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1. (WO2018203464) COMPOSITION FOR FORMING FILM PROTECTING AGAINST AQUEOUS HYDROGEN PEROXIDE SOLUTION
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Pub. No.: WO/2018/203464 International Application No.: PCT/JP2018/015082
Publication Date: 08.11.2018 International Filing Date: 10.04.2018
IPC:
G03F 7/11 (2006.01) ,C08K 5/13 (2006.01) ,C08K 5/132 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004
Photosensitive materials
09
characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
11
having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
K
USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES AS COMPOUNDING INGREDIENTS
5
Use of organic ingredients
04
Oxygen-containing compounds
13
Phenols; Phenolates
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
K
USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES AS COMPOUNDING INGREDIENTS
5
Use of organic ingredients
04
Oxygen-containing compounds
13
Phenols; Phenolates
132
Phenols containing keto groups
C CHEMISTRY; METALLURGY
08
ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
L
COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
101
Compositions of unspecified macromolecular compounds
Applicants:
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
Inventors:
▲徳▼永 光 TOKUNAGA, Hikaru; JP
橋本 雄人 HASHIMOTO, Yuto; JP
橋本 圭祐 HASHIMOTO, Keisuke; JP
坂本 力丸 SAKAMOTO, Rikimaru; JP
Agent:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
Priority Data:
2017-09200702.05.2017JP
2017-23788612.12.2017JP
Title (EN) COMPOSITION FOR FORMING FILM PROTECTING AGAINST AQUEOUS HYDROGEN PEROXIDE SOLUTION
(FR) COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UN FILM PROTECTEUR CONTRE UNE SOLUTION AQUEUSE DE PEROXYDE D'HYDROGÈNE
(JA) 過酸化水素水溶液に対する保護膜形成組成物
Abstract:
(EN) [Problem] To provide a composition that forms a film that protects against an aqueous hydrogen peroxide solution. [Solution] A composition that forms a film that protects against an aqueous hydrogen peroxide solution, the protective film formation composition including: a resin; a compound represented by formula (1a), formula (1b), or formula (1c); a crosslinking agent; a crosslinking catalyst; and a solvent. Said composition contains, relative to the resin, a maximum of 80 mass% of the compound represented in formula (1a), formula (1b), or formula (1c), and 5-40 mass% of the crosslinking agent. (in the formulae: X represents a carbonyl group or a methylene group; l and m each independently represents an integer from 0 to 5 that satisfies the relational expression 3 ≤ l + m ≤ 10; n represents an integer from 2 to 5; u and v each independently represents an integer from 0 to 4 that satisfies the relational expression 3 ≤ u + v ≤ 8; R1, R2, R3, and R4 each independently represents a hydrogen atom, a hydroxy group, a C1-10 hydrocarbon group that may have at least one hydroxy group as a substituent and may have in the main chain at least one double bond, or a C6-20 aryl group that may have at least one hydroxy group as a substituent; when R1, R2, R3, and R4 represent C1-10 hydrocarbon groups, R1, R2, R3, and R4, together with the ring carbon atoms that they bond, may form benzene rings, and the benzene rings may have at least one hydroxy group as a substituent; and j and k each independently represents 0 or 1.)
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition qui forme un film qui protège contre une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène. La solution selon l'invention porte sur une composition qui forme un film qui protège contre une solution aqueuse de peroxyde d'hydrogène, la composition de formation de film protecteur comprenant : une résine ; un composé représenté par la formule (1a), la formule (1b), ou la formule (1c) ; un agent de réticulation ; un catalyseur de réticulation ; et un solvant. Ladite composition contient, par rapport à la résine, un maximum de 80 % en masse du composé représenté par la formule (1a), la formule (1b), ou la formule (1c), et de 5 à 40 % en masse de l'agent de réticulation. (Dans les formules : X représente un groupe carbonyle ou un groupe méthylène ; l et m représentent chacun indépendamment un nombre entier variant de 0 à 5 qui satisfait l'expression relationnelle 3 ≤ l + m ≤ 10 ; n représente un nombre entier variant de 2 à 5 ; u et v représentent chacun indépendamment un nombre entier variant de 0 à 4 qui satisfait l'expression relationnelle 3 ≤ u + v ≤ 8 ; R1, R2, R3, et R4 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe hydroxy, un groupe hydrocarboné en C1-10 qui peut avoir au moins un groupe hydroxy en tant que substituant et peut avoir dans la chaîne principale au moins une double liaison, ou un groupe aryle en C6-20 qui peut avoir au moins un groupe hydroxy en tant que substituant ; lorsque R1, R2, R3, et R4 représentent des groupes hydrocarbonés en C1-10, R1, R2, R3, et R4 conjointement avec les atomes de carbone cycliques qu'ils lient, peuvent former des cycles benzène, et les cycles benzène peuvent avoir au moins un groupe hydroxy en tant que substituant ; et j et k représentent chacun indépendamment 0 ou 1.)
(JA) 【課題】 過酸化水素水溶液に対する保護膜形成組成物を提供する。 【解決手段】 樹脂、下記式(1a)、式(1b)又は式(1c)で表される化合物、架橋剤、架橋触媒及び溶剤を含み、前記樹脂に対し、前記式(1a)、式(1b)又は式(1c)で表される化合物を80質量%を上限として含有し前記架橋剤を5質量%乃至40質量%含有する、過酸化水素水溶液に対する保護膜形成組成物。 (式中、Xはカルボニル基又はメチレン基を表し、l及びmはそれぞれ独立に3≦l+m≦10の関係式を満たす0乃至5の整数を表し、nは2乃至5の整数を表し、u及びvはそれぞれ独立に3≦u+v≦8の関係式を満たす0乃至4の整数を表し、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、置換基としてヒドロキシ基を少なくとも1つ有してもよく主鎖に二重結合を少なくとも1つ有してもよい炭素原子数1乃至10の炭化水素基、又は置換基としてヒドロキシ基を少なくとも1つ有してもよい炭素原子数6乃至20のアリール基を表し、R1、R2、R3及びR4が該炭素原子数1乃至10の炭化水素基を表す場合、R1及びR2、R3及びR4は、それらが結合する環炭素原子と一緒になって、ベンゼン環を形成してもよく、該ベンゼン環は置換基としてヒドロキシ基を少なくとも1つ有してもよく、j及びkはそれぞれ独立に0又は1を表す。)
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)