Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2019024857) SOLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2019/024857 International Application No.: PCT/CN2018/097897
Publication Date: 07.02.2019 International Filing Date: 01.08.2018
IPC:
A43B 13/12 (2006.01) ,A43B 13/18 (2006.01) ,A43B 13/14 (2006.01)
A HUMAN NECESSITIES
43
FOOTWEAR
B
CHARACTERISTIC FEATURES OF FOOTWEAR; PARTS OF FOOTWEAR
13
Soles; Sole and heel units
02
characterised by the material
12
Soles with several layers of different materials
A HUMAN NECESSITIES
43
FOOTWEAR
B
CHARACTERISTIC FEATURES OF FOOTWEAR; PARTS OF FOOTWEAR
13
Soles; Sole and heel units
14
characterised by the constructive form
18
Resilient soles
A HUMAN NECESSITIES
43
FOOTWEAR
B
CHARACTERISTIC FEATURES OF FOOTWEAR; PARTS OF FOOTWEAR
13
Soles; Sole and heel units
14
characterised by the constructive form
Applicants:
清远广硕技研服务有限公司 QINGYUAN GLOBAL TECHNOLOGY SERVICES LTD. [CN/CN]; 中国广东省清远市 清新区太和工业区 Taihe Industrial Zone, Qingxin County Qingyuan, Guangdong 511800, CN
Inventors:
陆一平 LUH, Yih– Ping; CN
Agent:
中国商标专利事务所有限公司 CHINA TRADEMARK & PATENT LAW OFFICE CO., LTD.; 中国北京市 西城区月坛南街14号月新大厦 14, Yuetan Nanjie, Yuexin Bldg., Xicheng District Beijing 100045, CN
Priority Data:
201710645674.001.08.2017CN
Title (EN) SOLE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) STRUCTURE DE SEMELLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE TELLE STRUCTURE DE SEMELLE
(ZH) 鞋底结构及其制作方法
Abstract:
(EN) The present invention provides a sole structure and a method for manufacturing same. The sole structure comprises a low-elasticity layer, a medium-elasticity layer, and a high elasticity layer. A body of the low-elasticity layer has a first surface and a second surface opposite to each other. The body is provided with multiple holes that run through the first surface and the second surface. The low-elasticity layer has an outer side wall surrounding the body and forms a recessed part. The medium-elasticity layer is disposed in the recessed part and attached to the first surface. The high-elasticity layer is disposed in the holes.
(FR) La présente invention a trait à une structure de semelle et à un procédé de fabrication d’une telle structure de semelle. La structure de semelle comprend une couche à faible élasticité, une couche à élasticité moyenne et une couche à élasticité élevée. Le corps de la couche à faible élasticité comprend une première surface et une seconde surface qui sont opposées l'une à l'autre. Le corps est doté de multiples trous qui s'étendent dans la première surface et la seconde surface. La couche à faible élasticité comporte une paroi latérale externe entourant le corps et forme une partie évidée. La couche à élasticité moyenne est disposée dans la partie évidée et fixée à la première surface. La couche à élasticité élevée est disposée dans les trous.
(ZH) 本发明提供一种鞋底结构及其制作方法,鞋底结构包含低弹性层、中弹性层以及高弹性层。低弹性层的本体具有相对的第一面及第二面。本体上形成多个孔洞贯穿第一面及第二面。低弹性层的外侧壁围绕本体并形成凹部。中弹性层设置于凹部中并贴附于第一面。高弹性层填充于孔洞中。
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)