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1. (WO2018225598) FILM, METHOD FOR EVALUATING OPTICAL HOMOGENEITY OF FILM, AND FILM PRODUCTION METHOD
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Pub. No.: WO/2018/225598 International Application No.: PCT/JP2018/020703
Publication Date: 13.12.2018 International Filing Date: 30.05.2018
IPC:
C08J 5/18 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01) ,G01N 21/88 (2006.01) ,G01N 21/958 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
J
WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H142
5
Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
18
Manufacture of films or sheets
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
G
MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
73
Macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen or carbon, not provided for in groups C08G12/-C08G71/238
06
Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
10
Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
N
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21
Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible, or ultra-violet light
84
Systems specially adapted for particular applications
88
Investigating the presence of flaws, defects or contamination
G PHYSICS
01
MEASURING; TESTING
N
INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21
Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible, or ultra-violet light
84
Systems specially adapted for particular applications
88
Investigating the presence of flaws, defects or contamination
95
characterised by the material or shape of the object to be examined
958
Inspecting transparent materials
Applicants:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
Inventors:
野殿 光紀 NODONO, Mitsunori; JP
唐澤 真義 KARASAWA, Masayoshi; JP
岸田 明子 KISHIDA, Akiko; JP
牧寺 雅巳 MAKIDERA, Masami; JP
池内 淳一 IKEUCHI, Junichi; JP
Agent:
中山 亨 NAKAYAMA, Tohru; JP
坂元 徹 SAKAMOTO, Toru; JP
Priority Data:
2017-11096005.06.2017JP
2018-05501222.03.2018JP
Title (EN) FILM, METHOD FOR EVALUATING OPTICAL HOMOGENEITY OF FILM, AND FILM PRODUCTION METHOD
(FR) FILM, PROCÉDÉ D'ÉVALUATION DE L'HOMOGÉNÉITÉ OPTIQUE D'UN FILM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM
(JA) フィルム、フィルムの光学的均質性の評価方法及びフィルムの製造方法
Abstract:
(EN) Provided are: a film which is suitably used as an optical film in an image display device and has excellent optical homogeneity; and a method for producing the same. Also provided is an evaluation method with which it is possible to evaluate the optical homogeneity of a film more precisely than with conventional evaluation methods. This film is a cast film containing a resin having a weight-average molecular weight of 200,000 or more. In a film reciprocal space image obtained by Fourier transformation of a projection image obtained by a projection method using the film, line profiles in a direction h and a direction v which are perpendicular to each other are respectively referred to as line profile h and line profile v. In a background reciprocal space image obtained by Fourier transformation of a background image obtained by the projection method without using the film, line profiles in a direction h' and a direction v' which are perpendicular to each other are respectively referred to as line profile h' and line profile v'. The maximum intensity of a line profile (h-h') obtained by subtracting the line profile h' from the line profile h is referred to as Ymh, a value Xmax obtained by subtracting the median Xcen of all frequencies of a blank-corrected line profile from the frequency at which the maximum intensity Ymh is obtained is referred to as Xmh, the maximum intensity of a line profile (v-v') obtained by subtracting the line profile v' from the line profile v is referred to as Ymv, and a value Xmax obtained by subtracting the median Xcen of all frequencies of a blank-corrected line profile from the frequency at which the maximum intensity Ymv is obtained is referred to as Xmv. Both Ymh and Ymv are 30 or less and Ymh, Ymv, Xmh and Xmv satisfy a specific formula.
(FR) L'invention concerne un film qui est utilisé de façon appropriée comme film optique dans un dispositif d'affichage d'image et a une excellente homogénéité optique. L'invention concerne également un procédé de production associé. L'invention concerne en outre un procédé d'évaluation avec lequel il est possible d'évaluer l'homogénéité optique d'un film de manière plus précise qu'avec les procédés d'évaluation classiques. Il s'agit d'un film coulé contenant une résine ayant un poids moléculaire moyen en poids de 200 000 ou plus. Sur une image d'espace réciproque de film obtenue par transformation de Fourier d'une image de projection obtenue par un procédé de projection utilisant le film, on fait respectivement référence aux profils de ligne dans une direction h et une direction v, qui sont perpendiculaires l'une à l'autre, comme au profil de ligne h et le profil de ligne v. Sur une image d'espace réciproque d'arrière-plan obtenue par transformation de Fourier d'une image d'arrière-plan obtenue par le procédé de projection sans utiliser le film, on fait respectivement référence aux profils de ligne dans une direction h' et une direction v', qui sont perpendiculaires l'une à l'autre, comme au profil de ligne h' et au profil de ligne v'. On fait référence à l'intensité maximale d'un profil de ligne (h-h') obtenue par soustraction du profil de ligne h' au profil de ligne h comme à Ymh, on fait référence à une valeur Xmax obtenue par soustraction de la médiane Xcen de toutes les fréquences d'un profil de ligne corrigé en fonction des blancs à la fréquence à laquelle l'intensité maximale Ymh est obtenue comme à Xmh, on fait référence à l'intensité maximale d'un profil de ligne (v-v' ) obtenue par soustraction du profil de ligne v' au profil de ligne v comme à Ymv , et on fait référence à une valeur Xmax obtenue pas soustraction de la médiane Xcen de toutes les fréquences d'un profil de ligne corrigé en fonction des blancs à la fréquence à laquelle l'intensité maximale Ymv est obtenue comme à Xmv. À la fois Ymh et Ymv sont de 30 ou moins et Ymh, Ymv, Xmh et Xmv satisfont à une formule spécifique.
(JA) 画像表示装置における光学フィルムとして好適に使用される、優れた光学的均質性を有するフィルム及びその製造方法を提供する。また、従来の評価方法より高い精度でフィルムの光学的均質性を評価できる評価方法を提供する。 本発明のフィルムは、重量平均分子量が20万以上である樹脂を含むキャストフィルムであって、該フィルムを用いて投影法により得た投影画像をフーリエ変換して得たフィルム逆空間像において互いに直交する方向h及び方向vにおけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルh及びラインプロファイルvとし、該投影法において該フィルムを用いずに得た背景画像をフーリエ変換して得た背景逆空間像において互いに直交する方向h'及び方向v'におけるラインプロファイルをそれぞれラインプロファイルh'及びラインプロファイルv'とし、ラインプロファイルhからラインプロファイルh'を引いて得たラインプロファイル(h-h')の最大強度をYmhとし、最大強度Ymhを示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Xcenを引いた値であるXmaxをXmhとし、ラインプロファイルvからラインプロファイルv'を引いて得たラインプロファイル(v-v')の最大強度をYmvとし、最大強度Ymvを示す周波数からブランク補正されたラインプロファイルにおける全周波数の中央値Xcenを引いた値であるXmaxをXmvとすると、Ymh及びYmvはいずれも30以下であり、Ymh、Ymv、Xmh及びXmvは、特定の式を満たす。
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)