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1. WO2019041797 - ETCHING METHOD FOR ELECTRODE FOIL FOR LOW-CONTACT RESISTANCE LOW-VOLTAGE ALUMINUM ELECTROLYTIC CAPACITOR

Publication Number WO/2019/041797
Publication Date 07.03.2019
International Application No. PCT/CN2018/080808
International Filing Date 28.03.2018
IPC
H01G 9/055 2006.01
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
9Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
004Details
04Electrodes
048characterised by their structure
055Etched foil electrodes
C23F 1/20 2006.01
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACES; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25247
1Etching metallic material by chemical means
10Etching compositions
14Aqueous compositions
16Acidic compositions
20for etching aluminium or alloys thereof
CPC
C23F 1/20
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE
1Etching metallic material by chemical means
10Etching compositions
14Aqueous compositions
16Acidic compositions
20for etching aluminium or alloys thereof
H01G 9/055
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
9Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
004Details
04Electrodes ; or formation of dielectric layers thereon
048characterised by their structure
055Etched foil electrodes
Applicants
  • 南通海星电子股份有限公司 NANTONG HAIXING ELECTRONICS LIMITED LIABILITY COMPANY [CN]/[CN]
  • 南通海一电子有限公司 NANTONG HAIYI ELECTRONICS CO., LIMITED [CN]/[CN]
Inventors
  • 严季新 YAN, Jixin
  • 陈健 CHEN, Jian
  • 王建中 WANG, Jianzhong
  • 赵宇飞 ZHAO, Yufei
  • 吴春春 WU, Chunchun
  • 冒慧敏 MAO, Huimin
Agents
  • 南京正联知识产权代理有限公司 NANJING ZHENGLIAN INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY CO., LTD.
Priority Data
201710765155.830.08.2017CN
Publication Language Chinese (ZH)
Filing Language Chinese (ZH)
Designated States
Title
(EN) ETCHING METHOD FOR ELECTRODE FOIL FOR LOW-CONTACT RESISTANCE LOW-VOLTAGE ALUMINUM ELECTROLYTIC CAPACITOR
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE POUR FEUILLE D'ÉLECTRODE POUR CONDENSATEUR ÉLECTROLYTIQUE EN ALUMINIUM BASSE TENSION À FAIBLE RÉSISTANCE DE CONTACT
(ZH) 一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法
Abstract
(EN)
Disclosed is an etching method for an electrode foil for a low-contact resistance low-voltage aluminum electrolytic capacitor, comprising the steps of: performing a pretreatment by means of immersion in a sodium hydroxide solution; performing power-on etching for 10-85 seconds in a hydrochloric acid and sulfuric acid solution; immersing in the hydrochloric acid and sulfuric acid solution for 10-85 seconds, rinsing by means of tap water, and repeating the etching, immersion and rinsing steps four times; performing pore broadening power-on etching for 10-85 seconds in a hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid etching liquid, immersing for 10-85 seconds in the hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid etching liquid, rinsing by means of tap water, and repeating the etching, immersion and rinsing steps eight times; and immersing by means of a hydrochloric acid solution, immersing by means of a nitric acid solution, rinsing by means of pure water, and then performing an annealing treatment. The etching method utilizes multi-level pore-forming multi-level low frequency pore broadening to control the etched morphology, and correspondingly performs multiple steps of treatments in a bath solution and warm rinsing to enable the aluminium powder and foreign ions to be fully rinsed during the etching process in order to finally obtain an electrode foil for a low-contact resistance low-voltage aluminium electrolytic capacitor, wherein the electrode foil is uniform in terms of the thickness of the residual core layer, is suitable in terms of the aluminium content in the etched layer, and is low in terms of the aluminium powder and foreign ion contents, and the contact resistance, after formation, can be reduced by 40% or more.
(FR)
L'invention concerne un procédé de gravure pour une feuille d'électrode pour un condensateur électrolytique en aluminium basse tension à faible résistance de contact, comprenant les étapes consistant à : effectuer un prétraitement par immersion dans une solution d'hydroxyde de sodium ; effectuer une gravure de puissance pendant 10 à 85 secondes dans une solution d'acide chlorhydrique et d'acide sulfurique ; immerger dans l'acide chlorhydrique et la solution d'acide sulfurique pendant 10 à 85 secondes, rincer au moyen d'eau du robinet, et répéter les étapes de gravure, d'immersion et de rinçage quatre fois ; effectuer une gravure de puissance d'élargissement de pores pendant 10 à 85 secondes dans un acide chlorhydrique, de l'acide sulfurique et un liquide de gravure d'acide phosphorique, immerger pendant 10 à 85 secondes dans l'acide chlorhydrique, l'acide sulfurique et le liquide de gravure d'acide phosphorique, rincer au moyen d'eau du robinet, et répéter les étapes de gravure, d'immersion et de rinçage huit fois ; et immerger au moyen d'une solution d'acide chlorhydrique, immerger au moyen d'une solution d'acide nitrique, rincer au moyen d'eau pure, puis effectuer un traitement de recuit. Le procédé de gravure utilise un élargissement de pores basse fréquence multi-niveaux formant des pores multi-niveaux pour commander la morphologie gravée, et réalise de manière correspondante de multiples étapes de traitements dans une solution de bain et un rinçage à chaud pour permettre à la poudre d'aluminium et aux ions étrangers d'être complètement rincés pendant le processus de gravure afin d'obtenir finalement une feuille d'électrode pour un condensateur électrolytique d'aluminium basse tension à faible résistance de contact, la feuille d'électrode étant uniforme en termes d'épaisseur de la couche centrale résiduelle, étant appropriée en termes de teneur en aluminium dans la couche gravée, et étant faible en termes de poudre d'aluminium et de contenu d'ions étrangers, et la résistance de contact, après la formation, pouvant être réduite de 40 % ou plus.
(ZH)
本发明公开了一种低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔腐蚀方法,包括以下步骤:用氢氧化钠溶液浸泡前处理;盐酸、硫酸溶液加电腐蚀10~85秒,盐酸、硫酸溶液浸泡10~85秒,自来水清洗,重复腐蚀、浸泡及清洗步骤4次;在盐酸、硫酸及磷酸腐蚀液中进行扩孔加电腐蚀10~85秒,盐酸、硫酸及磷酸溶液浸泡10~85秒,自来水清洗,重复腐蚀、浸泡及清洗步骤8次;采用盐酸溶液浸泡、硝酸溶液浸泡,纯水清洗后退火处理。本发明采用多级发孔多级低频扩孔控制腐蚀形貌,并对应进行多步槽液中处理及温水清洗,使腐蚀过程的铝粉及杂质离子得到充分清洗,最终得到残芯层厚度均匀、腐蚀层铝含量适中、铝粉及杂质离子含量低的低接触电阻低压铝电解电容器用电极箔,化成后接触电阻可降低40%以上。
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