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1. WO2019057907 - BAYER MATRIX IMAGE SENSOR

Note: Text based on automatic Optical Character Recognition processes. Please use the PDF version for legal matters

[ FR ]

Capteur d'image à matrice de Bayer

DOMAINE DE L'INVENTION

La présente invention concerne un capteur d'image comprenant une matrice de Bayer.

ETAT DE LA TECHNIQUE

Il est connu de l'état de la technique un capteur d'image comprenant une matrice de Bayer et un photodétecteur agencé en aval de la matrice de Bayer.

De façon connue, une matrice de Bayer comprend une pluralité de filtres optiques disposées en damier et sensibles à différentes longueurs d'ondes. Ainsi, une matrice de Bayer comprend conventionnellement au moins les neuf filtres optiques suivants :

• un filtre optique de référence, configuré pour éliminer ou atténuer dans un signal optique reçu une première bande de longueurs d'onde comprenant une première longueur d'onde Àl f mais pour laisser passer une deuxième bande de longueurs d'onde comprenant une deuxième longueur d'onde λ2,

• huit filtres optiques adjacents au filtre optique de référence, dont quatre sont configurés pour laisser passer dans le signal optique reçu la première bande de longueurs d'onde, et pour éliminer ou atténuer la deuxième bande de longueurs d'onde.

Le photodétecteur agencé en aval de la matrice de Bayer permet de reconstruire une image, chaque pixel de l'image correspondant à l'un des filtres optiques de la matrice de Bayer. Ainsi, un pixel de référence de l'image est spécifiquement associé au filtre de référence susmentionné.

L'image reconstruite est porteuse d'informations dans les deux bandes spectrales à laquelle la matrice de Bayer est sensible.

En particulier, le pixel de référence de l'image est affublé d'une couleur élaborée à partir d'une première information relative à la première bande de longueurs d'onde, et d'une deuxième information relative à la deuxième bande de longueurs d'onde.

La deuxième information est fournie directement par le photodétecteur, puisque le filtre optique de référence laisse passer cette deuxième bande.

Cependant, la première information ne peut pas être obtenue de la même manière, puisque le filtre optique de référence élimine ou tout du moins atténue cette première bande. Aussi, cette première information est obtenue indirectement en combinant les informations relatives à la première bande longueurs en des pixels adjacents au pixel de référence, ces pixels adjacents étant associés à des filtres optiques adjacents laissant passer la première bande de longueurs d'onde.

Dans la littérature, l'étape consistant à reconstruire, pour chaque pixel à partir des informations disponibles en ledit pixel ou en son voisinage les données de chacune des bandes de longueur d'onde, est conventionnellement nommée « dématriçage » (ou

« débayerisation » par néologisme). Quand les bandes de longueur d'onde sont proches, par exemple dans une application visible dans laquelle est utilisée une matrice de Bayer ayant des filtres rouge-vert-bleu ( VB), des algorithmes de dématriçage connus mettent en œuvre une analyse d'un gradient local et négligent la dispersion de la réponse impulsionnelle optique suscitée par la matrice de Bayer (également appelée « fonction d'étalement », et en anglais « Optical Point Spread Function », abrégé en OPSF).

Deux raisons principales permettent d'expliquer les raisons de cette approche. La théorie démontre que la réponse impulsionnelle optique optimale (i.e. limitée par la diffraction) est une tache d'Airy dont le premier anneau sombre a un diamètre égal à 2.44*lambda*N, où lambda est longueur d'onde considérée et N est nombre d'ouverture du système (N=focale/diamètre de la pupille d'entrée).

Dans le cas d'une matrice de Bayer dans le domaine visible, les longueurs d'onde moyennes des bandes spectrales RBV sont relativement peu éloignées, et, par ailleurs, les

OPSF (liées aux qualités optiques des filtres optiques formant la matrice de Bayer) sont éloignées de la limite de la diffraction. Ceci conduit à des OPSF associées aux bandes spectrales RVB suffisamment similaires pour négliger leurs différences.

Toutefois, dans d'autres applications, les OPSF aux différentes bandes de longueurs d'onde auxquelles la matrice de Bayer est sensible peuvent être notablement différentes ; dans un premier exemple, quand les bandes de longueur sont éloignées l'une de l'autre ; dans un deuxième exemple, quand les qualités optiques des filtres optiques constituant la matrice de Bayer sont telles que la similarité des OPSF n'est plus une approximation réaliste.

