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1. (WO2019048295) LITHOGRAPHIC METHOD AND APPARATUS
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Pub. No.: WO/2019/048295 International Application No.: PCT/EP2018/073173
Publication Date: 14.03.2019 International Filing Date: 29.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
KOLLER, Paulus, Hubertus, Petrus; NL
SPIJKMAN, Mark-Jan; NL
BASELMANS, Johannes, Jacobus, Matheus; NL
Agent:
KETTING, Alfred; NL
Priority Data:
17189827.307.09.2017EP
Title (EN) LITHOGRAPHIC METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUES
Abstract:
(EN) A method of determining a sensor contribution to a measurement of apodization. The method comprises directing a radiation beam through an aperture when the aperture is in a first configuration having a first aperture diameter, the first aperture diameter being smaller than a diameter of the radiation beam, receiving the radiation beam at the sensor, obtaining a first measurement of an amount of radiation detected by the sensor in a first region of the sensor, wherein the radiation beam is not incident on the first region and determining, based on the first measurement, a sensor contribution to a measurement of apodization.
(FR) L'invention concerne un procédé pour déterminer une contribution d'un capteur à une mesure d'apodisation. Le procédé consiste à diriger un faisceau de rayonnement à travers une ouverture lorsque l'ouverture est dans une première configuration ayant un premier diamètre d'ouverture, le premier diamètre d'ouverture étant plus petit qu'un diamètre du faisceau de rayonnement, à recevoir le faisceau de rayonnement au niveau du capteur, à obtenir une première mesure d'une quantité de rayonnement détecté par le capteur dans une première région du capteur, le faisceau de rayonnement n'étant pas incident sur la première région, et à déterminer, sur la base de la première mesure, une contribution du capteur à une mesure d'apodisation.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)