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1. (WO2019030038) ROTATIONAL RATE SENSOR COMPRISING A SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING A ROTATIONAL RATE SENSOR
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Pub. No.: WO/2019/030038 International Application No.: PCT/EP2018/070575
Publication Date: 14.02.2019 International Filing Date: 30.07.2018
IPC:
G01C 19/5733 (2012.01)
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
C
MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
19
Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
56
Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
5719
using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
5733
Structural details or topology
Applicants:
ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart, DE
Inventors:
LINCK-LESCANNE, Markus; DE
CARDANOBILE, Stefano; DE
Priority Data:
10 2017 213 815.708.08.2017DE
Title (DE) DREHRATENSENSOR MIT EINEM SUBSTRAT, HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR EINEN DREHRATENSENSOR
(EN) ROTATIONAL RATE SENSOR COMPRISING A SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING A ROTATIONAL RATE SENSOR
(FR) CAPTEUR DE VITESSE DE ROTATION COMPORTANT UN SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN CAPTEUR DE VITESSE DE ROTATION
Abstract:
(DE) Es wird ein Drehratensensor (1) mit einem Substrat beansprucht, wobei der Drehratensensor mindestens eine erste Kompensationsstruktur (10) und mindestens eine zweite Kompensationsstruktur (20) umfasst, wobei die erste Kompensationsstruktur (10) durch Anlegen einer Spannung zur Quadraturkompensation in eine erste Richtung und die zweite Kompensationsstruktur (20) durch Anlegen einer weiteren Spannung zur Quadraturkompensation in eine zweite Richtung ausgebildet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Kompensationsstruktur (10) und die zweite Kompensationsstruktur (20) zumindest teileweise aneinander angrenzend als Kompensationsstrukturenpaar (30) ausgebildet sind.
(EN) The invention relates to a rotational rate sensor (1) comprising a substrate, wherein the rotational rate sensor comprises at least one first compensation structure (10) and at least one second compensation structure (20). The first compensation structure (10) is formed by applying a voltage for a quadrature compensating in a first direction, and the second compensation structure (20) is formed by applying another voltage for a quadrature compensation in a second direction. The invention is characterized in that the first compensation structure (10) and the second compensation structure (20) are designed to at least partly adjoin each other as a compensation structure pair (30).
(FR) L’invention concerne un capteur de vitesse de rotation (1) comportant un substrat. Le capteur de vitesse de rotation comprend au moins une première structure de compensation (10) et au moins une deuxième structure de compensation (20). La première structure de compensation (10) est formée par application d’une tension de compensation en quadrature dans une première direction et la deuxième structure de compensation (20) est formée par application d’une autre tension de compensation en quadrature dans une deuxième direction. L’invention est caractérisée en ce que la première structure de compensation (10) et la deuxième structure de compensation (20) sont formées au moins en partie de manière adjacente l’une à l’autre comme une paire de structures de compensation (30).
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Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)