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1. (WO2019003345) HIGH-FREQUENCY POWER SOURCE DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE USING SAME
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Pub. No.: WO/2019/003345 International Application No.: PCT/JP2017/023767
Publication Date: 03.01.2019 International Filing Date: 28.06.2017
IPC:
H05H 1/46 (2006.01)
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
H
PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY- CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
1
Generating plasma; Handling plasma
24
Generating plasma
46
using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Applicants:
株式会社日立国際電気 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 東京都港区西新橋二丁目15番12号 15-12, Nishi-shimbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1058039, JP
Inventors:
押田 善之 OSHIDA, Yoshiyuki; JP
藤本 直也 FUJIMOTO, Naoya; JP
加藤 規一 KATO, Norikazu; JP
岡田 健 OKADA, Takeshi; JP
竹田 剛 TAKEDA, Tsuyoshi; JP
Agent:
船津 暢宏 FUNATSU, Nobuhiro; JP
Priority Data:
Title (EN) HIGH-FREQUENCY POWER SOURCE DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE D'ÉNERGIE HAUTE FRÉQUENCE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA FAISANT APPEL À CELUI-CI
(JA) 高周波電源装置及びそれを用いたプラズマ処理装置
Abstract:
(EN) [Problem] To provide a high-frequency power source device that enables device size to be decreased and the cost reduced thereby while also improving power efficiency by performing a stable matching operation, and to provide a plasma processing device using said device. [Solution] This high-frequency power source device comprises a plurality of high-frequency power sources 61, 64 and matching units 62, 65, the matching units 62, 65 being provided with only variable-capacity capacitors connected in parallel, thereby reducing the number of elements in terms of the variable-capacity capacitors. A matching calculation section for the high-frequency power sources 61, 64 determines, on the basis of traveling waves and reflection waves detected by a detection circuit, the capacity values of the variable-capacity capacitors for the matching units 62, 65, while adjusting and determining the oscillation frequencies for oscillation circuits in the high-frequency power sources 61, 64 so as to decrease the level of the reflection waves. The plasma processing device uses this high-frequency power source device.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un dispositif de source d'énergie haute fréquence qui permet de réduire la taille du dispositif et de réduire le coût, tout en améliorant également l'efficacité énergétique en effectuant une opération de mise en correspondance stable, et de fournir un dispositif de traitement au plasma utilisant ledit dispositif. La solution selon l'invention porte sur un dispositif de source d'énergie haute fréquence qui comprend une pluralité de sources d'énergie haute fréquence 61, 64 et des unités de mise en correspondance 62, 65, les unités de mise en correspondance 62, 65 étant pourvues uniquement de condensateurs à capacité variable connectés en parallèle, ce qui permet de réduire le nombre d'éléments en termes de condensateurs à capacité variable. Une section de calcul de correspondance pour les sources d'énergie haute fréquence 61, 64 détermine, sur la base d'ondes progressives et d'ondes de réflexion détectées par un circuit de détection, les valeurs de capacité des condensateurs à capacité variable pour les unités de correspondance 62, 65, tout en ajustant et déterminant les fréquences d'oscillation pour des circuits d'oscillation dans les sources d'énergie haute fréquence 61, 64 de façon à diminuer le niveau des ondes de réflexion. Le dispositif de traitement au plasma utilise ce dispositif de source d'énergie haute fréquence.
(JA) 【課題】 装置を小型化してコストを低減すると共に、安定した整合動作を行って電力効率を向上させることができる高周波電源装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供する。 【解決手段】 複数の高周波電源61,64と整合器62,65とを備え、整合器62,65において、並列接続の可変容量コンデンサのみを設けて可変容量コンデンサの素子数を削減し、高周波電源61,64の整合演算部が、検出回路で検出された進行波と反射波に基づいて、反射波のレベルが小さくなるよう、整合器62,65の可変容量コンデンサの容量値を決定すると共に、高周波電源61,64の発振回路における発振周波数を調整して決定する高周波電源装置とそれを用いたプラズマ処理装置としている。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)