictor for each failure mode by correlating the location at which the respective feature failed to expose correctly into the wafer and the focus step at which the feature failed to correctly expose into the wafer. Feedback from predictor is applied via Optical Proximity Correction to the output mask by fine-tuning output mask shape or with negative Sub-Resolution Assisting Features (SRAFs) to align center focus for overall process window improvement.
(FR) L'invention concerne la prédiction d'un mode de défaillance dans une mise au point négative et positive et comprend les étapes consistant à former un motif sur une tranche à l'aide d'un masque de test à chaque étape d'une pluralité d'étapes de mise au point variées pour exposer une pluralité de caractéristiques du masque de test dans la tranche à chaque étape de la pluralité d'étapes de mise au point variées; capturer des images de la pluralité de caractéristiques exposées; identifier n'importe quel emplacement où une ou plusieurs caractéristiques de la pluralité de caractéristiques ne parviennent pas à apparaître correctement; et créer un système de prédiction pour chaque mode de défaillance par la mise en corrélation de l'emplacement auquel la caractéristique respective n'est pas parvenue à apparaître correctement dans la tranche et de l'étape de mise au point à laquelle la caractéristique n'est pas parvenue à apparaître correctement dans la tranche. La rétroaction provenant du système de prédiction est appliquée par l'intermédiaire d'une correction optique de proximité au masque de sortie par réglage fin de la forme du masque de sortie ou avec des caractéristiques d'aide à la sous-résolution négative (SRAF) pour aligner la mise au point centrale pour une amélioration globale de la fenêtre de traitement.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)