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1. (WO2019044438) LIQUID OVERBASED METAL COMPLEX-CONTAINING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID OVERBASED METAL COMPLEX
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Pub. No.: WO/2019/044438 International Application No.: PCT/JP2018/029760
Publication Date: 07.03.2019 International Filing Date: 08.08.2018
IPC:
C07F 3/00 (2006.01) ,C07C 39/235 (2006.01) ,C07C 57/12 (2006.01) ,C08K 5/109 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
07
ORGANIC CHEMISTRY
F
ACYCLIC, CARBOCYCLIC, OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
3
Compounds containing elements of the 2nd Group of the Periodic System
C CHEMISTRY; METALLURGY
07
ORGANIC CHEMISTRY
C
ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
39
Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
235
Metal derivatives of a hydroxy group bound to a six-membered aromatic ring
C CHEMISTRY; METALLURGY
07
ORGANIC CHEMISTRY
C
ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
57
Unsaturated compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms
02
with only carbon-to-carbon double bonds as unsaturation
03
Monocarboxylic acids
12
Straight chain carboxylic acids containing eighteen carbon atoms
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
K
USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES AS COMPOUNDING INGREDIENTS
5
Use of organic ingredients
04
Oxygen-containing compounds
10
Esters; Ether-esters
109
of carbonic acid
Applicants:
堺化学工業株式会社 SAKAI CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府堺市堺区戎島町5丁2番地 5-2, Ebisujima-cho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908502, JP
Inventors:
大北 浩正 OKITA, Hiromasa; JP
近藤 雅道 KONDO, Masamichi; JP
Agent:
特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
Priority Data:
2017-16861601.09.2017JP
Title (EN) LIQUID OVERBASED METAL COMPLEX-CONTAINING COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID OVERBASED METAL COMPLEX
(FR) COMPOSITION CONTENANT UN COMPLEXE MÉTALLIQUE SURBASÉ LIQUIDE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPLEXE MÉTALLIQUE SURBASÉ LIQUIDE
(JA) 液状過塩基性金属錯体含有組成物及び液状過塩基性金属錯体の製造方法
Abstract:
(EN) The present invention provides: a method for producing a carboxylate/carbonate complex of a group 2 element of the periodic table, while suppressing the formation of a precipitate of a carbonate salt; and a high-quality carboxylate/carbonate complex of a group 2 element of the periodic table, which contains a small amount of precipitate of a carbonate salt. The present invention relates to a method for producing a liquid overbased metal complex that has a carboxylate/carbonate complex structure and/or phenate/carbonate complex structure of a group 2 metal atom of the periodic table. This method for producing a liquid overbased metal complex comprises: a first step wherein a hydroxide of a group 2 metal atom of the periodic table, a hydrocarbon-based solvent having a boiling point of 150°C or higher, a monohydric alcohol having 8-20 carbon atoms, a carboxyl group-containing compound and/or a phenolic compound, and a surfactant having an HLB of 10 or more are mixed with each other so as to produce a carboxylate and/or phenate of the metal atom; and a second step wherein carbon dioxide is added to the carboxylate and/or phenate of the group 2 metal atom of the periodic table obtained in the first step so as to produce a carboxylate/carbonate complex structure and/or phenate/carbonate complex structure of the metal atom of the periodic table.
(FR) La présente invention concerne : un procédé de production d'un complexe carboxylate/carbonate d'un élément du groupe 2 de la classification périodique, tout en supprimant la formation d'un précipité d'un sel de carbonate ; et un complexe carboxylate/carbonate de haute qualité d'un élément du groupe 2 de la classification périodique, qui contient une petite quantité de précipité d'un sel de carbonate. La présente invention concerne un procédé de production d'un complexe métallique surbasé liquide qui a une structure complexe carboxylate/carbonate et/ou une structure complexe phénate/carbonate d'un atome métallique du groupe 2 de la classification périodique. Le procédé de production d'un complexe métallique surbasé liquide, selon la présente invention comprend : une première étape dans laquelle un hydroxyde d'un atome métallique du groupe 2 de la classification périodique, un solvant à base d'hydrocarbure ayant un point d'ébullition de 150 °C ou plus, un alcool monohydrique ayant de 8 à 20 atomes de carbone, un composé contenant un groupe carboxyle et/ou un composé phénolique, et un tensioactif ayant un HLB de 10 ou plus sont mélangés l'un à l'autre de façon à produire un carboxylate et/ou un phénate de l'atome métallique ; et une seconde étape dans laquelle du dioxyde de carbone est ajouté au carboxylate et/ou au phénate de l'atome métallique du groupe 2 de la classification périodique obtenu dans la première étape de façon à produire une structure complexe carboxylate/carbonate et/ou une structure complexe phénate/carbonate de l'atome métallique de la classification périodique.
(JA) 本発明は、炭酸塩の沈殿物の生成を抑制して、周期表第2族元素のカルボキシレート/カーボネート錯体を製造する方法、及び、炭酸塩の沈殿物の含有量の少ない、高い品質の周期表第2族元素のカルボキシレート/カーボネート錯体を提供する。 本発明は、周期表第2族の金属原子のカルボキシレート/カーボネート錯体構造、及び/又は、フェネート/カーボネート錯体構造を有する液状過塩基性金属錯体を製造する方法であって、該製造方法は、周期表第2族の金属原子の水酸化物と、沸点が150℃以上の炭化水素系溶媒、炭素数8~20の1価アルコール、カルボキシル基含有化合物及び/又はフェノール系化合物、並びに、HLBが10以上の界面活性剤を混合して該金属原子のカルボキシレート及び/又はフェネートを生成させる第1の工程と、該第1の工程で得られた周期表第2族の金属原子のカルボキシレート及び/又はフェネートに二酸化炭素を添加して該金属原子のカルボキシレート/カーボネート錯体構造、及び/又は、フェネート/カーボネート錯体構造を生成させる第2の工程とを含む液状過塩基性金属錯体の製造方法に関する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)