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1. (WO2019007899) METHOD FOR PRODUCING A STACK OF LAYERS, AND STACK OF LAYERS
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Pub. No.: WO/2019/007899 International Application No.: PCT/EP2018/067791
Publication Date: 10.01.2019 International Filing Date: 02.07.2018
IPC:
H01L 33/02 (2010.01) ,H01L 33/12 (2010.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
33
Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
02
characterised by the semiconductor bodies
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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characterised by the semiconductor bodies
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with a stress relaxation structure, e.g. buffer layer
Applicants:
OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH [DE/DE]; Leibnizstr. 4 93055 Regensburg, DE
Inventors:
KLEMP, Christoph; DE
Agent:
EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Schloßschmidstr. 5 80639 München, DE
Priority Data:
10 2017 115 252.007.07.2017DE
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING A STACK OF LAYERS, AND STACK OF LAYERS
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UN EMPILEMENT DE COUCHES ET EMPILEMENT DE COUCHES
(DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SCHICHTSTAPELS UND SCHICHTSTAPEL
Abstract:
(EN) The invention relates to a method for producing a stack of layers, comprising the following steps: a) a first layer (1) is formed with a first material compound on a substrate (9); b) an intermediate treatment is carried out on the substrate with the first layer; c) an additional layer is formed with a second material compound directly on the first layer at least in places, the first material compound and the second material compound being different from each other by a maximum of 5 wt. %; and d) a second layer (2) is applied directly to the additional layer at least in places. The invention further relates to a stack of layers.
(FR) L’invention concerne un procédé pour la production d’un empilement de couches, comprenant les étapes : a) de formation d’une première couche (1) comprenant une première composition de matières sur un substrat (9) ; b) la réalisation d’un traitement intermédiaire du substrat comprenant la première couche ; c) la formation d’une couche supplémentaire comprenant une deuxième composition de matières au moins par partiellement directement sur la première couche, la première composition de matières et la deuxième composition de matières se différenciant l’une de l’autre par au plus 5 pour cent en poids ; et d) la formation d’une deuxième couche (2) au moins partiellement directement sur la couche supplémentaire. L'invention concerne également un empilement de couches.
(DE) Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Schichtstapels angegeben, mit den Schritten: a) Ausbilden einer ersten Schicht (1) mit einer ersten Materialzusammensetzung auf einem Substrat (9); b) Durchführen einer Zwischenbearbeitung des Substrats mit der ersten Schicht; c) Ausbilden einer Zusatzschicht mit einer zweiten Materialzusammensetzung, wobei sich die erste Materialzusammensetzung und die zweite Materialzusammensetzung um höchstens 5 Gewichtsprozent voneinander unterscheiden, zumindest stellenweise unmittelbar auf der ersten Schicht; und d) Aufbringen einer zweiten Schicht (2) zumindest stellenweise unmittelbar auf die Zusatzschicht. Weiterhin wird ein Schichtstapel angegeben.
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African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)