Le dématriçage mis en œuvre pour des matrices de Bayer opérant dans le domaine visible, et négligeant les différences d'OPSF ne peut donc plus être utilisé pour reconstruire une image.

Ces difficultés sont rencontrées tout particulièrement lorsqu'on a λ12 = 1/2, où λ1 est compris dans la première bande et λ2 est compris dans la deuxième bande. Un tel rapport peut survenir notamment lorsque la première bande est choisie dans la bande infrarouge « SWIR » (« Short-wavelength infrared ») et la deuxième bande choisie dans la bande infrarouge « MWIR » (« Mid-wavelength infrared »).

Dans une telle configuration, les qualités optiques à l'état de l'art similaires conduisent à des OPSF similaires (par exemple proche de la diffraction) vis-à-vis de la bande de longueur d'onde pour chaque bande de longueur d'onde considérée, et donc à un ratio de 2 entre les dimensions radiales des OPSF. D'un point de vue de la répartition spatiale énergétique, cela signifie que pour une même énergie ponctuelle à l'infini la surface éclairée au niveau de la matrice de photodétecteurs est environ quatre fois plus petite dans la première bande que dans la deuxième bande.

Une première façon de contourner le problème consisterait à ajuster le nombre d'ouverture N à la première bande de longueur d'onde en l'augmentant, par exemple d'un facteur 2 par rapport au N1nitiai qui aurait été choisi pour la configuration optimale pour la deuxième bande de longueurs d'onde. Toutefois, cela aurait pour conséquence d'étaler d'un facteur 2 la dimension radiale des OPSF sans les rendre similaires (au sens de la diffraction) d'une bande de longueur d'onde à l'autre, de diminuer d'un facteur 4 la densité d'énergie déposée par unité de surface au niveau du photodétecteur et d'augmenter d'un facteur 4 la durée d'exposition par rapport à la configuration avec le

Une seconde façon serait de concevoir un système optique présentant un nombre d'ouverture 1^ pour la première bande de longueur d'onde et un nombre d'ouverture N2 pour la seconde bande de longueur d'onde, tel que 1^=^/2. Les OPSF des deux bandes de longueur seraient ainsi similaires (au sens de la diffraction) mais la durée d'exposition requise de la première longueur d'onde augmenterait d'un facteur 4 par rapport à la configuration 1^=^.

Une troisième façon consisterait à introduire volontairement des aberrations optiques dans la conception du système optique, de manière privilégiée pour les rayons de la première bande spectrale, afin de rendre similaire les OPSF des deux bandes de longueur d'onde. L'inconvénient de cette solution est qu'elle conduit à des OPSF qui ne sont pas spatialement co-localisées dans le champ d'imagerie.

EXPOSE DE L'INVENTION

Un but de l'invention est de permettre la reconstruction d'une image multi-spectrale par un capteur d'image utilisant une matrice de Bayer sensible à deux bandes de longueurs d'onde et générant une dispersion de réponse impulsionnelle optique non négligeable.

Un autre but de la présente invention est de proposer un capteur d'image rendant similaires les images reconstruites dans deux telles bandes de longueur d'onde afin que l'unité de traitement d'image puisse évaluer les intensités reçues dans chaque bande spectrale par chaque élément du plan image.

Encore un autre but de la présente invention est de moduler le compromis entre le nombre d'ouverture, la durée d'exposition et la dimension du photodétecteur utilisé dans un capteur d'image utilisant une matrice de Bayer.

Il est ainsi proposé, selon un premier aspect de l'invention, un capteur d'image comprenant :

• un système optique pour recevoir un signal optique, le système optique comprenant une pupille,

• une matrice de Bayer située au plan focal image du système optique, la matrice de Bayer comprenant : un filtre optique de référence configuré pour éliminer ou atténuer dans le signal optique reçu une première bande de longueurs d'onde et pour laisser passer dans le signal optique reçu une deuxième longueur bande de longueurs d'ondes, et par ailleurs huit filtres optiques adjacents au filtre optique de référence,

• un masque de phase agencé sur la pupille et configuré pour projeter au moins 98 % de l'énergie du signal optique transportée dans la première bande de longueurs d'onde et 98 % de l'énergie du signal optique transportée dans la deuxième bande de longueurs d'onde sélectivement sur le filtre optique de référence et sur au moins un filtre optique adjacent lequel est configuré pour laisser passer dans le signal optique reçu la première bande de longueurs d'onde.

