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1. (WO2018235667) METHOD FOR PRODUCING RETARDATION SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
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Pub. No.: WO/2018/235667 International Application No.: PCT/JP2018/022290
Publication Date: 27.12.2018 International Filing Date: 12.06.2018
IPC:
G02B 5/30 (2006.01) ,G02F 1/13363 (2006.01)
G PHYSICS
02
OPTICS
B
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5
Optical elements other than lenses
30
Polarising elements
[IPC code unknown for ERROR IPC Code incorrect: invalid subgroup (0=>999999)!]
Applicants:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
Inventors:
村田 浩二 MURATA, Koji; --
坂井 彰 SAKAI, Akira; --
川平 雄一 KAWAHIRA, Yuichi; --
長谷川 雅浩 HASEGAWA, Masahiro; --
小出 貴子 KOIDE, Takako; --
中村 浩三 NAKAMURA, Kozo; --
箕浦 潔 MINOURA, Kiyoshi; --
Agent:
特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
Priority Data:
2017-11965319.06.2017JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING RETARDATION SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT DE RETARD ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 位相差基板の製造方法、及び、液晶表示装置の製造方法
Abstract:
(EN) The present invention provides a method for producing a retardation substrate, which is capable of producing a retardation substrate wherein the alignment properties of a reactive mesogen that constitutes a retardation film are improved. The present invention is a method for producing a retardation substrate wherein an alignment film and a retardation film are laminated on a substrate. This method for producing a retardation substrate comprises: a step for subjecting the alignment film to an alignment treatment; a step for forming an uncured film containing a reactive mesogen on the alignment film; and a step for forming the retardation film by irradiating the uncured film with polarized ultraviolet light so as to cause the reactive mesogen to undergo a curing reaction.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production d'un substrat de retard, qui est apte à produire un substrat de retard dans lequel les propriétés d'alignement d'un mésogène réactif qui constitue un film de retard sont améliorées. La présente invention concerne un procédé de production d'un substrat de retard dans lequel un film d'alignement et un film de retard sont stratifiés sur un substrat. Ce procédé de production d'un substrat de retard comprend : une étape consistant à soumettre le film d'alignement à un traitement d'alignement ; une étape consistant à former un film non durci contenant un mésogène réactif sur le film d'alignement ; et une étape consistant à former le film de retard par irradiation du film non durci par une lumière ultraviolette polarisée de façon à amener le mésogène réactif à subir une réaction de durcissement.
(JA) 本発明は、位相差膜を構成する反応性メソゲンの配向性が向上した位相差基板を製造できる位相差基板の製造方法を提供する。本発明は、基材上に配向膜及び位相差膜が積層された位相差基板の製造方法であって、上記配向膜を配向処理する工程と、上記配向膜上に、反応性メソゲンを含有する未硬化膜を形成する工程と、上記未硬化膜に、上記反応性メソゲンを硬化反応させる偏光紫外線を照射して上記位相差膜を形成する工程と、を含む位相差基板の製造方法である。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)