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1. (WO2019048145) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
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Pub. No.: WO/2019/048145 International Application No.: PCT/EP2018/071069
Publication Date: 14.03.2019 International Filing Date: 02.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus; NL
JAK, Martin, Jacobus, Johan; NL
BHATTACHARYYA, Kaustuve; NL
Agent:
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
Priority Data:
17190401.411.09.2017EP
17193415.127.09.2017EP
Title (EN) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
(FR) MÉTROLOGIE DANS DES PROCÉDÉS LITHOGRAPHIQUES
Abstract:
(EN) An apparatus and method for estimating a parameter of a lithographic process and an apparatus and method for determining a relationship between a measure of quality of an estimate of a parameter of a lithographic process are provided. In the apparatus for estimating the parameter a processor is configured to determine a quality of the estimate of the parameter relating to the tested substrate based on a measure of feature asymmetry in the at least first features of the tested substrate and further based on a relationship determined for a plurality of corresponding at least first features of at least one further substrate representative of the tested substrate, the relationship being between a measure of quality of an estimate of the parameter relating to the at least one further substrate and a measure of feature asymmetry in the corresponding first features.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé pour estimer un paramètre d'un processus lithographique ainsi qu'un appareil et un procédé pour déterminer une relation entre une mesure de qualité d'une estimation d'un paramètre d'un processus lithographique. Dans l'appareil pour estimer le paramètre, un processeur est conçu pour déterminer une qualité de l'estimation du paramètre relatif au substrat testé sur la base d'une mesure d'asymétrie de caractéristique dans au moins les premières caractéristiques du substrat testé et, en outre, sur la base d'une relation déterminée pour au moins une pluralité de premières caractéristiques correspondantes d'au moins un autre substrat représentatif du substrat testé, la relation étant entre une mesure de qualité d'une estimation du paramètre relatif à l'autre ou aux autres substrats et une mesure d'asymétrie de caractéristique dans les premières caractéristiques correspondantes.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)