Le capteur d'image selon le premier aspect de l'invention peut également comprendre les caractéristiques optionnelles suivantes, prises seules ou en combinaison lorsque cela est techniquement possible.

Dans un premier mode de réalisation, le masque de phase est configuré pour projeter au moins 98 % de ladite énergie sélectivement sur le filtre optique de référence et deux des filtres optiques adjacents ; chacun des deux filtres optiques adjacents est en outre configuré pour laisser passer dans le signal optique reçu la première bande de longueurs d'onde et pour éliminer ou atténuer dans le signal optique reçu la deuxième bande de longueurs d'onde.

Au moins 49 % de ladite énergie peut alors être projetée sur le filtre optique de référence et au plus 24,5 % de ladite énergie être de préférence projetée sur chacun des deux filtres optiques adjacents.

Par ailleurs, le masque de phase peut présenter une surface plane et comprendre un bossage en forme de prisme triangulaire faisant saillie depuis la surface plane, le bossage comprenant de préférence deux faces libres reliées par un arrondi.

Dans un deuxième mode de réalisation, le masque de phase est configuré pour projeter au moins 98 % de ladite énergie sélectivement sur le filtre optique de référence et quatre des filtres optiques adjacents ; chacun des quatre filtres optiques adjacents est alors configuré pour laisser passer dans le signal optique reçu la première bande de longueurs d'onde.

Le masque de phase selon ce deuxième mode de réalisation peut être configuré pour projeter au moins 32 % de ladite énergie sur le filtre optique de référence.

En outre, le masque de phase peut présenter une surface plane et par ailleurs un bossage faisant saillie depuis la surface plane, le bossage présentant quatre faces planes opposées deux à deux et de préférence reliées par des arrondis.

Par ailleurs, ce bossage peut présenter une forme invariante par rotation de 90 degrés autour d'un axe normal à la surface plane.

Dans un troisième mode de réalisation, le masque de phase est configuré pour projeter au moins 98 % de ladite énergie sélectivement sur le filtre optique de référence B1 et les huit filtres optiques adjacents.

Le masque de phase peut alors être configuré pour projeter au moins 29 % de ladite énergie sur le filtre optique de référence.

En outre, le masque de phase peut être configuré pour projeter au moins 58 % de ladite énergie sur quatre des filtres optiques adjacents, et chacun des quatre filtres optiques adjacents être configuré pour éliminer ou atténuer dans le signal optique reçu une deuxième bande de longueurs d'onde différente de la première bande.

Le masque de phase peut présenter une surface plane et comprend un bossage central faisant saillie depuis la surface plane sur une première hauteur, ainsi qu'un bossage annulaire faisant également saillie depuis la surface plane sur une deuxième hauteur inférieure à la première hauteur, le bossage annulaire s'étendant autour de et à distance du bossage central.

Le masque de phase peut présenter une surface plane un bossage faisant saillie depuis la surface plane, dans lequel le bossage est conique ou présente une forme effilée concave.

Chaque bossage peut être de révolution autour d'un axe normal à la surface plane.

Selon un deuxième aspect de l'invention, il est proposé un procédé d'acquisition d'image par un capteur d'image comprenant un système optique pour recevoir un signal optique, une matrice de Bayer située au plan focal image du système optique, la matrice de Bayer comprenant un filtre optique de référence configuré pour éliminer ou atténuer dans un signal optique reçu une première bande de longueurs d'onde, et huit filtres optiques adjacents au filtre optique de référence, le procédé étant caractérisé par une projection, par un masque de phase agencé sur une pupille du système optique, d'au moins 98 % de

l'énergie du signal optique transportée dans la première bande de longueurs d'onde et 98 % de l'énergie du signal optique transportée dans la seconde bande de longueurs d'onde sélectivement sur le filtre optique de référence et sur au moins un des huit filtres optiques adjacents, la matrice de Bayer étant située au plan focal image du masque de phase.

DESCRIPTION DES FIGURES

D'autres caractéristiques, buts et avantages de l'invention ressortiront de la description qui suit, qui est purement illustrative et non limitative, et qui doit être lue en regard des dessins annexés sur lesquels :

« La figure 1 est une vue schématique de profil de certains composants d'un capteur d'image selon un mode de réalisation de l'invention.

