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1. (WO2019025218) METHOD AND DEVICE FOR DETERMINING WAVEFRONT ABERRATIONS CAUSED BY A PROJECTION OBJECTIVE
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Pub. No.: WO/2019/025218 International Application No.: PCT/EP2018/069885
Publication Date: 07.02.2019 International Filing Date: 23.07.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G01M 11/02 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
M
TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
11
Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
02
Testing of optical properties
Applicants:
SCHELLHORN, Uwe [DE/DE]; DE (US)
MANGER, Matthias [DE/DE]; DE (US)
HETTICH, Carmen [DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
Inventors:
SCHELLHORN, Uwe; DE
MANGER, Matthias; DE
HETTICH, Carmen; DE
Agent:
FRANK, Hartmut; DE
Priority Data:
10 2017 213 107.131.07.2017DE
Title (EN) METHOD AND DEVICE FOR DETERMINING WAVEFRONT ABERRATIONS CAUSED BY A PROJECTION OBJECTIVE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE DÉTERMINATION D'ABERRATIONS DE FRONT D'ONDE PROVOQUÉES PAR UN OBJECTIF DE PROJECTION
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN VON DURCH EIN PROJEKTIONSOBJEKTIV VERURSACHTEN WELLENFRONTABERRATIONEN
Abstract:
(EN) The invention relates to a method and to a device for determining wavefront aberrations caused by a projection objective. A method according to the invention has the following steps: irradiating a reticle (130) with radiation, the reticle (130) having a plurality of structured regions, and a measurement beam emanating from at least some of these structured regions; projecting said measurement beams by means of a projection objective (120) onto a sensor assembly (140) located in the image plane of the projection objective (120); and measuring the radiation hitting the sensor assembly (140) in order to determine wavefront aberrations caused by the projection objective (120), wherein the stated steps are performed in a plurality of measurement positions, which differ from each other with respect to the relative position between the measurement system formed by the reticle (130) and by the sensor assembly (140) and the projection objective (120), and the reticle (130) and/or the sensor assembly (140) on the one hand and the projection objective (120) on the other hand are arranged with rotation relative to each other in at least some of said measurement positions, this rotation occurring within the image plane or a plane lying parallel to the image plane.
(FR) L'invention concerne un procédé et un dispositif de détermination d'aberrations de front d'onde provoquées par un objectif de projection. Le procédé selon l'invention comprend les étapes suivantes : irradiation d'un réticule (130) avec un rayonnement, le réticule (130) possédant une pluralité de zones structurées et un rayon de mesure émanant d'au moins certaines de ces zones structurées ; projection de ces rayons de mesure, avec un objectif de projection (120), sur un arrangement de capteurs (140) qui se trouve dans le plan d'image de l'objectif de projection ; et mesure du rayonnement incident sur l'arrangement de capteurs (140) en vue de déterminer les aberrations de front d'onde provoquées par l'objectif de projection (120). Lesdites étapes sont exécutées en une pluralité de positions de mesure qui se différencient les unes des autres du point de vue de la position relative entre le système de mesure formé par le réticule (130) et l'arrangement de capteurs (140) et l'objectif de projection (120). Dans au moins certaines de ces positions de mesure, le réticule (130) et/ou l'arrangement de capteurs (140) d'un côté et l'objectif de projection (120) de l'autre côté sont disposés de manière décalée en rotation l'un par rapport à l'autre, ce décalage en rotation s'effectuant à l'intérieur du plan d'image ou dans un plan parallèle au plan d'image.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Bestimmen von durch ein Projektionsobjektiv verursachten Wellenfrontaberrationen. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bestrahlen eines Retikels (130) mit Strahlung, wobei das Retikel (130) eine Mehrzahl von strukturierten Bereichen aufweist und wobei von wenigstens einigen dieser strukturierten Bereiche ein Messstrahl ausgeht, Projizieren dieser Messstrahlen, mit einem Projektionsobjektiv (120), auf eine in der Bildebene des Projektionsobjektivs befindliche Sensoranordnung (140), und Messen der auf die Sensoranordnung (140) auftreffenden Strahlung zum Bestimmen von durch das Projektionsobjektiv (120) verursachten Wellenfrontaberrationen, wobei die genannten Schritte in einer Mehrzahl von Messstellungen durchgeführt werden, welche sich hinsichtlich der Relativposition zwischen dem aus Retikel (130) und Sensoranordnung (140) gebildeten Messsystem und dem Projektionsobjektiv (120) voneinander unterscheiden, und wobei in wenigstens einigen dieser Messstellungen Retikel (130) und/oder Sensoranordnung (140) einerseits und Projektionsobjektiv (120) andererseits relativ zueinander verdreht angeordnet werden, wobei diese Verdrehung innerhalb der Bildebene oder einer parallel zur Bildebene liegenden Ebene erfolgt.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)