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1. (WO2019029133) PROCESSING METHOD FOR SMD QUARTZ CRYSTAL RESONATOR AND RESONATOR THEREBY
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Pub. No.: WO/2019/029133 International Application No.: PCT/CN2018/073701
Publication Date: 14.02.2019 International Filing Date: 23.01.2018
IPC:
H03H 9/05 (2006.01)
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
9
Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
02
Details
05
Holders; Supports
Applicants:
烟台明德亨电子科技有限公司 MDH TECHNOLOGY CO., LTD [CN/CN]; 中国山东省烟台市 经济技术开发区黑龙江路6号姜洪燕 Hongyan Jiang No.6 Hei Long Jiang Road, Economic-Technological Development Area Yantai, Shandong 264006, CN
Inventors:
黄屹 HUANG, Yi; CN
李斌 LI, Bin; CN
Agent:
烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) YANTAI SHANGHE INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY (GENERAL PARTNERSHIP); 中国山东省烟台 开发区长江路161号天马中心1号1503室王绚 WANG, Xuan Room 1503, 15th Floor, Building 1, Tianma Center, No. 161 Changjiang Road, Economic-Technological Development Area Yantai, Shandong 264006, CN
Priority Data:
201710680528.110.08.2017CN
Title (EN) PROCESSING METHOD FOR SMD QUARTZ CRYSTAL RESONATOR AND RESONATOR THEREBY
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT POUR RÉSONATEUR À CRISTAL DE QUARTZ SMD ET RÉSONATEUR ASSOCIÉ
(ZH) 一种SMD石英晶体谐振器加工方法及其谐振器
Abstract:
(EN) The present invention relates to a processing method for an SMD quartz crystal resonator. The method comprises: providing a monolithic resonator semi-finished product, the monolithic resonator semi-finished product comprising a monolithic base and a monolithic cover covering the monolithic base; and then cutting the monolithic cover on the monolithic resonator to form separate base covers, and spraying protective layers on an upper surface and a cross-section of each base cover. The method for spraying the protective layers comprises: a pretreatment process and a spraying process, wherein the pretreatment process comprises: cleaning, washing, air showering and drying; and the spraying process comprises: spraying a spraying material on the upper surface and the cross-section of each base cover of the monolithic resonator by using an electrostatic spraying process to form coatings, and then curing the coatings to form the protective layers on the upper surface and the cross-section of each base cover. The present invention is aimed to improve the salt mist resistance, and the high temperature and high humidity resistance of the SMD quartz crystal resonator in a severe environment. The present invention further relates to a resonator prepared by the above-mentioned method.
(FR) La présente invention concerne un procédé de traitement pour un résonateur à cristal de quartz SMD. Le procédé comprend : la fourniture d'un produit semi-fini de résonateur monolithique, le produit semi-fini de résonateur monolithique comprenant une base monolithique et un couvercle monolithique recouvrant la base monolithique; puis le découpage du couvercle monolithique sur le résonateur monolithique pour former des couvercles de base séparés, et la pulvérisation de couches de protection sur une surface supérieure et une section transversale de chaque couvercle de base. Le procédé de pulvérisation des couches de protection comprend : un processus de prétraitement et un processus de pulvérisation, le processus de prétraitement comprenant : le nettoyage, le lavage, la douche d'air et le séchage; et le processus de pulvérisation comprend : la pulvérisation d'un matériau de pulvérisation sur la surface supérieure et la section transversale de chaque couvercle de base du résonateur monolithique à l'aide d'un procédé de pulvérisation électrostatique pour former des revêtements, puis le durcissement des revêtements pour former les couches de protection sur la surface supérieure et la section transversale de chaque couvercle de base. La présente invention vise à améliorer la résistance à la brume de sel, et la résistance aux températures élevées et à l'humidité élevée du résonateur à cristal de quartz SMD dans un environnement rigoureux. La présente invention concerne en outre un résonateur préparé par le procédé susmentionné.
(ZH) 本发明涉及一种SMD石英晶体谐振器的加工方法,首先提供整板谐振器半成品,整板谐振器半成品包括基座整板及盖在基座整板上的盖板整板;然后切割整板谐振器上的盖板整板,形成单个基座盖板,再在各基座盖板上表面及切断面上喷涂保护层;喷涂保护层的方法为:前处理工艺和喷涂工艺,所述前处理工艺包括:清洗、冲洗、风淋和烘干;所述喷涂工艺包括:首先,采用静电喷涂工艺将喷涂材料喷涂在谐振器整板的各基座盖板的上表面及切断面上,形成涂层,然后,将涂层固化处理,在各基座盖板上表面及切断面处形成保护层;目的是提高SMD石英晶体谐振器在恶劣环境下的耐盐雾和耐高温高湿的特性,还涉及采用上述方法制备的谐振器。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)