Les figures 2 et 3 sont des vues partielles de face d'une matrice de Bayer.

Les figures 4 et 5 sont respectivement une vue de profil et une vue de face d'un masque de phase selon un premier mode de réalisation de l'invention.

« La figure 6 représente deux courbes de déphasage d'un signal optique traversant le masque de phase selon le premier mode de réalisation de l'invention.

La figure 7 représente la fonction d'étalement de point du masque de phase selon le premier mode de réalisation de l'invention.

La figure 8 montre deux courbes d'étalement de point associées aux courbes de déphasages représentées en figure 6.

La figure 9 est une vue partielle de face d'une matrice de Bayer, montrant également une répartition d'énergie projetée sur cette matrice de Bayer par le masque de phase selon le premier mode de réalisation de l'invention.

Les figures 10 et 1 1 sont respectivement une vue en perspective et une vue de face d'un masque de phase selon un deuxième mode de réalisation de l'invention.

La figure 12 est une vue partielle de face d'une matrice de Bayer, montrant également une répartition d'énergie projetée sur cette matrice de Bayer par le masque de phase selon le deuxième mode de réalisation de l'invention.

Les figures 13 et 14 sont respectivement une vue de profil et une vue de face d'un masque de phase selon un troisième mode de réalisation de l'invention.

La figure 15 est une vue de profil d'un masque de phase selon un quatrième mode de réalisation de l'invention.

La figure 16 est une vue en perspective d'un masque de phase selon un cinquième mode de réalisation de l'invention.

• La figure 17 est une vue partielle de face d'une matrice de Bayer, montrant également une répartition d'énergie projetée sur cette matrice de Bayer par le masque de phase selon le cinquième mode de réalisation de l'invention.

Sur l'ensemble des figures, les éléments similaires portent des références identiques.

DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION

En référence à la figure 1 , un capteur d'image 1 comprend un système optique 2a représenté ici par ses plans principaux H et H', une pupille du système optique 2b, un masque de phase 2c, une matrice de Bayer 4, un photodétecteur 6 et une unité de traitement d'image 8.

La matrice de Bayer 4 est conventionnelle. Elle comprend une pluralité de filtres optiques agencés sur une grille rectangulaire de dimensions N x M suivant un plan défini par deux axes : un axe X et un axe Y perpendiculaire à l'axe X (seul l'axe Y étant visible sur la figure 1 ).

Le photodétecteur 6 est agencé en aval de la matrice de Bayer 4.

Le photodétecteur 6, conventionnel, comprend typiquement une surface photosensible recouverte par la matrice de Bayer 4.

Le photodétecteur 6 est adapté pour générer, pour chaque filtre optique de la matrice de Bayer 4, un signal électrique à partir d'un signal optique ayant traversé le filtre optique.

L'unité de traitement d'image 8, également conventionnelle, est configurée pour appliquer aux différents signaux électriques générés par le photodétecteur 6 un traitement d'image connu en lui-même permettant de construire une image constituée de N x M pixels, chaque pixel correspondant à l'un des filtres optiques de la matrice de Bayer 4.

L'unité de traitement d'image 8 comprend par exemple au moins un processeur exécutant un programme de traitement d'image configuré à cet effet.

Le système optique 2a et le masque de phase 2c présentent un axe optique Z.

Le système optique 2a est agencé en amont de la matrice de Bayer 4, de sorte que la matrice de Bayer 4 soit au plan focal image du système optique 2a. Le plan focal image du système optique 2a est donc le plan (X, Y).

Le masque de phase 2c est positionné en amont de la matrice de Bayer 4 et de préférence agencé sur une pupille du système optique 2b.

La pupille 2b peut être indifféremment la pupille d'entrée, c'est-à-dire l'image du diaphragme d'ouverture à travers la partie du système optique 2a située en amont, ou bien la pupille de sortie, c'est-à-dire l'image du diaphragme d'ouverture à travers la partie du système optique située en aval, ou encore une pupille intermédiaire, c'est-à-dire l'image du diaphragme d'ouverture pour une partie seulement des éléments du système optique. L'homme du métier reconnaîtra les définitions usuelles et saura que les pupilles d'entrée, de sortie et intermédiaires sont les conjuguées les unes des autres par les éléments du système optique qui les séparent.

