Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2019024608) SUBSTRATE SUCTION APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2019/024608 International Application No.: PCT/CN2018/090919
Publication Date: 07.02.2019 International Filing Date: 13.06.2018
IPC:
B25J 15/06 (2006.01)
B PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
25
HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; HANDLES FOR HAND IMPLEMENTS; WORKSHOP EQUIPMENT; MANIPULATORS
J
MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
15
Gripping heads
06
with vacuum or magnetic holding means
Applicants:
南京协辰电子科技有限公司 JOINT STARS TECHNOLOGY CO, LTD [CN/CN]; 中国江苏省南京市 江宁经济技术开发区吉印大道3128号3幢 Building 3, No.3128, Jiyin Road, Jiangning District Nanjing, Jiangsu 211106, CN
Inventors:
杨海东 YANG, Haidong; CN
金二兵 JIN, Erbin; CN
Agent:
南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) NANJING RUIHONG PATENT & TRADEMARK AGENCY (ORDINARY PARTNERSHIP); 中国江苏省南京市 玄武区龙蟠路155号3幢411室 Room 411, Building 3, No.155 Long Pan Road, Xuanwu District Nanjing, Jiangsu 210000, CN
Priority Data:
201710647839.801.08.2017CN
Title (EN) SUBSTRATE SUCTION APPARATUS
(FR) APPAREIL D'ASPIRATION DE SUBSTRAT
(ZH) 一种基板吸附装置
Abstract:
(EN) Disclosed is a substrate suction apparatus comprising: a base plate (1), with a gas inlet (12) being provided on the base plate (1), one side of the gas inlet (12) being connected to a negative pressure source (9); and a face plate (3), the face plate (3) being provided on the other side of the gas inlet (12), with several through holes (32) being provided on the face plate (3). The substrate suction apparatus further comprises a gas stream uniform distribution apparatus comprising at least a flow diversion plate (2) provided between the base plate and the face plate, wherein the gas flow passage area of a region on the flow diversion plate (2) near the negative pressure source (9) is smaller than the gas flow passage area of a region on the flow diversion plate (2) away from the negative pressure source (9). In the substrate suction apparatus, the flow diversion plate (2) provided between the face plate and the base plate (1), and a gas flow passage area on the flow diversion plate (2) near the gas inlet (12) is smaller than the gas flow passage area on the flow diversion plate (2) away from the gas inlet (12), avoiding the situation of the suction pressure near the gas inlet (12) being greater than the suction pressure away from the gas inlet (12).
(FR) L'invention concerne un appareil d'aspiration de substrat, comprenant : une plaque de base (1), une entrée de gaz (12) étant disposée sur la plaque de base (1), un côté de l'entrée de gaz (12) étant relié à une source de pression négative (9) ; et une plaque de face (3), la plaque de face (3) étant disposée sur l'autre côté de l'entrée de gaz (12), plusieurs trous traversants (32) étant disposés sur la plaque de face (3). L'appareil d'aspiration de substrat comprend en outre un appareil de distribution uniforme de flux de gaz, comprenant au moins une plaque de déviation d'écoulement (2) disposée entre la plaque de base et la plaque de face, la zone de passage d'écoulement de gaz d'une région sur la plaque de déviation d'écoulement (2) à proximité de la source de pression négative (9) étant plus petite que la zone de passage d'écoulement de gaz d'une région sur la plaque de déviation d'écoulement (2) à l'opposé de la source de pression négative (9). Dans l'appareil d'aspiration de substrat, la plaque de déviation d'écoulement (2) est disposée entre la plaque de face et la plaque de base (1), et une zone de passage d'écoulement de gaz sur la plaque de déviation d'écoulement (2) à proximité de l'entrée de gaz (12) est plus petite que la zone de passage d'écoulement de gaz sur la plaque de déviation d'écoulement (2) à l'opposé de l'entrée de gaz (12), ce qui permet d'éviter la situation dans laquelle la pression d'aspiration à proximité de l'entrée de gaz (12) est supérieure à la pression d'aspiration à l'opposé de l'entrée de gaz (12).
(ZH) 一种基板吸附装置,其包括:底板(1),所述底板(1)上设置有进气口(12),所述进气口(12)的一侧连接负压源(9);面板(3),所述面板(3)设置在所述进气口(12)的另一侧,所述面板(3)上设置有若干通孔(32);还包括气流均布装置,所述气流均布装置至少包括设置于所述底板与所述面板之间的分流板(2),所述分流板(2)上靠近所述负压源(9)的区域上的气流通过面积小于所述分流板(2)上远离所述负压源(9)的区域上的气流通过面积。所述的基板吸附装置,通过在面板与底板(1)之间设置有分流板(2),分流板(2)上靠近进气口(12)处的气流通过面积小于远离进气口(12)处的气流通过面积,避免出现靠近进气口(12)处吸附压力大于远离进气口(12)处的吸附压力的情况。
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)