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1. (WO2019065611) MASS FLOW RATE CONTROL SYSTEM, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE AND VAPORIZER INCLUDING SAID SYSTEM
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Pub. No.: WO/2019/065611 International Application No.: PCT/JP2018/035403
Publication Date: 04.04.2019 International Filing Date: 25.09.2018
IPC:
G05D 7/06 (2006.01)
G PHYSICS
05
CONTROLLING; REGULATING
D
SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
7
Control of flow
06
characterised by the use of electric means
Applicants:
日立金属株式会社 HITACHI METALS, LTD. [JP/JP]; 東京都港区港南一丁目2番70号 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224, JP
Inventors:
石井 守 ISHII Mamoru; JP
Agent:
特許業務法人プロスペック特許事務所 PROSPEC PATENT FIRM; 愛知県名古屋市中村区太閤三丁目1番18号 名古屋KSビル12階 12th Floor, NAGOYA-KS Building, 1-18, Taiko 3-chome, Nakamura-ku, Nagoya-shi, Aichi 4530801, JP
Priority Data:
2017-19065729.09.2017JP
Title (EN) MASS FLOW RATE CONTROL SYSTEM, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE AND VAPORIZER INCLUDING SAID SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE RÉGULATION DE DÉBIT MASSIQUE, ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR ET VAPORISATEUR COMPRENANT LEDIT SYSTÈME
(JA) 質量流量制御システム並びに当該システムを含む半導体製造装置及び気化器
Abstract:
(EN) This mass flow rate control system is configured to control the flow rate of a fluid flowing through a flow passage and includes a first device, which is a mass flow rate control device, an external sensor, which is at least one detecting means constituting a second device that is a device installed outside the first device, and at least one control unit provided in a casing of either one or both of the first device and the second device, wherein the control unit is configured to be capable of controlling a degree of opening of a flow rate control valve on the basis of at least an external signal, which is a detection signal output from the external sensor. By this means, advantages such as rapid purge processing, more accurate flow rate control, simple flow rate calibration, flow rate control based on a pressure or temperature inside a tank, or flow rate control based on the concentration of a material in the fluid can be achieved without the addition of a separate control device or the like.
(FR) La présente invention concerne un système de régulation de débit massique qui est conçu pour réguler le débit d'un fluide s'écoulant à travers un passage d'écoulement et qui comprend un premier dispositif, qui est un dispositif de régulation de débit massique, un capteur externe, qui est au moins un moyen de détection constituant un second dispositif qui est un dispositif installé à l'extérieur du premier dispositif, et au moins une unité de régulation disposée dans un boîtier du premier dispositif et/ou du second dispositif, l'unité de régulation étant conçue pour pouvoir réguler un degré d'ouverture d'une soupape de régulation de débit sur la base d'au moins un signal externe, qui est un signal de détection délivré par le capteur externe. Par ce moyen, des avantages tels qu'un traitement par purge rapide, une régulation de débit plus précise, un étalonnage de débit simple, une régulation de débit basée sur une pression ou une température à l'intérieur d'un réservoir, ou une régulation de débit basée sur la concentration d'une substance dans le fluide peuvent être obtenus sans l'ajout d'un dispositif de régulation séparé ou analogue.
(JA) 質量流量制御装置である第1装置と、第1装置の外部に配設された装置である第2装置を構成する少なくとも1つの検出手段である外部センサと、第1装置及び第2装置の何れか一方又は両方の筐体内に設けられた少なくとも1つの制御部とを有し、流路を流れる流体の流量を制御するように構成された質量流量制御システムにおいて、少なくとも外部センサから出力される検出信号である外部信号に基づいて流量制御弁の開度を制御することができるように制御部を構成する。これにより、迅速なパージ処理、より正確な流量制御、簡便な流量較正、タンク内の圧力若しくは温度に基づく流量制御、又は流体における材料の濃度等に基づく流量制御等の効果を別個の制御装置等を追加すること無く達成する。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)