Le masque de phase 2c est agencé de sorte à pouvoir transmettre le signal optique des différentes bandes de longueur d'onde. Dans la suite, on considérera une première bande comprenant la longueur d'onde λ1 et une deuxième bande comprenant la longueur d'onde λ2.

Le masque de phase 2c est conçu de façon à introduire dans la pupille un ensemble de différences de marche 0DM, homogènes à des épaisseurs optiques, habituellement données en unités métriques « mètre ».

Le masque de phase 2c est conçu de façon à ce que l'ensemble de différences de marche 0DM vu par chaque bande de longueur d'onde correspondent à deux déphasages Δλ1 et Δλ2, habituellement mesurés en radians. Dans le cas particulier où λ12 = 1/2, il est évident pour l'homme du métier que Δλ2= Δλ1/2.

Il est à noter que chacun des déphasages peut s'implémenter modulo(2*n), et donc s'écrire Δλη= ΔληΓ6ί+^2*π, avec k entier. Par défaut dans les modes de réalisation ci-après, k sera pris égal à 0 et Δλη= ΔληΓ6ί·

En référence à la figure 2, la matrice de Bayer 4 comprend au moins les neuf filtres optiques suivants :

• un filtre optique de référence B1 , configuré pour éliminer ou atténuer dans un signal optique reçu une première bande de longueurs d 'onde, mais pour laisser passer une deuxième bande de longueurs d'onde,

• huit filtres optiques B2, B3 adjacents au filtre optique de référence B1 .

Les neufs filtres B1 , B2, B3 sont alignés de façon à former un damier 3 x 3, par exemple carré lorsque les filtres optiques sont eux-mêmes carrés.

Les huit filtres optiques adjacents B2, B3 comprennent quatre premiers filtres optiques adjacents B2 configurés pour laisser passer dans le signal optique reçu la première bande de longueurs d'onde, et pour éliminer ou atténuer la deuxième bande de longueurs d'onde. Les quatre premiers filtres adjacents B2 sont connexes au filtre B1 : ils sont agencés respectivement à gauche, à droite, au-dessus et en dessous du filtre B1 .

Les huit filtres optiques adjacents B2, B3 comprennent par ailleurs quatre deuxièmes filtres optiques adjacents B3 configurés pour laisser passer dans le signal optique reçu la deuxième bande de longueurs d'onde, et pour éliminer ou atténuer la première bande de longueurs d'onde. Ils sont donc du même type que le filtre de référence B1. Les quatre

deuxièmes filtres adjacents B2 sont agencés aux quatre coins du damier 3 x 3 formé par les neufs filtres B1 , B2, B3.

Par exemple, la première bande est choisie dans la bande infrarouge « SWIR » (« Short -wavelength infrared ») et la deuxième bande choisie dans la bande infrarouge « MWIR » (« Mid-wavelength infrared »).

Le masque de phase 2c est configuré pour projeter au moins 98 % de l'énergie transportée par un signal optique dans la première bande de longueurs d'onde et 98 % de l'énergie transportée par un signal optique dans la seconde bande de longueurs d'onde sélectivement sur le filtre optique de référence B1 et sur au moins un des huit filtres optique adjacents B2 et B3. Par convention, on appelle dans la suite « énergie utile » les 98 % de cette énergie totale. La zone de la matrice de Bayer 4 dans laquelle cette énergie utile est projetée est inscrite dans le cercle dessiné en pointillés sur la figure 3.

L'image d'un point par un système optique n'étant pas un point mais une figure de diffraction qui, au mieux, est une tache d'Airy dont les dimensions sont imposées par la longueur d'onde du rayonnement, on considère habituellement sa taille définie au premier minimum de ce profil (en partant du centre de la tache, aussi appelé 1 er anneau sombre). L'intégrale de l'énergie sur ce disque centré sur la tache correspond environ à 98% de l'énergie totale.

On a représenté en figures 4 et 5 un premier mode de réalisation de masque de phase 2c permettant de mettre en œuvre une telle projection.

Le masque de phase 2c selon ce premier mode de réalisation se présente sous la forme d'une lame de phase 10 comprenant une surface amont 12 et une surface aval 14 opposée à la surface amont 12. Les deux surfaces 12, 14 sont orientées de façon que le signal optique pénètre dans la lame 10 par la surface amont 12, et en ressorte par la surface aval 14. La surface aval 14 est agencée en regard de la matrice de Bayer 4.

