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1. (WO2019048215) A METHOD OF MEASURING A PARAMETER AND APPARATUS
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Pub. No.: WO/2019/048215 International Application No.: PCT/EP2018/072301
Publication Date: 14.03.2019 International Filing Date: 17.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
DEN BOEF, Arie, Jeffrey; NL
HUISMAN, Simon, Reinald; NL
Agent:
BROEKEN, Petrus; NL
Priority Data:
17189918.007.09.2017EP
Title (EN) A METHOD OF MEASURING A PARAMETER AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE D'UN PARAMÈTRE ET APPAREIL
Abstract:
(EN) A method of determining a parameter of a patterning process applied to an object comprising two features (for example an overlay of the two features) comprises: irradiating the two features of the object with a radiation beam and receiving at least a portion of the radiation beam scattered from the two features of the object. The at least a portion of the radiation beam comprises: a first portion comprising at least one diffraction order and a second portion comprising at least one diffraction order that is different to a diffraction order of the first portion. The method further comprises moderating a phase difference between the first and second portions and combining the first and second portions such that they interfere to produce a time dependent intensity signal. The method further comprises determining the parameter of the patterning process from a contrast of the time dependent intensity signal.
(FR) L'invention concerne un procédé de détermination d'un paramètre d'un processus de formation de motifs appliqué à un objet comprenant deux caractéristiques (par exemple une superposition des deux caractéristiques), lequel consiste à: irradier les deux caractéristiques de l'objet avec un faisceau de rayonnement et recevoir au moins une partie du faisceau de rayonnement diffusé à partir des deux caractéristiques de l'objet. Ladite au moins une partie du faisceau de rayonnement comprend : une première partie comprenant au moins un ordre de diffraction et une seconde partie comprenant au moins un ordre de diffraction qui est différent d'un ordre de diffraction de la première partie. Le procédé consiste en outre à modérer une différence de phase entre les première et seconde parties et à combiner les première et seconde parties de telle sorte qu'elles interfèrent pour produire un signal d'intensité dépendant du temps. Le procédé consiste en outre à déterminer le paramètre du processus de formation de motifs à partir d'un contraste du signal d'intensité dépendant du temps.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)