Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2019050047) PHENOLIC RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESISTS AND PHOTORESIST COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2019/050047 International Application No.: PCT/JP2018/033712
Publication Date: 14.03.2019 International Filing Date: 11.09.2018
IPC:
C08G 8/10 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
G
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
8
Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
04
of aldehydes
08
of formaldehyde, e.g. of formaldehyde formed in situ
10
with phenol
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004
Photosensitive materials
022
Quinonediazides
023
Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
Applicants:
明和化成株式会社 MEIWA PLASTIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 山口県宇部市大字小串1988番地の20 1988-20, Oaza Kogushi, Ube-shi, Yamaguchi 7550067, JP
Inventors:
黒岩 貞昭 KUROIWA Sadaaki; JP
Agent:
きさらぎ国際特許業務法人 KISARAGI ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町5番地6 あいおいニッセイ同和損保二番町ビル8階 Aioi Nissay Dowa Sonpo Nibancho Bldg. 8F, 5-6, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
Priority Data:
2017-17440111.09.2017JP
Title (EN) PHENOLIC RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESISTS AND PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHÉNOLIQUE POUR PHOTORÉSERVES ET COMPOSITION DE PHOTORÉSERVE
(JA) フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物
Abstract:
(EN) A phenolic resin composition for photoresists, which is characterized by containing a novolac type phenolic resin (A) that is represented by general formula (1) and a novolac type phenolic resin (B) that has at least one of an arylene skeleton and a naphthalene skeleton in the structure in such amounts that the mass ratio of the novolac type phenolic resin (A) to the novolac type phenolic resin (B) is 5-95:95-5. (In general formula (1), each R1 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 (inclusive) carbon atoms, and the plurality of R1 moieties may be the same as or different from each other, provided that at least one of the R1 moieties is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 (inclusive) carbon atoms; each p represents a number of 1 to 3 (inclusive) and the plurality of p's may be the same as or different from each other; each q represents a number of 1 to 3 (inclusive) and the plurality of q's may be the same as or different from each other; p and q satisfy (p + q) ≤ 4; and n represents an integer of 0 or more.)
(FR) L'invention concerne une composition de résine phénolique pour photoréserves, qui est caractérisée en ce qu'elle contient une résine phénolique de type novolaque (A) qui est représentée par la formule générale (1) et une résine phénolique de type novolaque (B) ayant au moins un squelette arylène et/ou un squelette naphtalène dans sa structure, en des quantités telles que le rapport en poids de la résine phénolique de type novolaque (A) à la résine phénolique de type novolaque (B) est de 5-95:95-5. (Dans la formule générale (1), chaque R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle linéaire ou ramifié ayant de 1 à 8 (inclus) atomes de carbone, et la pluralité des fragments R1 peuvent être identiques ou différents les uns des autres, à condition qu'au moins l'un des fragments R1 soit un groupe alkyle linéaire ou ramifié ayant de 1 à 8 (inclus) atomes de carbone ; chaque p représente un nombre de 1 à 3 (inclus) et la pluralité des p peuvent être identiques ou différents les uns des autres ;chaque q représente un nombre de 1 à 3 (inclus) et la pluralité des q peuvent être identiques ou différents les uns des autres ; p et q satisfont (p +q) ≤ 4 ; et n représente un nombre entier supérieur ou égal à 0).
(JA) 一般式(1)で示されるノボラック型フェノール樹脂(A)とアリーレン骨格及びナフタレン骨格のうち少なくとも一つを構造中に含むノボラック型フェノール樹脂(B)とを(A)と(B)との質量比が5~95:95~5となる量で含むことを特徴とするフォトレジスト用フェノール樹脂組成物である。  (一般式(1)中、Rは、水素、又は炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基を表し、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、Rの少なくとも一つは炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基である。pは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。qは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、p+q≦4である。nは、0以上の整数を表す。)
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)