Les deux surfaces 12, 14 sont planes, et s'étendent dans des plans respectifs parallèles au plan (X, Y) de la matrice de Bayer 4.

Le masque de phase 2c comprend un bossage 16 faisant saillie depuis la surface amont 12 plane. Le bossage 16 présente quatre faces planes opposées deux à deux 18a-18d. Les faces 18a-18d sont reliées entre elles par des arrondis 20. Ces arrondis ont pour effet d'éviter des pics de diffraction incontrôlés.

En définitive, le bossage présente une forme globale de pyramide 18a-18d à quatre faces, dont les arêtes et l'apex seraient usinées pour former les arrondis 20.

Le bossage 16 présente une forme invariante par rotation de 90 degrés autour de l'axe Z normal à la surface plane amont 12.

Le bossage 16 n'est pas de révolution : il présente une première largeur mesurée parallèlement à l'axe X ou Y, et une deuxième largeur mesurée suivant un axe diagonal des axes X et Y et qui est plus grande que la première largeur.

Les dimensions du bossage sont adaptées de sorte que le masque de phase 2c déphase un signal optique dans la première bande de longueurs d'ondes (comprenant λ ) selon le déphasage d suivant, fonction des coordonnées d'incidence (x, y) de ce signal optique sur la surface amont du masque de phase 2c :

d = A l (x, y)/n = max(l - 0.80 * sin(x2 + y2) + 0.84 * cos(x + y4), 0)

Comme l'illustre la figure 6, la courbe de déphasage dans le plan (X, Z) ou dans le plan (Y, Z) est différente de la courbe de déphasage induit par le masque de phase 2c dans un plan défini par l'axe Z mais tourné de 45° autour de l'axe Z par rapport au plan (X, Z).

La fonction d'étalement de point (réponse impulsionnelle, en anglais PSF pour « Point Spread Function ») du masque de phase 2c pour le signal optique dans la première bande de longueur d'onde est représentée en figures 7 et 8. On remarque que cette fonction définit une croix dans un plan parallèle au plan (X, Y).

En conséquence, un signal optique ayant traversé le masque de phase 2c peut être projeté sélectivement sur une zone en croix formée couvrant sélectivement le filtre optique de référence B1 et les quatre premiers filtres optiques adjacents B2, comme cela est représenté en figure 9. Dans ce mode de réalisation, les quatre autres filtres optiques adjacents B3 ne reçoivent donc pas l'énergie utile (donc pas d'énergie transportée par le signal optique en la première bande de longueurs d'onde.

De préférence, le masque de phase 2c (notamment son bossage 16) présente une forme adaptée pour qu'au moins 50 % de l'énergie utile soit projetée sur le filtre optique de référence B1 , ce qui correspond à au moins 49 % de l'énergie totale transportée par le signal optique dans la première bande de longueurs d'onde.

De préférence, le masque de phase 2c (notamment son bossage 16) présente une forme adaptée pour que chacun des quatre premiers filtres optiques B2 reçoive au moins 16,7 % de l'énergie utile (correspondant donc à au moins 16,3 % de l'énergie totale).

Le masque de phase est par exemple réalisé en ZnS, avec un indice optique n¾1.M~=2.265 pour λ1 = 2.1 μτη et λ2 = 4.2 μτη.

Soit R la distance entre le point considéré du masque de phase 2c et le centre de la pupille, c'est-à-dire la distance entre le point considéré du masque de phase 2c et à l'axe optique Z illustré sur la figure 1 , et E l'épaisseur de la lame à phase entre ses deux surfaces 12 et 14, mesurée parallèlement à l'axe Z.

A titre d'exemple, lorsque la pupille a un rayon égal à 10 mm, l'épaisseur du masque de phase 2c est choisie de la manière suivante :

• Pour R e [0mm ; 1 .626mm] : Ε+2.493μηη

o ΦΒΜ=2.493*(2.265-1 )=3.15μηη

o Δ¾1/π=3=1 et Δ¾2/π=1.5

• Pour R e[1 .626mm ; 6.335mm] : E

o ΦοΜ=0μηη

o Δλ1/π=0 et Δλ2/π=0

• Pour R e[6.335mm ; 10mm] : Ε+0.831 μηη

o ΦΒΜ=0.831*(2.265-1 )=1 .04μηη

o Δλ1/π=1 et Δλ2/π=0.5

Le fonctionnement du capteur d'image 1 est le suivant.

