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1. (WO2019041496) PHOTORESIST BAKING DEVICE
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Pub. No.: WO/2019/041496 International Application No.: PCT/CN2017/107512
Publication Date: 07.03.2019 International Filing Date: 24.10.2017
IPC:
F26B 23/06 (2006.01) ,F26B 25/10 (2006.01)
F MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
26
DRYING
B
DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
23
Heating arrangements
04
using electric heating
06
resistance heating
F MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
26
DRYING
B
DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
25
Details of general application not covered by group F26B21/ or F26B23/112
06
Chambers, containers, or receptacles
08
Parts thereof
10
Floors, roofs, or bottoms; False bottoms
Applicants:
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 光明新区公明街道塘明大道9-2号 No. 9-2, Tangming Road, Gongming Street, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132, CN
Inventors:
陈仲仁 CHEN, Chung-jen; CN
林明文 LIN, Ming-wen; CN
李彦泽 LI, Yan-ze; CN
伍池林 WU, Chilin; CN
吴智坤 WU, Zhikun; CN
Agent:
深圳市铭粤知识产权代理有限公司 MING & YUE INTELLECTUAL PROPERTY LAW FIRM; 中国广东省深圳市 南山区南山街道前海路泛海城市广场2栋604室 Room 604 Building 2, Oceanwide City Square, Qianhai Road, Nanshan Street, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518066, CN
Priority Data:
201710779911.201.09.2017CN
Title (EN) PHOTORESIST BAKING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE CUISSON AU FOUR DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(ZH) 光阻烘烤设备
Abstract:
(EN) A photoresist baking device comprises a baking chamber (1) having an air inlet (2) and an air outlet (3), and an upper cover (11) connected to and sealing the baking chamber (1). The upper cover (11) is used to guide hot air that has entered the baking chamber (1). The upper cover (11) is further provided with a heating device (4) to maintain a temperature of the hot air. In the invention, a heating device (4) provided at an upper cover (11) can heat hot air blown toward the upper cover (11), such that the hot air has a constant temperature when flowing toward an air outlet (3), thereby preventing a volatile substance of the photoresist from condensing and dripping due to a temperature change after touching the upper cover (11).
(FR) L'invention concerne un dispositif de cuisson au four d'une résine photosensible, le dispositif comprenant une chambre de cuisson (1) comportant une entrée d'air (2) et une sortie d'air (3), et un couvercle supérieur (11) relié à la chambre de cuisson (1) et la rendant étanche. Le couvercle supérieur (11) est utilisé pour guider l'air chaud ayant entré dans la chambre de cuisson (1). Le couvercle supérieur (11) est muni en outre d'un dispositif de chauffage (4) destiné à maintenir une température de l'air chaud. Selon l'invention, le dispositif de chauffage (4), disposé au niveau du couvercle supérieur (11), peut chauffer l'air chaud soufflé vers le couvercle supérieur (11), de sorte que l'air chaud présente une température constante lors de son écoulement vers une sortie d'air (3), empêchant ainsi la condensation et l'égouttement d'une substance volatile de la résine photosensible provoqués par un changement de température après avoir touché le couvercle supérieur (11).
(ZH) 光阻烘烤设备,包括烘烤腔体(1),烘烤腔体(1)上分别设有进风口(2)、出风口(3)以及与其密封连接的上盖(11),该上盖(11)用于对进入烘烤腔体(1)内的热风进行导向,该上盖(11)上还设有用于保持热风温度的加热装置(4)。通过在上盖(11)上设置加热装置(4),使吹向上盖(11)的热风能够被加热,并使流向出风口(3)时,热风的温度始终保持一致,从而避免光阻挥发物在接触到上盖(11)后由于温度的改变导致冷凝滴落。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)