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1. (WO2018219746) DEVICE CONTAINING METAL OXIDE-CONTAINING LAYERS
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Pub. No.: WO/2018/219746 International Application No.: PCT/EP2018/063545
Publication Date: 06.12.2018 International Filing Date: 23.05.2018
IPC:
C23C 18/12 (2006.01) ,H01L 31/0352 (2006.01) ,B82Y 20/00 (2011.01) ,C09D 1/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
[IPC code unknown for C23C 18/12][IPC code unknown for H01L 31/0352][IPC code unknown for B82Y 20][IPC code unknown for C09D 1][IPC code unknown for H01L 51/50]
Applicants:
EVONIK DEGUSSA GMBH [DE/DE]; Rellinghauser Straße 1-11 45128 Essen, DE
Inventors:
STEIGER, Jürgen; DE
MERKULOV, Alexey; DE
ANSELMANN, Ralf; DE
RENNER, Gerhard; DE
Priority Data:
17173938.601.06.2017EP
Title (EN) DEVICE CONTAINING METAL OXIDE-CONTAINING LAYERS
(FR) DISPOSITIF CONTENANT DES COUCHES CONTENANT UN OXYDE MÉTALLIQUE
Abstract:
(EN) The present invention is directed to process for preparing a device comprising a first layer and a first electrode, the method comprising forming the first layer over a first electrode by applying a liquid anhydrous composition comprising at least one metal oxo alkoxide and at least one solvent, onto a surface, the surface being selected from the surface of the first electrode or the surface of a layer being located over the first electrode, optionally drying the composition, and converting the composition to a metal oxide-containing first layer, and forming a second electrode over the first device layer, wherein the method further includes forming a layer comprising quantum dots over the first electrode before or after the formation of the first layer and to the device itself.
(FR) La présente invention concerne un procédé de préparation d'un dispositif comprenant une première couche et une première électrode, le procédé comprenant la formation de la première couche sur une première électrode par l'application, sur une surface, d'une composition anhydre liquide comprenant au moins un alcoxyde métallique oxo et au moins un solvant, la surface étant choisie parmi la surface de la première électrode ou la surface d'une couche située sur la première électrode, éventuellement le séchage de la composition et la conversion de la composition en une première couche contenant un oxyde métallique, et la formation d'une seconde électrode sur la première couche de dispositif, le procédé comportant en outre la formation d'une couche comprenant des points quantiques sur la première électrode avant ou après la formation de la première couche. La présente invention concerne également le dispositif lui-même.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)