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1. (WO2019046148) MULTIPLE TRIGGER MONOMER CONTAINING PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHOD
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Pub. No.: WO/2019/046148 International Application No.: PCT/US2018/048056
Publication Date: 07.03.2019 International Filing Date: 27.08.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004
Photosensitive materials
04
Chromates
Applicants:
ROBINSON, Alex, Phillip Graham [GB/GB]; GB
MCCLELLAND, Alexandra [GB/GB]; GB
FROMMHOLD, Andreas [DE/DE]; DE
YANG, Dongxu [CN/GB]; GB
ROTH, John, L. [US/US]; US
URE, David [GB/US]; US
Inventors:
ROBINSON, Alex, Phillip Graham; GB
MCCLELLAND, Alexandra; GB
FROMMHOLD, Andreas; DE
YANG, Dongxu; GB
ROTH, John, L.; US
URE, David; US
Agent:
SHELNUT, James; US
Priority Data:
15/687,44926.08.2017US
Title (EN) MULTIPLE TRIGGER MONOMER CONTAINING PHOTORESIST COMPOSITIONS AND METHOD
(FR) COMPOSITIONS DE PHOTORÉSINE CONTENANT DES MONOMÈRES À DÉCLENCHEMENT MULTIPLE ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
Abstract:
(EN) The present disclosure relates to novel multiple trigger monomer containing negative working photoresist compositions and processes. The processes involve removing acid-labile protecting groups from crosslinking functionalities in a first step and crosslinking the crosslinking functionality with an acid sensitive crosslinker in a second step. The incorporation of a multiple trigger pathway in the resist catalytic chain increases the chemical gradient in areas receiving a low dose of irradiation, effectively acting as a built in dose depend quencher- analog and thus enhancing chemical gradient and thus resolution, resolution blur and exposure latitude. The photoresist compositions utilize novel monomers and mixtures of novel monomers. The methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.
(FR) La présente invention concerne des procédés et des compositions de photorésine négative contenant des monomères novateurs à déclenchement multiple. Les procédés consistent à éliminer des groupes protecteurs labiles acides de fonctionnalités de réticulation dans une première étape et à réticuler la fonctionnalité de réticulation avec un agent de réticulation sensible à l'acide dans une seconde étape. L'incorporation d'une voie à déclenchement multiple dans la chaîne catalytique de la photorésine accroît le gradient chimique dans les zones recevant une faible dose de rayons, agissant ainsi efficacement en tant qu’analogue d'extinction dépendant de la dose intégré et améliorant ainsi le gradient chimique et donc, la résolution, le flou de résolution et la latitude d'exposition. Les compositions de photorésine utilisent des monomères novateurs et des mélanges de monomères novateurs. Les procédés sont idéaux pour le traitement de motifs fins, par exemple à l'aide de rayons ultraviolets, de rayons ultraviolets extrêmes, de rayons au-delà de l'ultraviolet extrême, de rayons X et de rayons de particules chargées.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)