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1. (WO2019064496) SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
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Pub. No.: WO/2019/064496 International Application No.: PCT/JP2017/035499
Publication Date: 04.04.2019 International Filing Date: 29.09.2017
IPC:
H01J 37/244 (2006.01) ,H01J 37/05 (2006.01) ,H01J 37/12 (2006.01) ,H01J 37/141 (2006.01) ,H01J 37/147 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
244
Detectors; Associated components or circuits therefor
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
05
Electron- or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
10
Lenses
12
electrostatic
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
10
Lenses
14
magnetic
141
Electromagnetic lenses
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
147
Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
26
Electron or ion microscopes; Electron- or ion-diffraction tubes
28
with scanning beams
Applicants:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventors:
森下 英郎 MORISHITA Hideo; JP
揚村 寿英 AGEMURA Toshihide; JP
Agent:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
Priority Data:
Title (EN) SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
(FR) MICROSCOPE ÉLECTRONIQUE À BALAYAGE
(JA) 走査電子顕微鏡
Abstract:
(EN) Provided is a scanning electron microscope not employing a deceleration method, wherein the scanning electron microscope suppresses the detection amount of SE3 excited due to BSE and is equipped with an energy selection/detection function for SE1 generated on a sample. The scanning electron microscope has: an electron optical system having an electron source (21) for generating an irradiating electron beam and an objective lens (12) for focusing the irradiating electron beam on a sample; a detector (13) disposed outside the optical axis of the electron optical system and detecting signal electrons generated by irradiating the sample with the irradiating electron beam; a deflection electrode for forming a deflection field (26) for guiding the signal electrons to the detector; a disk-shaped electrode (23) disposed on the electron source side from the deflection field and having an opening portion allowing the irradiating electron beam to pass therethrough; and a control electrode disposed on the sample side from the deflection field along the optical axis. The sample and the objective lens are set to a reference potential. A potential lower than the reference potential is applied to the disk-shaped electrode. A potential higher than the reference potential is applied to the control electrode.
(FR) L'invention concerne un microscope électronique à balayage ne faisant pas appel à un procédé de décélération, le microscope électronique à balayage supprimant la quantité de détection de SE3 excité en raison de BSE et étant équipé d'une fonction de sélection/détection d'énergie pour SE1 généré sur un échantillon. Le microscope électronique à balayage comprend : un système optique électronique ayant une source d'électrons (21) pour générer un faisceau d’électrons d'irradiation et une lentille d'objectif (12) pour focaliser le faisceau d'électrons d'irradiation sur un échantillon ; un détecteur (13) disposé à l'extérieur de l'axe optique du système optique électronique et détectant des électrons de signaux générés par l'irradiation de l'échantillon par le faisceau d'électrons d'irradiation ; une électrode de déviation pour former un champ de déviation (26) pour guider les électrons de signaux vers le détecteur ; une électrode en forme de disque (23) disposée sur le côté de source d'électrons à partir du champ de déviation et ayant une partie d'ouverture permettant au faisceau d'électrons d'irradiation de passer à travers celle-ci ; et une électrode de commande disposée sur le côté d'échantillon à partir du champ de déviation le long de l'axe optique. L'échantillon et la lentille d'objectif sont fixés à un potentiel de référence. Un potentiel inférieur au potentiel de référence est appliqué à l'électrode en forme de disque. Un potentiel supérieur au potentiel de référence est appliqué à l'électrode de commande.
(JA) 減速法を適用しない走査電子顕微鏡において、BSE に起因して励起されるSE3 の検出量を抑制し、試料上で発生したSE1 に対するエネルギー選別検出機能を備えた走査電子顕微鏡を提供する。照射電子線を発生する電子源(21)と、照射電子線を試料上に集束させる対物レンズ(12)とを有する電子光学系と、電子光学系の光軸外に配置され、照射電子線が試料に照射されることにより発生する信号電子を検出する検出器(13)と、信号電子を検出器に導く偏向場(26)を形成する偏向電極と、偏向場よりも電子源側に配置され、照射電子線を通過させる開口部を有する円盤状電極(23)と、偏向場よりも試料側に光軸に沿って配置される制御電極とを有し、試料及び対物レンズは基準電位とされ、円盤状電極には基準電位よりも低い電位が印加され、制御電極には基準電位よりも高い電位が印加される。
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)