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1. (WO2019001877) METHOD OF DETERMINING A PERFORMANCE PARAMETER OF A PROCESS
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Pub. No.: WO/2019/001877 International Application No.: PCT/EP2018/064027
Publication Date: 03.01.2019 International Filing Date: 29.05.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
SANGUINETTI, Gonzalo, Roberto; NL
BOZKURT, Murat; NL
VAN DER SCHAAR, Maurits; NL
DEN BOEF, Arie, Jeffrey; NL
Agent:
BROEKEN, Petrus; NL
Priority Data:
17177953.126.06.2017EP
Title (EN) METHOD OF DETERMINING A PERFORMANCE PARAMETER OF A PROCESS
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION D'UN PARAMÈTRE DE PERFORMANCE D'UN PROCESSUS
Abstract:
(EN) Overlay error of a lithographic process is measured using a plurality of target structures, each target structure having a known overlay bias. A detection system captures a plurality of images (740) representing selected portions of radiation diffracted by the target structures under a plurality of different capture conditions (λ1, λ2). Pixel values of the captured images are combined (748) to obtain one or more synthesized images (750). A plurality of synthesized diffraction signals are extracted (744) from the synthesized image or images, and used to calculate a measurement of overlay. The computational burden is reduced compared with extracting diffraction signals from the captured images individually. The captured images may be dark-field images or pupil images, obtained using a scatterometer.
(FR) Selon la présente invention, une erreur de superposition d'un processus lithographique est mesurée à l'aide d'une pluralité de structures cibles, chaque structure cible ayant une polarisation de superposition connue. Un système de détection capture une pluralité d'images (740) représentant des parties sélectionnées de rayonnement diffracté par les structures cibles dans une pluralité de différentes conditions de capture (λ1, λ2). Des valeurs de pixel des images capturées sont combinées (748) pour obtenir une ou plusieurs images synthétisées (750). Une pluralité de signaux de diffraction synthétisés sont extraits (744) de l'image ou des images synthétisées, et utilisés pour calculer une mesure de superposition. La charge de calcul est réduite par rapport à l'extraction de signaux de diffraction des images capturées individuellement. Les images capturées peuvent être des images de fond noir ou des images de pupille, obtenues à l'aide d'un diffusiomètre.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)