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1. (WO2018219870) PROJECTION EXPOSURE METHOD AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY
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Pub. No.: WO/2018/219870 International Application No.: PCT/EP2018/063942
Publication Date: 06.12.2018 International Filing Date: 28.05.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 13/22 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
G PHYSICS
02
OPTICS
B
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
13
Optical objectives specially designed for the purposes specified below
22
Telecentric objectives or lens systems
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors:
WOLF, Alexander; DE
Agent:
PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER MBB; Kronenstraße 30 70174 Stuttgart, DE
Priority Data:
10 2017 209 440.002.06.2017DE
Title (EN) PROJECTION EXPOSURE METHOD AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION ET APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE
Abstract:
(EN) In a projection exposure method for exposing a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask under the control of an operating control system of a projection exposure apparatus, part of the pattern lying in an illumination region is imaged onto the image field on the substrate with the aid of a projection lens, wherein all rays of the projection radiation contributing to the image generation in the image field form a projection beam path. The wave-front of the projection radiation is influenced by actuating a manipulator which has a manipulator surface arranged in the projection beam path and an actuating device for reversibly changing an optical effect of the manipulator surface. Manipulated value changes of the actuating device are determined by the operating control system on the basis of a control programme with a correction algorithm which optimizes a target function. The target function for at least one manipulator comprises a telecentricity sensitivity which describes a relationship between a defined manipulated value change at the manipulator and an effect achievable thereby on the telecentricity of the projection radiation in the image field.
(FR) Dans un procédé d'exposition par projection pour exposer un substrat sensible au rayonnement à au moins une image d'un motif d'un masque sous la commande d'un système de commande de fonctionnement d'un appareil d'exposition par projection, une partie du motif se trouvant dans une région d'éclairage est imagée sur le champ d'image sur le substrat à l'aide d'une lentille de projection, tous les rayons du rayonnement de projection contribuant à la production d'image dans le champ d'image formant un chemin de faisceau de projection. Le front d'onde du rayonnement de projection est influencé par l'actionnement d'un manipulateur qui présente une surface de manipulateur disposée dans le chemin de faisceau de projection et un dispositif d'actionnement pour modifier de manière réversible un effet optique de la surface de manipulateur. Des changements de valeurs manipulées du dispositif d'actionnement sont déterminés par le système de commande de fonctionnement sur la base d'un programme de commande avec un algorithme de correction qui optimise une fonction cible. La fonction cible pour au moins un manipulateur comprend une sensibilité de télécentricité qui décrit une relation entre un changement de valeur manipulée défini au niveau du manipulateur et un effet pouvant être ainsi obtenu sur la télécentricité du rayonnement de projection dans le champ d'image.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)