Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2019033502) GAS DIFFUSION DEVICE AND FILM FORMING APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International BureauSubmit observation

Pub. No.: WO/2019/033502 International Application No.: PCT/CN2017/102574
Publication Date: 21.02.2019 International Filing Date: 21.09.2017
IPC:
C23C 16/455 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
23
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C
COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16
Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition (CVD) processes
44
characterised by the method of coating
455
characterised by the method used for introducing gases into the reaction chamber or for modifying gas flows in the reaction chamber
Applicants:
武汉华星光电半导体显示技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室 305 Room, Building C5, Biolake of Optics Valley, No. 666 Gaoxin Avenue, Wuhan East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070, CN
Inventors:
王杲祯 WANG, Gaozhen; CN
Agent:
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) CHINA WISPRO INTELLECTUAL PROPERTY LLP.; 中国广东省深圳市 南山区高新区粤兴三道8号中国地质大学产学研基地中地大楼A806 Room A806 Zhongdi Building, China University of Geosciences Base, No. 8 Yuexing 3rd Road, High-Tech Industrial Estate, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518057, CN
Priority Data:
201710716215.716.08.2017CN
Title (EN) GAS DIFFUSION DEVICE AND FILM FORMING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE DIFFUSION DE GAZ ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(ZH) 气体扩散装置及成膜设备
Abstract:
(EN) A gas diffusion device. The device comprises a cover plate (11), a first diffusion portion (12), and a second diffusion portion (13). The first diffusion portion (12) cooperates with the cover plate (11) to form a first diffusion space (121) and an air inlet (122) in communication with the first diffusion space (121). The second diffusion portion (13) cooperates with the cover plate (11) to form a second diffusion space (131) and an air outlet (132) in communication with the second diffusion space (131). The second diffusion space (131) is in communication with the first diffusion space (121), such that a gas entering from the air inlet (122) is transferred through the first diffusion space (121) and the second diffusion space (131) and then output from the air outlet (132). In a direction from the air inlet (122) to the air outlet (132), a gap height between the first diffusion portion (12) and the cover plate (11) gradually decreases, and a gap height between the second diffusion portion (13) and the cover plates (11) first gradually increases, and then gradually decreases. The device can improve efficiency of uniform gas diffusion and improve gas utilization. Further disclosed is a film forming apparatus comprising the gas diffusion device.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de diffusion de gaz. Le dispositif comprend une plaque de recouvrement (11), une première partie de diffusion (12) et une seconde partie de diffusion (13). La première partie de diffusion (12) coopère avec la plaque de recouvrement (11) pour former un premier espace de diffusion (121) et une entrée d'air (122) en communication avec le premier espace de diffusion (121). La seconde partie de diffusion (13) coopère avec la plaque de recouvrement (11) pour former un second espace de diffusion (131) et une sortie d'air (132) en communication avec le second espace de diffusion (131). Le second espace de diffusion (131) est en communication avec le premier espace de diffusion (121), de telle sorte qu'un gaz entrant par l'entrée d'air (122) circule dans le premier espace de diffusion (121) et dans le second espace de diffusion (131), puis est évacué par la sortie d'air (132). Dans une direction allant de l'entrée d'air (122) à la sortie d'air (132), une hauteur d'espace entre la première partie de diffusion (12) et la plaque de recouvrement (11) diminue progressivement, et une hauteur d'espace entre la seconde partie de diffusion (13) et la plaque de recouvrement (11) augmente d'abord progressivement, puis diminue progressivement. Le dispositif peut améliorer l'efficacité d'une diffusion de gaz uniforme et améliorer l'utilisation d'un gaz. L'invention concerne en outre un appareil de formation de film comprenant le dispositif de diffusion de gaz.
(ZH) 一种气体扩散装置,该装置包括盖板(11)、第一扩散部(12)、第二扩散部(13)。第一扩散部(12)与盖板(11)配合形成第一扩散空间(121)以及与第一扩散空间(121)连通的进气口(122)。第二扩散部(13)与盖板(11)配合形成第二扩散空间(131)以及与第二扩散空间(131)连通的出气口(132),第二扩散空间(131)与第一扩散空间(121)连通,以使得从进气口(122)进入的气体经第一扩散空间(121)和第二扩散空间(131)传输后从出气口(132)输出。其中在从进气口(122)到出气口(132)的方向上,第一扩散部(12)与盖板(11)之间的间隙高度逐渐变小,而第二扩散部(13)与盖板(11)之间的间隙高度先逐渐变大,后逐渐变小。该装置能够提高气体均匀扩散的效率,提升气体的利用率。还公开了一种包括该气体扩散装置的成膜设备。
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)
Also published as:
US20190211447