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1. (WO2019065477) OPTICAL FILTER MANUFACTURING METHOD
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Pub. No.: WO/2019/065477 International Application No.: PCT/JP2018/034941
Publication Date: 04.04.2019 International Filing Date: 21.09.2018
IPC:
G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
G PHYSICS
02
OPTICS
B
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5
Optical elements other than lenses
20
Filters
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004
Photosensitive materials
04
Chromates
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
27
Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
14
including semiconductor components sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
144
Devices controlled by radiation
146
Imager structures
Applicants:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventors:
奈良 裕樹 NARA Yuki; JP
大河原 昂広 OKAWARA Takahiro; JP
Agent:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Priority Data:
2017-18963329.09.2017JP
Title (EN) OPTICAL FILTER MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILTRE OPTIQUE
(JA) 光学フィルタの製造方法
Abstract:
(EN) Provided is an optical filter manufacturing method with which it is possible to accurately form pixels having high rectangularity in a region partitioned by a separating wall, or at a position corresponding to a region partitioned by a separating wall. The optical filter manufacturing method comprises: a step of forming a colored photosensitive composition layer by applying, onto a support having separating walls and including a plurality of regions partitioned by the separating walls, a colored photosensitive composition which includes a colorant and a curable compound, the colored photosensitive composition containing the colorant by not less than 10 mass% in a total solid content; a step of irradiating, using a scanner exposure machine, the colored photosensitive composition layer with light of a wavelength of not more than 300 nm to expose the colored photosensitive composition layer in a pattern; and a step of developing and removing an unexposed portion of the colored photosensitive composition layer, and forming pixels in the regions partitioned by the separating walls, or at positions corresponding to the regions partitioned by the separating walls.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de filtre optique avec lequel il est possible de former avec précision des pixels ayant une rectangularité élevée dans une région divisée par une paroi de séparation, ou à une position correspondant à une région divisée par une paroi de séparation. Le procédé de fabrication de filtre optique comprend : une étape de formation d'une couche de composition photosensible colorée par application, sur un support ayant des parois de séparation et comprenant une pluralité de régions séparées par les parois de séparation, d'une composition photosensible colorée qui comprend un colorant et un composé durcissable, la composition photosensible colorée contenant le colorant en une quantité supérieure ou égale à 10 % en masse dans un contenu solide total ; une étape d'irradiation, à l'aide d'une machine d'exposition de scanner, de la couche de composition photosensible colorée ayant une lumière d'une longueur d'onde inférieure ou égale à 300 nm pour exposer la couche de composition photosensible colorée selon un motif ; et une étape de développement et de retrait d'une partie non exposée de la couche de composition photosensible colorée, et de formation de pixels dans les régions divisées par les parois de séparation, ou à des positions correspondant aux régions divisées par les parois de séparation.
(JA) 隔壁で区画された領域内、または、隔壁で区画された領域に対応する位置に矩形性の良い画素を精度よく形成できる光学フィルタの製造方法を提供する。この光学フィルタの製造方法は、隔壁を有する支持体であって、隔壁で区画された複数の領域が設けられた支持体上に、色材と硬化性化合物とを含み色材を全固形分中に10質量%以上含有する着色感光性組成物を塗布して着色感光性組成物層を形成する工程と、スキャナ露光機を用いて着色感光性組成物層に波長300nm以下の光を照射して着色感光性組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部の着色感光性組成物層を現像除去して、隔壁で区画された領域内、または、隔壁で区画された領域に対応する位置に画素を形成する工程と、を含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)