Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2018225650) ELASTIC WAVE FILTER DEVICE, MULTIPLEXER, AND COMPOUND FILTER DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/225650 International Application No.: PCT/JP2018/021208
Publication Date: 13.12.2018 International Filing Date: 01.06.2018
IPC:
H03H 9/145 (2006.01) ,H03H 9/64 (2006.01) ,H03H 9/72 (2006.01)
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
9
Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
02
Details
125
Driving means, e.g. electrodes, coils
145
for networks using surface acoustic waves
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
9
Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
46
Filters
64
using surface acoustic waves
H ELECTRICITY
03
BASIC ELECTRONIC CIRCUITRY
H
IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
9
Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
70
Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common or source
72
Networks using surface acoustic waves
Applicants:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
Inventors:
高田 俊明 TAKATA, Toshiaki; JP
Agent:
特許業務法人 宮▲崎▼・目次特許事務所 MIYAZAKI & METSUGI; 大阪府大阪市中央区常盤町1丁目3番8号 中央大通FNビル Chuo Odori FN Bldg., 3-8, Tokiwamachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400028, JP
Priority Data:
2017-11180406.06.2017JP
Title (EN) ELASTIC WAVE FILTER DEVICE, MULTIPLEXER, AND COMPOUND FILTER DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FILTRE À ONDES ÉLASTIQUES, MULTIPLEXEUR, ET DISPOSITIF DE FILTRE COMPOSITE
(JA) 弾性波フィルタ装置、マルチプレクサ及び複合フィルタ装置
Abstract:
(EN) Provided is an elastic wave filter device in which degradation of filter characteristics due to transverse mode ripple does not readily occur. An elastic wave filter device 1 provided with at least one series-arm resonator S1, S2 and parallel-arm resonator P1, P2. The series-arm resonator S1, S2 and the parallel-arm resonator P1, P2 comprise elastic wave resonators. An IDT electrode of at least one series-arm resonator S1, S2 is an apodized IDT electrode subjected to intersection width weighting. In an IDT electrode of the parallel-arm resonator P1, P2, an intersecting part has a central region and low-sound-velocity regions provided on both outer sides of the central region. The sound velocity of elastic waves in the low-sound-velocity regions is set so as to be lower than the sound velocity of elastic waves in the central region. High-sound-velocity regions in which the sound velocity of elastic waves is higher than that in the low-sound-velocity regions are provided on the outer side of the low-sound-velocity regions.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de filtre à ondes élastiques dans lequel la dégradation des caractéristiques de filtre due à une ondulation de mode transversal ne se produit pas facilement. Un dispositif de filtre à ondes élastiques comprend au moins un résonateur à bras en série (S1, S2) et un résonateur à bras parallèle (P1, P2). Le résonateur à bras en série (S1, S2) et le résonateur à bras parallèle (P1, P2) comprennent des résonateurs à ondes élastiques. Une électrode IDT d'au moins un résonateur à bras en série (S1, S2) est une électrode IDT apodisée soumise à une pondération de largeur d'intersection. Dans une électrode IDT du résonateur à bras parallèle (P1, P2), une partie d'intersection présente une région centrale et des régions à faible vitesse sonore disposées sur les deux côtés externes de la région centrale. La vitesse sonore des ondes élastiques dans les régions à faible vitesse sonore est définie de manière à être inférieure à la vitesse sonore des ondes élastiques dans la région centrale. Des régions à vitesse sonore élevée dans lesquelles la vitesse sonore des ondes élastiques est supérieure à celle des régions à faible vitesse sonore sont disposées sur le côté externe des régions à faible vitesse sonore.
(JA) 横モードリップルによるフィルタ特性の劣化が生じ難い、弾性波フィルタ装置を提供する。 少なくとも1つの直列腕共振子S1,S2及び並列腕共振子P1,P2とを備え、直列腕共振子S1,S2及び並列腕共振子P1,P2が弾性波共振子からなり、少なくとも1つの直列腕共振子S1,S2のIDT電極が、交差幅重み付けが施されたアポタイズ型IDT電極であり、並列腕共振子P1,P2のIDT電極では、交差部が、中央領域と、中央領域の両外側に設けられた低音速領域とを有し、低音速領域における弾性波の音速が、中央領域における弾性波の音速よりも低くされており、各低音速領域の外側に低音速領域よりも弾性波の音速が高い高音速領域が設けられている、弾性波フィルタ装置1。
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)