Un signal optique est reçu par le capteur d'image 1 . Ce signal optique pénètre dans le masque de phase 2c par sa surface amont 12 et notamment son bossage 16. Le signal optique traverse la lame 10 et en ressort par la surface aval 14. Au cours de cette traversée, le signal optique subit un déphasage. Le signal optique est ensuite projeté sur la matrice de Bayer 4, sélectivement sur le filtre optique de référence B1 et les quatre premiers filtres optiques adjacents B2.

Le filtre optique de référence B1 atténue ou élimine, dans le signal optique qu'il reçoit, la première bande de longueurs d'ondes comprenant Àl f mais laisse passer la deuxième bande de longueurs d'onde comprenant λ2. Le signal optique ainsi filtré est détecté par le photodétecteur 6, converti en un signal électrique, puis transmis à l'unité de traitement d'image 8.

Par ailleurs, chacun des premiers filtres optiques B2 atténue ou élimine, dans le signal optique qu'il reçoit, la deuxième bande de longueurs d'ondes comprenant λ2, mais laisse passer la première bande de longueur d'onde comprenant λ1. Le signal optique ainsi filtré est détecté par le photodétecteur 6, converti en un signal électrique, puis transmis à l'unité de traitement d'image 8.

Les cinq signaux électriques générés par le photodétecteur 6 sont combinés selon une méthode connue en elle-même par l'unité de traitement d'image pour produire une couleur associée à un pixel d'une image.

Dans ce qui précède, il a été supposé que la matrice de Bayer ne comprend que 9 filtres optiques disposés en damier 3 x 3. Bien entendu, la matrice de Bayer peut comprendre bien davantage de filtres optiques. Le capteur d'image comprend alors non pas un seul masque 2, mais autant de masques 2 qu'il existe de filtres optiques comprenant 8 voisins dans la matrice de Bayer 4, et par conséquent susceptibles d'être considérés comme des filtres optiques de référence B1.

Les étapes qui précèdent sont ainsi mises en œuvre pour chaque filtre optique susceptible d'être considéré comme un filtre optique de référence, de sorte obtenir en sortie de l'unité de traitement d'image 8, une pluralité de couleurs de pixels, les pixels formant une image complète.

On a représenté en figures 10 et 1 1 un deuxième mode de réalisation de masque de phase 22 permettant de mettre en œuvre une projection de 98 % de l'énergie d'un signal optique transportée dans la première bande de longueurs d'onde sélectivement sur le filtre optique de référence B1 et sur au moins un filtre optique adjacent. Ce masque de phase 22 peut remplacer le masque de phase 2c dans le capteur représenté sur la figure 1 .

Le masque de phase 22 diffère du masque de phase 2c selon le premier mode de réalisation par le fait qu'il comprend deux bossages 24, 26 faisant chacun saillie depuis la surface plane amont 12, et non un seul : un bossage central 24 et un bossage périphérique 26.

Le bossage central 24 présente une forme cylindrique de révolution autour de l'axe Z. Le bossage central 24 présente un sommet plan et parallèle à la surface amont 12. Le bossage central présente une hauteur mesurée parallèlement à l'axe Z entre la surface amont et son sommet égale à une valeur H1 .

Le bossage périphérique 26 présente une forme annulaire ou de couronne, de révolution autour de l'axe Z. Ce bossage périphérique 26 se trouve autour et à distance du bossage central 24. Le bossage périphérique 26 présent un sommet plan et parallèle à la surface amont 22. Le bossage périphérique 26 présente une hauteur mesurée parallèlement à l'axe Z entre la surface amont et son sommet égale à une valeur H2 inférieure à H1.

Le masque de phase 22 selon ce deuxième mode de réalisation est adapté pour projeter l'énergie utile dans tout le cercle dont le périmètre est dessiné en pointillés sur la figure 12. Autrement dit, contrairement au masque de phase 2c selon le premier mode de réalisation, de l'énergie est reçue par les neuf filtres optiques B1 , B2, B3 lorsque le masque de phase 22 est utilisé.

