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1. (WO2019065250) IMPRINT DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE
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Pub. No.: WO/2019/065250 International Application No.: PCT/JP2018/033851
Publication Date: 04.04.2019 International Filing Date: 12.09.2018
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21
Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02
Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
027
Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing, not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34165
B PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29
WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
C
SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL; AFTER- TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
59
Surface shaping, e.g. embossing; Apparatus therefor
02
by mechanical means, e.g. pressing
Applicants:
キヤノン株式会社 CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP
Inventors:
林 達也 HAYASHI Tatsuya; JP
舩吉 智美 FUNAYOSHI Tomomi; JP
小林 謙一 KOBAYASHI Kenichi; JP
Agent:
阿部 琢磨 ABE Takuma; JP
黒岩 創吾 KUROIWA Sogo; JP
Priority Data:
2017-19176029.09.2017JP
Title (EN) IMPRINT DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE
(FR) DISPOSITIF D'IMPRESSION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE
(JA) インプリント装置及び物品の製造方法
Abstract:
(EN) This imprint device for using a mold to form a pattern composed of an imprint material on a substrate comprises: a mold holding part for holding a mold; and an optical system for irradiating the imprint material (14) on the substrate (10) with irradiation light for increasing the viscosity of the imprint material (14), wherein: the irradiation light has a light intensity distribution (56) in which the light intensity increases from the center to a side surface of a pattern part of the mold in a state in which the mold is held by the mold holding part; and the imprint material (14) moving, in a region including the side surface (8b) of the pattern part (8a) of the mold, from the center toward the side surface (8b) of the pattern part (8a) of the mold is irradiated with the irradiation light in a state in which the mold and the imprint material (14) on the substrate (10) are contacted with each other.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'impression, permettant d'utiliser un moule pour former un motif composé d'un matériau d'impression sur un substrat et comprenant : une partie de maintien de moule, permettant de maintenir un moule ; et un système optique, permettant d'irradier le matériau d'impression (14) présent sur le substrat (10) sous une certaine lumière d'irradiation, pour augmenter la viscosité du matériau d'impression (14), la lumière d'irradiation présentant une distribution d'intensité de lumière (56) suivant laquelle l'intensité de lumière augmente du centre à une surface latérale d'une partie de motif du moule, dans un état dans lequel le moule est maintenu par la partie de maintien de moule ; et le matériau d'impression (14), se déplaçant dans une région comprenant la surface latérale (8b) de la partie de motif (8a) du moule, du centre vers la surface latérale (8b) de la partie de motif (8a) du moule, est irradié par la lumière d'irradiation, dans un état dans lequel le moule et le matériau d'empreinte (14) présent sur le substrat (10) sont mis en contact l'un avec l'autre.
(JA) 型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、型を保持する型保持部と、基板(10)上のインプリント材(14)の粘性を増加させるための照射光をインプリント材(14)に照射する光学系と、を有し、照射光は、型が型保持部によって保持された状態において型のパターン部の中心から側面に向かって光強度が大きくなる光強度分布(56)を有し、型と基板(10)上のインプリント材(14)を接触させた状態で、型のパターン部(8a)の側面(8b)を含む領域において型のパターン部(8a)の中心から側面(8b)に向かって移動するインプリント材(14)に対して照射光を照射する。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)