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1. (WO2018203936) REDUCED COULOMB INTERACTIONS IN A MULTI-BEAM COLUMN
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Pub. No.: WO/2018/203936 International Application No.: PCT/US2018/013425
Publication Date: 08.11.2018 International Filing Date: 12.01.2018
IPC:
H01J 37/317 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37
Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
30
Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
317
for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. ion implantation
Applicants:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Dept. One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventors:
BRODIE, Alan D.; US
Agent:
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M.N.; US
Priority Data:
15/587,72005.05.2017US
Title (EN) REDUCED COULOMB INTERACTIONS IN A MULTI-BEAM COLUMN
(FR) INTERACTIONS DE COULOMB RÉDUITES DANS UNE COLONNE À FAISCEAUX MULTIPLES
Abstract:
(EN) Performance of a multi-electron-beam system can be improved by reducing Coulomb effects in the illumination path of a multi-beam inspection system. A beam-limiting aperture with multiple holes can be positioned between an electron beam source and a multi-lens array, such as in a field-free region. The beam-limiting aperture is configured to reduce Coulomb interactions between the electron beam source and the multi-lens array. An electron beam system with the beam-limiting aperture can be used in a scanning electron microscope.
(FR) Selon la présente invention, la performance d'un système à faisceaux d'électrons multiples peut être améliorée par réduction des effets de Coulomb dans le trajet d'éclairage d'un système d'inspection à faisceaux multiples. Une ouverture de limitation de faisceau comprenant de multiples trous peut être placée entre une source de faisceaux d'électrons et un réseau multi-lentilles, par exemple dans une région sans champ. L'ouverture de limitation de faisceau est destinée à réduire les interactions de Coulomb entre la source de faisceaux d'électrons et le réseau multi-lentilles. Un système à faisceaux d'électrons comprenant l'ouverture de limitation de faisceau peut être utilisé dans un microscope électronique à balayage.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)