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1. (WO2019005483) ION IMPLANT SYSTEM HAVING BEAM ANGLE CONTROL IN DRIFT AND DECELERATION MODES
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Pub. No.: WO/2019/005483 International Application No.: PCT/US2018/037300
Publication Date: 03.01.2019 International Filing Date: 13.06.2018
IPC:
H01J 37/317 (2006.01) ,H01J 37/244 (2006.01) ,H01J 37/05 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30
Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317
for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. ion implantation
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
244
Detectors; Associated components or circuits therefor
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02
Details
04
Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
05
Electron- or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy
Applicants:
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; ATTN: DENIS A. ROBITAILLE 108 Cherry Hill Drive Beverly, Massachusetts 01915, US
Inventors:
VANDERBERG, Bo; US
EISNER, Edward; US
Priority Data:
15/637,53829.06.2017US
Title (EN) ION IMPLANT SYSTEM HAVING BEAM ANGLE CONTROL IN DRIFT AND DECELERATION MODES
(FR) SYSTÈME D'IMPLANTATION IONIQUE PRÉSENTANT UNE COMMANDE D'ANGLE DE FAISCEAU DANS DES MODES DE DÉRIVE ET DE DÉCÉLÉRATION
Abstract:
(EN) An ion implantation system has an ion source forming an ion beam. An mass analyzer defines and varies a mass analyzed beam along a beam path. A moveable mass resolving aperture assembly has a resolving aperture whose position is selectively varied in response to the variation of the beam path by the mass analyzer. A deflecting deceleration element positioned selectively deflects the beam path and selectively decelerate the mass analyzed beam. A controller selectively operates the ion implantation system in both a drift mode and decel mode. The controller passes the mass analyzed beam along a first path through the resolving aperture without deflection or deceleration in the drift mode and deflects and decelerates the beam along a second path in the decel mode. The position of the resolving aperture is selectively varied based on the variation in the beam path through the mass analyzer and the deflecting deceleration element.
(FR) Un système d'implantation ionique présente une source d'ions formant un faisceau d'ions. Un analyseur de masse définit et fait varier un faisceau analysé en masse le long d'un trajet de faisceau. Un ensemble d'ouverture de résolution de masse mobile a une ouverture de résolution dont la position varie sélectivement en réponse à la variation du trajet du faisceau par l'analyseur de masse. Un élément de décélération de déviation positionné dévie de façon sélective le trajet du faisceau et décélère de manière sélective le faisceau analysé en masse. Un dispositif de commande actionne sélectivement le système d'implantation ionique à la fois dans un mode de dérive et dans un mode décel. Le dispositif de commande fait passer le faisceau analysé en masse le long d'un premier trajet à travers l'ouverture de résolution sans déviation ou décélération dans le mode de dérive et dévie et décélère le faisceau le long d'un second trajet dans le mode décel. La position de l'ouverture de résolution varie sélectivement sur la base de la variation du trajet de faisceau à travers l'analyseur de masse et l'élément de décélération de déviation.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)