De préférence, la forme des bossages 24, 26 est ajustée de sorte que le masque de phase 22 projette au moins un tiers de l'énergie utile sur le filtre optique de référence B1 (donc au moins 29 % de l'énergie totale transportée par le signal optique dans la première bande de longueurs d'onde).

De préférence, la forme des bossages 24, 26 est ajustée de sorte que le masque de phase 22 projette au moins 60 % de l'énergie utile sur les quatre filtres optiques adjacents (ce qui représente environ 58 % de l'énergie totale). Par exemple, l'axe Z passe par le centre du filtre de référence, afin que chacun des quatre filtres optiques adjacents reçoive 15 % de l'énergie utile. Les quatre autres filtres optiques adjacents reçoivent chacun dans ce cas 2,5 % de l'énergie utile.

Le masque de phase 22 selon le deuxième mode de réalisation présente l'avantage d'être plus simple à fabriquer que le masque 2 selon le premier mode de réalisation.

On a représenté en figures 1 3 et 14 un troisième mode de réalisation de masque de phase 28 permettant de mettre en œuvre une projection de 98 % de l'énergie d'un signal optique transportée dans la première bande de longueurs d'onde sélectivement sur le filtre optique de référence B1 et les huit filtres optiques adjacents B2, B3, tout comme le masque 22 selon le deuxième mode de réalisation.

Comme le masque 2 selon le premier mode de réalisation, ce masque de phase 28 comprend un unique bossage 30 faisant saillie depuis la surface plane amont 12. Ce bossage 30 présente toutefois une forme conique de révolution autour de l'axe Z. Le profil de ce bossage est triangulaire dans un plan perpendiculaire à la surface amont, comme montré en figure 12.

On a représenté en figure 15 un quatrième mode de réalisation de masque de phase 2c permettant de mettre en œuvre une projection de 98 % de l'énergie d'un signal optique transportée dans la première bande de longueurs d'onde sélectivement sur le filtre optique de référence B1 et les huit filtres optiques adjacents B2, B3, tout comme les masques 22 et 28 selon le deuxième et le troisième mode de réalisation.

Comme le masque selon le premier mode de réalisation, ce masque de phase 2c comprend un unique bossage 34 faisant chacun saillie depuis la surface plane amont. Ce bossage 34 présente toutefois une forme effilée concave. Le profil de ce bossage dans un plan perpendiculaire à la surface amont n'est pas triangulaire mais courbe, comme montré en figure 14.

On a représenté en figure 16 un cinquième mode de réalisation de masque de phase 36 permettant de mettre en œuvre la projection attendue de l'énergie utile.

Le masque de phase 36 présente un profil identique à celui du masque 2c représenté en figure 5. Le masque 36 présente en effet un bossage 38 à profil généralement triangulaire faisant saillie depuis la surface amont 12. Néanmoins, le bossage 38 présente une forme générale de prisme triangulaire et non pyramidale.

Ce prisme triangulaire est défini par une génératrice parallèle à l'une des deux axes X ou Y de la matrice de Bayer.

Le bossage comprend deux faces libres 40, 42 rectangulaires reliées par une arête se trouvant à distance de la surface amont 12 (ces deux faces libres correspondant à deux des trois faces du prisme, la dernière face étant dans le plan de la surface amont 12).

De préférence, les deux faces libres 40, 42 ne sont pas reliés par une arête mais par un arrondi, et/ ou chacune des deux faces libres 40, 42 est reliés à la surface plane 12 par un arrondi. Ces arrondis ont pour effet d'éviter des pics de diffraction incontrôlés.

Lorsque le masque de phase 36 est utilisé dans le capteur d'image 1 représenté en figure 1 , ce masque 36 projette un signal optique incident sur seulement le filtre optique de référence B1 et deux premiers filtres optiques adjacents B2 qui sont connexes au filtre de préférence B1 . Ces trois filtres sont alignés parallèlement à l'un des deux axes X ou Y.

De préférence, le masque de phase 36 est adapté pour au moins 50 % de l'énergie utile sur le filtre optique de référence B1 (donc au moins 49 % de l'énergie totale transportée par le signal optique dans la première bande de longueurs d'onde). Les deux filtres optiques B2 immédiatement à gauche et à droite (ou respectivement en haut et en bas) du filtre B1 reçoivent chacun au moins 25 % de l'énergie utile, comme illustré en figure 17.