Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2018203988) METHOD AND APPARATUS FOR USING SUPERCRITICAL FLUIDS IN SEMICONDUCTOR APPLICATIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2018/203988 International Application No.: PCT/US2018/024263
Publication Date: 08.11.2018 International Filing Date: 26.03.2018
IPC:
H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/02][IPC code unknown for H01L 21/67]
Applicants:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors:
DELMAS, Jean; US
VERHAVERBEKE, Steven; US
Agent:
PATTERSON, B. Todd; US
VER STEEG, Steven H.; US
Priority Data:
15/586,20803.05.2017US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS FOR USING SUPERCRITICAL FLUIDS IN SEMICONDUCTOR APPLICATIONS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL D'UTILISATION DE FLUIDES SUPERCRITIQUES DANS DES APPLICATIONS À SEMI-CONDUCTEURS
Abstract:
(EN) A method and apparatus for processing a substrate is provided. A feed stream of carbon dioxide liquid is supplied under pressure from a feed supply to a purification vessel. The carbon dioxide liquid in the purification vessel is distilled to form a purified carbon dioxide gas in a single stage distillation process. The processing method includes condensing the purified carbon dioxide gas in the condenser by heat exchange with a refrigerant from a refrigeration system to form a purified carbon dioxide liquid. The purified carbon dioxide liquid is heated to a target temperature above a critical point to change the purified carbon dioxide liquid to a supercritical carbon dioxide fluid. The processing method includes using the supercritical carbon dioxide fluid to clean a substrate disposed in a processing chamber.
(FR) L'invention concerne un procédé et un appareil de traitement d'un substrat. Un flux d'alimentation de dioxyde de carbone liquide est fourni sous pression à partir d'un courant d'alimentation vers un récipient de purification. Le dioxyde de carbone liquide dans le récipient de purification est distillé pour former un gaz de dioxyde de carbone purifié dans un processus de distillation à étape unique. Le procédé de traitement comprend la condensation du dioxyde de carbone gazeux purifié dans le condenseur par échange de chaleur avec un fluide frigorigène provenant d'un système de réfrigération pour former un liquide de dioxyde de carbone purifié. Le liquide de dioxyde de carbone purifié est chauffé à une température cible au-dessus d'un point critique pour changer le dioxyde de carbone purifié liquide en un fluide de dioxyde de carbone supercritique. Le procédé de traitement comprend l'utilisation du fluide de dioxyde de carbone supercritique pour nettoyer un substrat disposé dans une chambre de traitement.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)